激光退火装置和激光退火设备制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种激光退火装置和激光退火设备。激光退火装置包括输出激光的激光装置以及将所述激光引导至退火室的光学装置，所述光学装置包括在激光传输光路上依次设置的准直机构、补偿机构和聚焦结构，所述补偿机构用于对激光的初始光斑剖面进行补偿，使初始光斑剖面形成标准对称形态。本发明专利技术通过在准直机构与聚焦结构之间设置补偿机构，补偿机构对激光的初始光斑剖面进行优化，使初始光斑剖面形成标准对称形态，消除了初始光斑剖面的变形和偏移，保证了激光光束能量分布的均匀性，而且可以延长激光窗的使用时间。

Laser annealing equipment and laser annealing equipment

【技术实现步骤摘要】
激光退火装置和激光退火设备
本专利技术涉及显示器制备
，具体涉及一种激光退火装置和激光退火设备。
技术介绍
近年来，显示技术得到快速发展，薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)技术由原来的非晶硅(a-Si)薄膜晶体管发展到低温多晶硅(LowTemperaturePoly-Silicon，LTPS)薄膜晶体管。目前，在LTPS实际生产中，通常采用准分子激光退火(ExcimerLaserAnnealing，ELA)工艺将非晶硅熔融转变为多晶硅。准分子激光退火过程中，对激光光束的初始光斑剖面(RawBeamProfile)有严格要求，以保证线光斑(LineBeam)的稳定性和能量分布均匀性。由于多晶硅的结晶效果很大程度上依赖激光的品质，当激光的线光斑的稳定性和能量分布不均匀时，会导致激光退火后基板出现不同程度的水印(Mura)问题，因此一旦初始光斑剖面不满足规格要求，则需要更换激光窗(TubeWindow)，甚至更换激光管(Tube)。由此可见，准分子激光退火工艺是一种工艺要求高、消耗性备件使用量大、生产成本高的工艺本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光退火装置，其特征在于，包括输出激光的激光装置以及将所述激光引导至退火室的光学装置，所述光学装置包括在激光传输光路上依次设置的准直机构、补偿机构和聚焦结构，所述补偿机构用于对激光的初始光斑剖面进行补偿，使初始光斑剖面形成标准对称形态。/n

【技术特征摘要】
1.一种激光退火装置，其特征在于，包括输出激光的激光装置以及将所述激光引导至退火室的光学装置，所述光学装置包括在激光传输光路上依次设置的准直机构、补偿机构和聚焦结构，所述补偿机构用于对激光的初始光斑剖面进行补偿，使初始光斑剖面形成标准对称形态。


2.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述补偿机构包括分束单元和翻转单元，其中，
所述分束单元，用于将来自所述准直机构的入射光束处理成第一光束和第二光束；还用于将所述第一光束和初始光斑剖面翻转后的第二光束拟合，向所述聚焦结构输出具有标准对称形态初始光斑剖面的光束；
所述翻转单元，用于将所述第二光束的初始光斑剖面翻转。


3.根据权利要求2所述的激光退火装置，其特征在于，所述分束单元包括分束器，所述分束器通过反射形成第一光束，通过透射形成第二光束。


4.根据权利要求3所述的激光退火装置，其特征在于，所述分束器的反射率为50％，所述分束器的透射率为50％。


5.根据权利要求2所述的激光退火装置，其特征在于，所述翻转单元包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：路兆里，赵东升，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11