压模复制设备和生产该复制设备的保持装置及压模的方法制造方法及图纸

一种生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备(10)，其包括平台(14)、可定位在平台(14)上的盖(12)以及用于压模载体(28)的保持装置(32)，其中，保持装置(32)设置在盖(12)或平台(14)上并且包括载体(33)以及在载体(33)上的用于保持压模载体(28)的微米结构化真空表面(34)。此外，指定了一种生产用于压模复制设备(10)的保持装置(32)的方法以及一种用于生产压模的方法。

【技术实现步骤摘要】
压模复制设备和生产该复制设备的保持装置及压模的方法
本专利技术涉及一种生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备和一种用于生产用于复制设备的保持装置的方法以及一种用于生产用于复制设备的压模的方法。
技术介绍
在用于复制设备的压模的生产中，液体或粘性压模材料通常被填充到压模复制设备中，借助于模制部件而赋予期望的形状，并被固化。固化可以通过例如加热压模复制设备来实现。为此，加热的水被引导穿过压模复制设备的盖中的通道。压模必须保持在压模复制设备中，直到其完全固化，这可能花费几天到一周。因此，有必要同时使用多个压模复制设备以便以足够的量来生产压模。因此，会带来高的购置成本并且还增加了空间要求。然而，对于新压模的需求相对较高，因为用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模具有相对小的使用寿命，并且仅可以利用它们执行大约十到一百个冲压过程。这就是为什么希望减少压模生产中的循环时间。固化压模的另一种方法是借助于暴露于光，特别是暴露于UV光来进行固化。通过暴露于光比通过加热可以迅速得多地实现固化。然而，在使用这种方法的压模生产的情况下，不能保持期望的质量。液体压模材料就被放置在压模载体上并在固化期间与其结合。例如，完全固化的压模的压模载体在生产期间借助于真空来至少暂时地被保持。为此目的，真空通道从压模载体处引导，并且至少部分地沿着压模载体的表面延行。问题是光在真空通道上被散射和反射与在光滑的抛光表面上不同。这不利地影响压模材料中的照射的均匀性，并且导致过程差异。在本内容中，这被称为阴影效应(shadoweffect)。
技术实现思路
因此，本专利技术的一个目的是提供一种能够在短时间内生产具有一致的高质量的压模的压模复制设备。此外，本专利技术的目的是指定一种生产用于压模复制设备的保持装置的方法以及一种用于生产压模的方法。该目的根据本专利技术借助于生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备来解决，所述压模复制设备包括平台、可放置在该平台上的盖以及用于压模载体的保持装置，其中，保持装置设置在盖上或平台上并且包括载体以及载体上的用于保持压模载体的微米结构化真空表面。在本专利技术的范围内，术语“微米结构化”被理解为意味着结构的尺寸或不均匀度在微米范围内或以下。包括微米结构化真空表面的保持器的优点是，真空结构如此小以至于它们在压模的生产中不被复制并且因此没有阴影效应。根据本专利技术的压模复制设备因此能够通过在不损害所产生的压模的质量的情况下暴露于光而使压模固化。压模的生产中的过程时间可以通过利用暴露于光而特别短暂，这有利地影响了压模的生产成本。压模复制设备的盖优选地至少部分地对光(特别是UV光)是透明的，以便在压模复制设备中允许压模暴露于光。替代地或附加地，平台在一些区域中也可以是至少透明的。包括微米结构化真空表面的载体还可以集成到盖中，特别是与盖一起形成为单件。换句话说，真空表面可以直接集成到盖中。特别地，将待生产的压模的形式表示为阴性的模制部件可保持在盖上或平台上，并且保持装置被设置在盖和平台中的另一个上。如果盖位于平台上，那么微米结构化真空表面优选地面向模制部件。在该状态下，例如，模具被形成，压模可以在模具中被模制。盖优选地借助于铰接件可枢转地安装，使得盖可以通过枢转而放置在平台上。压模载体可以是薄膜、玻璃板等。在生产期间，模制材料(由其模制压模)被分配在压模载体上。还可以提供真空槽来保持模制部件。然而，这些真空槽不必被微米结构化。通常，与在盖上相比，模制部件更可能位于平台上，因为液体压模材料在那里被施加。随着盖在闭合压模复制设备时枢转，液体压模材料就可以从压模复制设备中流出。根据实施例，微米结构化真空表面的单独结构具有不大于50μm的特征尺寸。最大特征尺寸是基于例如单独结构的深度和/或宽度。可以用这样的特征尺寸实现特别好的照射均匀性。微米结构化真空表面可以包括统计结构(statisticalstructuring)。统计结构例如通过喷砂、砂光、研磨或蚀刻来生产。这意味着统计结构具有随机结构。这样的统计结构表面也被称为表面漫射器。这种结构可以特别简单且经济地生产。替代地或附加地，微米结构化真空表面可以包括在保持装置的表面上延伸的微真空通道。微真空通道具有超过统计结构的优点，因为单独结构可以被特别精确地确定尺寸。特别地，在微真空通道中仅存在小的厚度和深度上的差异。另一个优点是微米结构化真空表面的表面在外部上、由此在单独的微通道之间不受结构影响，并且是特别光滑的。微真空通道可以由例如光刻、诸如湿法蚀刻的移除方法，通过激光或通过微研磨来生产。这样的方法有助于特别精确的结构。优选地，微真空通道的深度和/或宽度小于50μm，特别地小于10μm。在这样的通道尺寸的情况下，可以生产具有特别高质量的压模。根据实施例，在俯视图中看微真空通道在保持装置上径向延行。替代地或附加地，微真空通道可以是环形通道，特别是用于连接直的微真空通道的环形通道。替代地，在俯视图中看微真空通道可以在保持装置上以格栅形状延行。为此，微真空通道优选地在两个方向上均匀地延行。彼此交叉的微真空通道可以彼此正交地延行或彼此成锐角延行。借助于径向地、环形地或以格栅形状延行的微真空通道，真空可以特别均匀地施加在压模载体上。根据实施例，微真空通道以规则间隔设置，其中，连接部(web)被设置在每两个微真空通道之间，特别地其中，作为所述微真空通道之一和相邻连接部的宽度的微米结构化真空表面的节距小于或等于50μm，优选地小于或等于10μm。在每种情况下，通道与相邻连接部一起形成了微米结构的单独结构，其共同宽度被称为“节距”。借助于这种特征尺寸实现了特别好的照明均匀性。微真空通道的宽度优选是节距的最大90％，尤其恰好是节距的90％。微真空通道的尽可能宽的宽度对于施加到压模载体的真空的保持力来说是有利的。高达最大90％的宽度确保了借助于连接部对单独微真空通道相对于彼此的可靠界定。微真空通道的深度例如不大于微真空通道的宽度的十倍。以这种方式，可以沿着微米结构化真空表面均匀地生成真空，使得压模载体可以被可靠地支撑。保持装置可以包括可见真空通道，其中真空表面，特别是微真空通道，流体连接到真空通道，特别是其中真空通道完全围绕微米结构化真空表面。以这种方式，可以经由可见真空通道在微米结构化真空表面上生成真空。为此目的，可见真空通道可以连接到真空源。替代地，可见真空通道还可以选择性地供应微米结构化真空表面。在本专利技术的范围内，“可见”通道被理解为意指具有微米范围或以上结构的通道。压模复制设备的盖至少具有例如用于施加真空的流体连接部，特别地其中可见真空通道在盖中从流体连接部延伸到保持器。根据实施例，压模复制设备包括用于调节盖与平台之间的间距的间距调节设备以及用于测量盖与平台之间的间距的测量设备，其中间距调节设备和测量设备彼此分开设置。因此，间距的调节和间距的测量本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备(10)，所述压模复制设备包括平台(14)、能够定位在所述平台(14)上的盖(12)以及用于压模载体(28)的保持装置(32)，/n其中，所述保持装置(32)设置在所述盖(12)上或所述平台(14)上，并且包括载体(33以及位于所述载体(33)上用于保持所述压模载体(28)的微米结构化真空表面(34)。/n

【技术特征摘要】
20190509 NL 20230971.一种生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备(10)，所述压模复制设备包括平台(14)、能够定位在所述平台(14)上的盖(12)以及用于压模载体(28)的保持装置(32)，
其中，所述保持装置(32)设置在所述盖(12)上或所述平台(14)上，并且包括载体(33以及位于所述载体(33)上用于保持所述压模载体(28)的微米结构化真空表面(34)。


2.根据权利要求1所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微米结构化真空表面(34)的单独结构具有不大于50μm的特征尺寸。


3.根据权利要求1或2所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微米结构化真空表面(34)包括统计结构。


4.根据前述权利要求中任一项所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微米结构化真空表面(34)包括在所述保持装置(32)的表面上延伸的微真空通道(46)。


5.根据权利要求4所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微真空通道(46)的深度(t)和/或宽度(b)各都小于50μm，特别地小于10μm。


6.根据权利要求4或5所述的压模复制设备(10)，其特征在于，在俯视图中看所述微真空通道(46)在所述保持装置(32)上径向延行。


7.根据权利要求4或5所述的压模复制设备(10)，其特征在于，在俯视图中看所述微真空通道(46)在所述保持装置(32)上以格栅形状延行。


8.根据权利要求4或6所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微真空通道(46)以规则间隔设置，其中，在每两个微真空通道(46)之间设置有连接部(50)，特别是其中，作为所述微真空通道(46)之一和相邻连接部(50)的宽度(b)的微米结构化真空表面(34)的节距(p)小于或等于50μm，优选地小于或等于10μm。


9.根据权利要求7所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微真空通道(46)的宽度(b)是所述节距(p)的最大90％。


10.根据权利要求4和8所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微真空通道(46)的深度(t)不大于所述微真空通道(46)的宽度(b)的十倍。


11.根据前述权利要求中任一项所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述保持装置(32)包括可见真空通道(46)，其中所述真空表面(34)，特别是所述微真空通道(46)流体连接到所述真空通道(40)，特别地其中，所述真空通道(40...

【专利技术属性】
技术研发人员：乌维·福格勒，富宾恩·帕利茨克，格奥尔格·芬克，克里斯蒂安·梅，加扎尔·杰拉里，
申请(专利权)人：苏斯微技术光刻有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE