一种光刻甩胶时固定薄片式目标物的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光刻甩胶时固定薄片式目标物的装置，包括圆盘本体，设置在圆盘上表面周围的置物槽，所述置物槽的中心设置有应力孔，圆盘本体旋转时，置物槽线速度最大的位置沿着圆盘本体直径方向开通导胶槽，所述导胶槽与所述应力孔连通，在与导胶槽垂直方向开通有应力槽，所述应力槽与所述应力孔相连通，在圆盘本体的外周面垂直于应力槽的方向开通有螺孔，且所述螺孔贯穿所述应力槽并与圆盘本体连通。该装置可以对薄片式目标物进行固定，而且开通的导胶槽能很好地使多余光刻胶甩掉，大大减轻了局部光刻胶堆积的现象。

A device for fixing sheet targets during photoresist rejection

【技术实现步骤摘要】
一种光刻甩胶时固定薄片式目标物的装置
本技术涉及光刻成形
，具体涉及一种适用于光刻甩胶时固定薄片式目标物的装置。
技术介绍
传统甩胶装置在对薄片式目标物固定时一般采用真空吸附的固定方法。此方法往往受到材质、贴合度、真空度、密封性、转速、一片脱落后漏气导致其他薄片式目标物脱落等问题的限制，从而大大降低了方法的使用范围和实用性。为了扩大装置的使用范围、加强装置的实用性，设计了一种采用机械固定法的甩胶装置。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术提供了一种光刻甩胶时固定薄片式目标物的装置，该装置克服了真空吸附固定方法受限于材质、贴合度、真空度、密封性、转速、一片脱落后漏气导致其他目标物脱落等问题的现象。为了解决上述问题，本技术提供了一种光刻甩胶时固定薄片式目标物的装置，包括圆盘本体，设置在圆盘上表面周围的置物槽，所述置物槽的中心设置有应力孔，圆盘本体旋转时，置物槽线速度最大的位置沿着圆盘本体直径方向开通导胶槽，所述导胶槽与所述应力孔连通，在与导胶槽垂直方向开通有应力槽，所述应力槽与所述应力孔相连通，在圆盘本体的外周面垂直于应力槽的方向开通有螺孔，且所述螺孔贯穿所述应力槽并与圆盘本体连通。进一步的技术方案为，所述圆盘本体底部加工有卡扣式套筒状连接口。进一步的技术方案为，所述应力槽和应力孔贯穿所述圆盘本体的底部。进一步的技术方案为，所述置物槽的深度低于所述薄片式目标物的厚度。进一步的技术方案为，所述置物槽的设置数量及分布情况可以根据使用需求等实际情况灵活确定。<br>与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：本装置的设计克服了真空吸附固定方法受限于材质、贴合度、真空度、密封性、转速、一片脱落后漏气导致其他目标物脱落等问题的现象。通过调整应力孔的大小与应力槽的位置、宽窄、长短及螺钉孔的位置、大小等可以产生不同大小的、均匀的机械挤压力，可以对不同材质、形状、大小、薄厚的薄片式目标物进行固定。而且开通的导胶槽能很好地使多余光刻胶甩掉，大大减轻了局部光刻胶堆积的现象。附图说明图1为本技术装置的整体结构示意图；图2为本技术装置的俯视图；其中，1-圆盘本体，2-置物槽，3-应力孔，4-导胶槽，5-应力槽，6-螺孔，7-卡扣式套筒状连接口。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本技术进行进一步的解释和说明。实施例1如图1所示，该装置包括一个圆盘本体1，在圆盘本体表面加工出可以放置薄片式目标物的置物槽2，并使得目标物表面最终不需要留存膜层的位置朝向装置外沿，以便防止甩胶后产生光刻胶堆积现象而影响后续曝光等工艺流程。然后要让目标物覆盖光刻胶的表面高出装置表面，即置物槽2的深度低于所述薄片式目标物的厚度，避免甩胶后局部有较严重的光刻胶堆积现象产生。在圆盘旋转时，置物槽2线速度最大的位置沿着圆盘本体直径方向开通适量导胶槽4，使多余光刻胶能顺利甩掉，尽量减轻光刻胶堆积现象。最后在圆盘本体1的外周面垂直于置物槽2方向的适当位置开通一条适当宽度的应力槽5，应力槽5起码要开通到放置薄片式目标物的置物槽2内，在置物槽2中心位置钻一个适当大小的应力孔3并与应力槽2和导胶槽4连通。在应力槽5和应力槽5内部对应装置位置钻好螺钉孔6，加上螺钉。通过拧紧螺钉使得应力槽5变窄、应力孔3变小，从而导致置物槽2对薄片式目标物产生均匀地机械挤压达到对薄片式目标物固定的作用。圆盘底部是与匀胶机转动轴相连接的卡扣式套筒状连接口7。置物槽2的设置数量及分布情况可以根据使用需求等实际情况灵活确定。通过调整应力孔3的大小与应力槽5的位置、宽窄、长短及螺钉孔的位置、大小等可以产生不同大小的、均匀的机械挤压力，可以对不同材质、形状、大小、薄厚的薄片式目标物进行固定。而且开通的导胶槽4能很好地使多余光刻胶甩掉，大大减轻了局部光刻胶堆积的现象。尽管这里参照本技术的解释性实施例对本专利技术进行了描述，上述实施例仅为本技术较佳的实施方式，本技术的实施方式并不受上述实施例的限制，应该理解，本领域技术人员可以设计出很多其他的修改和实施方式，这些修改和实施方式将落在本申请公开的原则范围和精神之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻甩胶时固定薄片式目标物的装置，其特征在于，包括圆盘本体，设置在圆盘上表面周围的置物槽，所述置物槽的中心设置有应力孔，圆盘本体旋转时，置物槽线速度最大的位置沿着圆盘本体直径方向开通导胶槽，所述导胶槽与所述应力孔连通，在与导胶槽垂直方向开通有应力槽，所述应力槽与所述应力孔相连通，在圆盘本体的外周面垂直于应力槽的方向开通有螺孔，且所述螺孔贯穿所述应力槽并与圆盘本体连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻甩胶时固定薄片式目标物的装置，其特征在于，包括圆盘本体，设置在圆盘上表面周围的置物槽，所述置物槽的中心设置有应力孔，圆盘本体旋转时，置物槽线速度最大的位置沿着圆盘本体直径方向开通导胶槽，所述导胶槽与所述应力孔连通，在与导胶槽垂直方向开通有应力槽，所述应力槽与所述应力孔相连通，在圆盘本体的外周面垂直于应力槽的方向开通有螺孔，且所述螺孔贯穿所述应力槽并与圆盘本体连通。

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【专利技术属性】
技术研发人员：姚伟，桑建周，吕恒恒，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院化工材料研究所，
类型：新型
国别省市：四川;51