处理基板的边缘光刻胶去除系统和方法技术方案

描述了一种用于处理基板(12)的边缘光刻胶去除系统(10)，其包括具有主体(22)和从主体(22)突出的两个臂(24)的边缘光刻胶去除头(20)。臂(24)彼此隔开，从而在它们之间限定了用于容纳待处理的基板(12)的接收空间(26)。突出臂(24)各自具有彼此面对的功能表面(36)，并且其中功能表面(36)各自包括至少一个流体出口(38)。此外，描述了一种处理基板(12)的方法。

Edge photoresist removal system and method for substrate treatment

【技术实现步骤摘要】
处理基板的边缘光刻胶去除系统和方法
本专利技术涉及一种用于处理基板的边缘光刻胶去除(edgebeadremoval)系统。此外，本专利技术涉及一种处理基板的方法。
技术介绍
本专利技术特别涉及借由光刻法生产微结构组件。微结构组件尤其是集成表面、半导体芯片或微机电系统(MEMS)。基板、也称为晶片，用于光刻工艺，其中基板涂覆有也称为抗蚀剂(resist)的光致抗蚀剂(photoresist)。随后借由掩模对涂覆的基板进行曝光，其中光致抗蚀剂的物理和/或化学特性由于曝光而部分改变。典型地，将光致抗蚀剂以层的形式施加在基板上，其中重要的是所施加的光致抗蚀剂层没有不规则或颗粒。因此，光致抗蚀剂尤其是在基板旋转期间施加，该过程也称为旋涂(spincoating)。这确保了所施加的光致抗蚀剂、即涂层，被尽可能均匀地分布在基板的表面上。然而，由于在旋涂期间基板的旋转，旋涂导致了在基板的上侧的边缘处的光致抗蚀剂材料的光刻胶(head)。实际上，当旋转基板时出现的离心力将施加在基板上的抗蚀剂材料径向向外推动，使得形成边缘光刻胶。迄今为止，要么使用用于溶剂分配的宏针(macroneedle)来去除涂层光刻胶，但是当晶片弯曲时这是不准确的。还已知的是，使用溶剂或气流，其被引导朝向基板，以便去除已经存在的边缘光刻胶，或者更确切地说去除光致抗蚀剂的多余材料，以防止在边缘上形成光刻胶。换句话说，溶剂或气流将避免光刻胶的出现和/或去除已经存在的光刻胶。已知的边缘光刻胶去除系统用于相应的涂布机模块中，其中将抗蚀剂材料施加在基板上，使得在边缘光刻胶去除过程期间务必考虑涂布机模块的几何限制。通常，该系统以及相应的过程对于待处理基板的弯曲变化高度敏感。
技术实现思路
因此，需要一种处理基板的边缘光刻胶去除系统以及方法，其允许更有效地去除边缘光刻胶。本专利技术提供一种用于处理基板的边缘光刻胶去除系统，该系统包括具有主体和从主体突出的两个臂的边缘光刻胶去除头，其中，所述臂彼此隔开，从而在它们之间限定了用于容纳待处理的基板的接收空间，其中，臂各自具有彼此面对的功能表面，并且其中功能表面各自包括至少一个流体出口。因此，边缘光刻胶去除系统使用单独形成的基本上为C形的边缘光刻胶去除头，这是因为边缘光刻胶去除头具有主体和从主体特别是从主体的同一侧突出的两个臂。因此，主体和两个臂一起形成用于待处理基板的接收空间，其中该接收空间仅向一侧开放以容纳待处理的基板。由于两个臂各自具有带有至少一个流体出口的功能表面，因此可以将流体流从相应的流体出口引导朝向接收空间和容纳在接收空间中的基板。因此，第一流体流可以被引导朝向基板的上表面，特别是在施加到基板的上表面上的光致抗蚀剂材料上。此外，第二流体流可以被引导朝向未涂覆有光致抗蚀剂材料的基板的下侧。然而，第二流体流可以被引导至待处理基板的边缘或沿着该待处理基板的边缘引导，以便在基板的上侧上生成负压或者更确切地说真空。由于所生成的负压或者更确切地说真空，因此已经存在的边缘光刻胶或者更确切地说形成边缘光刻胶的抗蚀剂材料被去除。这通常与喷射泵的原理相对应，根据该原理，借由从下侧向着上侧沿着基板的边缘流动的流体流，在基板的上侧上生成输送流。实际上，所生成的流体流吸引了多余的光致抗蚀剂材料，从而避免了边缘光束。换句话说，由于适当的流体流被引导在基板的下边缘处，即第二流体流，因此可以以简单的方式防止由于旋涂而造成的通常出现在基板的上侧的边缘上的光致抗蚀剂材料的光刻胶。根据一个方面，(每个功能表面的)至少一个流体出口分配给喷嘴。因此，由于喷嘴而可以改变流体流的速度。特别地，流体流的速度增加。此外，喷嘴可以确保了源自至少一个流体出口的流体流可以容易地被引导。实际上，每个功能表面可包括一个喷嘴、多个喷嘴、流出槽、所谓的气刀、刷子状流出单元或类似物，借由它们尤其实现了流体流的另一轮廓。对于非圆形基板，以正方形基板为例，这特别重要。根据另一方面，至少一个流体出口与嵌入在边缘光刻胶去除头中的氮气线连接。因此，可以通过(每个功能表面的)至少一个流体出口来分配氮气流或通常地气体流。换句话说，氮气被用于去除边缘光刻胶或者更确切地说是用于防止边缘光刻胶的存在，其中相应的气流被引导朝向待处理的基板。由与氮气线连接的至少一个流体出口提供的流体流可以不含溶剂。这确保了不再引入其他物质，这是因为边缘光刻胶去除系统的腔室可能通常充满氮气。该腔室在一定气氛中容纳边缘光刻胶去除头以及待处理的基板。实际上，氮气流用于以基本上机械或者更确切地说物理的方式去除多余的抗蚀剂材料。通常，氮气线可以连接到氮气源，其提供由至少一个流体出口使用的氮气。根据另一实施例，所述至少一个流体出口连接至嵌入在边缘光刻胶去除头中的溶剂线。因此，可以使用溶剂去除已经存在的边缘光刻胶、或者更确切地说防止边缘光刻胶的存在。可以将溶剂流直接引导到抗蚀剂材料上以直接去除抗蚀剂材料。因此，多余的抗蚀剂材料以基本上化学的方式被去除。对于相应的光致抗蚀剂材料，溶剂可以是丙酮或任何其他合适的溶剂。通常，溶剂线可以连接到溶剂源，其提供由至少一个流体出口所使用的溶剂。根据实施例，每个功能表面具有至少两个流体出口。因此，至少两个流体出口可以连接到氮气线以及溶剂线，使得两种流体流通常可以用于去除边缘光刻胶。实际上，边缘光刻胶去除系统的使用者可以选择用于去除边缘光刻胶的相应流体。此外，边缘光刻胶去除系统的控制单元可以以自动方式控制相应的氮气源或者更确切地说溶剂源。由于边缘光刻胶去除头的每个功能表面可以分别与溶剂线和氮气线连接，因此溶剂流和氮气流可以从其下侧以及其上侧引导朝向基板。因此，由于边缘光刻胶去除头的特定设计，因此就边缘光刻胶去除处理而言的灵活性最大化。一方面提供了至少一个流体出口相对于相应的功能表面倾斜。因此，分配给至少一个流体出口的流体流可以相对于功能表面以倾斜的方式引导朝向接收空间。因此，流体流的取向可以不同于垂直取向。这确保了即使流体流源自面对基板下侧的功能表面，也容易在基板的上侧上出现负压或者更确切地说真空。实际上，相应流体沿着边缘流动，以便在基板的上侧的边缘处吸引材料。此外，主体可以包括分配给接收空间的排出口，其中该排出口连接至真空源。因此，与排出口连接的真空可以抽吸在边缘光刻胶去除过程期间可能出现的任何材料或者更确切地说颗粒。这确保了从腔室中有效地去除任何杂质，使得基板的涂层、即施加在基板上的光致抗蚀剂材料，不会受到损害或污染。此外，边缘光刻胶去除头可以包括边缘传感器，该边缘传感器被配置为感测待处理的基板的边缘。因此，确保了在处理过程期间至少一个流体出口相对于基板边缘的距离保持稳定。为此目的，边缘传感器可以与边缘光刻胶去除系统的控制单元连接，使得可以适当地控制边缘光刻胶去除头的相对位置，从而确保在边缘光刻胶去除过程期间到边缘的距离是恒定的。实际上，边缘传感器被配置为感测基板的边缘与至少一个流体出口之间的相对水平距离。此外，可以提供传感器，该传感器被配置为感测功能表面和基板的对应侧(例如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于处理基板(12)的边缘光刻胶去除系统(10)，包括：/n边缘光刻胶去除头(20)，其具有主体(22)和从所述主体(22)突出的两个臂(24)，/n其中，所述臂(24)彼此隔开，以在它们之间限定了用于容纳待处理的基板(12)的接收空间(26)，/n其中，所述臂(24)各自具有彼此面对的功能表面(36)，并且/n其中，所述功能表面(36)各自包括至少一个流体出口(38)。/n

【技术特征摘要】
20180925 NL 20217011.一种用于处理基板(12)的边缘光刻胶去除系统(10)，包括：
边缘光刻胶去除头(20)，其具有主体(22)和从所述主体(22)突出的两个臂(24)，
其中，所述臂(24)彼此隔开，以在它们之间限定了用于容纳待处理的基板(12)的接收空间(26)，
其中，所述臂(24)各自具有彼此面对的功能表面(36)，并且
其中，所述功能表面(36)各自包括至少一个流体出口(38)。


2.根据权利要求1所述的边缘光刻胶去除系统(10)，其中，所述至少一个流体出口(38)被分配给喷嘴。


3.根据权利要求1或2所述的边缘光刻胶去除系统(10)，其中，所述至少一个流体出口(38)与嵌入在所述边缘光刻胶去除头(20)中的氮气线(42)连接。


4.根据前述权利要求中的任一项所述的边缘光刻胶去除系统(10)，其中，所述至少一个流体出口(38)与嵌入在所述边缘光刻胶去除头(20)中的溶剂线(46)连接。


5.根据前述权利要求中的任一项所述的边缘光刻胶去除系统(10)，其中，每个功能表面(36)具有至少两个流体出口(38)。


6.根据前述权利要求中任一项所述的边缘光刻胶去除系统(10)，其中，所述至少一个流体出口(38)相对于相应的功能表面(36)倾斜。


7.根据前述权利要求中任一项所述的边缘光刻胶去除系统(10)，其中，所述主体(22)包括分配给所述接收空间(26)的排出口(52)，其中，所述排出口(52)被连接到真空源(54)。


8.根据前述权利要求中任一项所述的边缘光刻胶去除系统(10)，其中，所述边缘光刻胶...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁多维奇·拉塔德，赖纳·泰格斯，
申请(专利权)人：苏斯微技术光刻有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE