固定系统、支撑板及用于其生产的方法技术方案

公开了一种用于固定柔性基板(16)的固定系统(10)，其包括处理装置(12)和与处理装置(12)分离的支撑板(14)。处理装置(12)包括具有真空开口(20)的支承表面(18)。支撑板(14)包括用于支撑基板(16)的支撑表面(26)和与处理装置(12)的支承表面(18)接触的连接表面(24)。支撑板(14)包括从支撑表面(26)延伸到连接表面(24)的通孔(28)，其中，通孔(28)中的至少一个流体连接到处理装置(12)的真空开口(20)中的一个。此外还公开了一种用于固定系统(10)的支撑板(14)以及用于生产支撑板(14)的方法。

Fixing system, support plate and method for its production

【技术实现步骤摘要】
固定系统、支撑板及用于其生产的方法
本专利技术涉及一种用于固定柔性基板的固定系统、用于固定系统的支撑板以及用于生产支撑板的方法。
技术介绍
半导体加工机器(比如掩模对准器或端部执行器)使用真空保持器(例如吸盘)来向基板施加真空，以便保持它们以用于进一步加工。例如，掩模对准器使用真空保持器来定位基板(比如晶片)并使用掩模以用于随后暴露基板。真空保持器通常被设计用于刚性基板，即在重力的作用下基本上不弯曲的基板。因此，真空保持器通常小于待保持的基板和/或仅在基板的中心区域中施加真空。当加工柔性基板(比如箔片或薄晶片)时，这可能导致基板的弯曲、基板材料上的相当大的应力和/或真空保持器的表面结构在基板上的压印。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提供一种能够保持柔性基板而没有上述缺点的固定系统。根据本专利技术，通过用于固定柔性基板的固定系统来解决该问题，该固定系统包括处理装置和与该处理装置分离的支撑板。该处理装置包括具有真空开口的支承表面。支撑板包括用于支撑基板的支撑表面和与处理装置的支承表面接触的连接表面。支撑板包括从支撑表面延伸到连接表面的通孔，其中，通孔中的至少一个流体地连接到处理装置的真空开口中的一个。为了固定柔性基板，柔性基板被定位在支撑板的支撑表面上，并且真空被施加至支承表面的真空开口。真空穿过支撑板的通孔并施加到基板上，基板从而被安全地固定在支撑表面上。贯穿下文，表达“施加真空”表示流体从对应的区域中排出。例如，向真空开口施加真空意味着流体(例如空气或液体)从由真空开口限定的区域中排出。这对应于在相应区域中建立低于固定系统的环境中的参考压力的压力。分离的支撑板被构造为刚性的，并且因此支撑柔性基板，特别是在柔性基板的整个区域上。因此，基板的弯曲、基板材料上的应力和压印影响都被有效地减少、甚至完全地避免了，同时柔性基板被固定以用于进一步加工。支撑板被构造为附接至处理装置的附接部。为了处理不同种类和尺寸的基板，支撑板可以简单地用适用于特定基板和/或基板尺寸的另一支撑板替换。因此，对于多种不同的基板和基板尺寸，可以使用同一处理装置。优选地，支撑板的面积大于待固定的基板的面积，使得支撑板在其整个面积上完全支撑柔性基板。支撑板可以形成为盘或可以具有任意形式。特别地，支撑板的形状可以适用于匹配待固定的基板的特定形式。在本专利技术的一具体实施例中，支撑板包括支撑表面中的真空槽，每个真空槽都流体地连接至至少一个通孔。经由真空槽，真空被分布到柔性基板的较大面积上，使得真空被更均匀地施加到柔性基板上。因此，由于施加的真空而作用在柔性基板上的力也更均匀地分布。因此，减少或甚至完全避免了基板材料上的应力和与不均匀压力分布相关的压印影响。根据本专利技术的一方面，真空槽在支撑板的方位角方向上从支撑板的中心点径向向外和/或沿着与基板的轮廓类似的轮廓延伸。术语“类似”表示真空槽中的至少一个可以与柔性基板的至少部分轮廓相似。特别地，由真空槽中的至少一个限定的轮廓可以在数学意义上类似于(更具体地在尺寸上相等或缩放)柔性基板的轮廓。优选地，至少一个真空槽沿着至少分段地类似于柔性基板的外圆周的曲线延伸，使得基板在其边缘或多个边缘处被安全地固定。根据本专利技术的另一方面，支撑板包括对准结构，特别是包括雕刻部、凹口和/或对准标记的对准结构。对准结构允许柔性基板在支撑表面上的精确定位和/或支撑板在处理装置上的精确定位。处理装置和/或支撑板可以是至少部分半透明的。特别地，支撑板在分配给包括在处理装置中的窗口的区域中可以是半透明的。这能够背侧对准柔性基板，并且因此将柔性基板特别准确地定位在支撑板上和/或将支撑板特别准确地定位在处理装置上。在本专利技术的另一实施例中，支撑板至少部分地由可光结构化玻璃构成。特别地，真空槽和/或通孔是通过暴露并随后蚀刻该可光结构化玻璃而生产的。这种生产过程实现了槽和通孔的特别高的准确度。此外，其实现了所产生的真空槽和通孔的特别高的纵横比(结构的深度除以其宽度)。替代地，支撑板可以由其它类型的玻璃或金属构成。根据本专利技术的另一方面，支撑板包括在连接表面中的真空槽，每个真空槽都流体连接至至少一个通孔，特别地，设置在连接表面中的真空槽的宽度和/或长度大于设置在支撑表面中的真空槽的宽度和/或长度。设置在连接表面中的真空槽定位在真空开口上方，使得通孔经由真空槽流体连接至真空开口。由于这些真空槽在连接表面中设置成具有更大的宽度和/或长度，所以补偿了支撑表面的定位误差和/或尺寸公差，因为通孔不必完全定位在真空开口上方。通孔和/或真空槽可以具有大于2.5，优选大于5，特别地大于10的纵横比。换句话说，真空槽和/或通孔非常窄，这有效地防止了柔性基板局部变形到由真空槽和/或通孔限定的凹陷中。根据本专利技术的另一方面，通孔中的至少两个在连接表面上和/或支撑表面上流体分离。换句话说，所述至少两个通孔在连接表面上和/或在支撑表面上不互连。因此，例如，预限定强度的真空可以被施加到所述至少两个通孔中的每一个，其中，真空的强度可以在所述至少两个通孔之间改变，使得可以将不同的预限定力施加到柔性基板的不同区域。特别地，所有通孔在连接表面上和/或在支撑表面上都是流体地分离的。因此，例如，预限定强度的真空可以施加到通孔中的每一个上，其中，真空的强度可以在通孔之间改变，使得可以将不同的预限定力施加到柔性基板的不同区域。根据本专利技术的另一方面，支撑板包括至少十个通孔，特别是至少20个通孔。大量的通孔允许真空槽自身覆盖较小的表面，从而进一步减小弯曲或压印影响。支撑板可以包括在支撑表面上的接收部段。接收部段被构造为接收柔性基板。因此，接收部段可以与基板的形状相似。特别地，接收部段具有比支撑板小的总面积。因此，基板被放置在支撑板的子区域上并且因此被完全支撑。例如，通孔设置在接收部段中。因此，通孔集中在支撑板的实际上用于固定柔性基板的子区域中。特别地，处理装置是吸盘和/或端部执行器。例如，支撑板被相应地构造为附接至吸盘和/或端部执行器的附接部。为了处理不同种类的基板和基板尺寸，支撑板可以简单地用适于特定基板和/或基板尺寸的另一支撑板替换。因此，对于多种不同的基板和基板尺寸，可以使用同一吸盘和/或同一端部执行器。根据本专利技术，还通过用于固定柔性基板的固定系统的支撑板(特别是用于如上所述的固定系统的支撑板)来解决该问题。支撑板包括用于支撑基板的支撑表面以及用于连接支撑板与处理装置的连接表面，其中，支撑板包括从支撑表面延伸至连接表面的通孔，其中，通孔中的至少两个在连接表面上是流体地分离的。关于效果和优点，参考上面给出的说明。根据本专利技术，所述至少两个通孔在连接表面上流体地分离。换句话说，在连接表面上在所述至少两个通孔之间没有连接结构。特别地，所有通孔都可以在连接表面上流体地分离。通孔中的每一个都可以与真空生成装置的对应端口连接。因此，预限定强度的真空可以施加到通孔中的每一个，特别地，真空的强度可以在通孔之间改变，使得可以将不同的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于固定柔性基板(16)的固定系统(10)，所述固定系统包括处理装置(12)和与所述处理装置(12)分离的支撑板(14)，其中，所述处理装置(12)包括具有真空开口(20)的支承表面(18)，其中，所述支撑板(14)包括用于支撑所述基板(16)的支撑表面(26)以及与所述处理装置(12)的支承表面(18)接触的连接表面(24)，其中，所述支撑板(14)包括从所述支撑表面(26)延伸至所述连接表面(24)的通孔(28)，并且其中，所述通孔(28)中的至少一个与所述处理装置(12)的真空开口(20)中的一个流体连接。/n

【技术特征摘要】
20181023 NL 20218591.一种用于固定柔性基板(16)的固定系统(10)，所述固定系统包括处理装置(12)和与所述处理装置(12)分离的支撑板(14)，其中，所述处理装置(12)包括具有真空开口(20)的支承表面(18)，其中，所述支撑板(14)包括用于支撑所述基板(16)的支撑表面(26)以及与所述处理装置(12)的支承表面(18)接触的连接表面(24)，其中，所述支撑板(14)包括从所述支撑表面(26)延伸至所述连接表面(24)的通孔(28)，并且其中，所述通孔(28)中的至少一个与所述处理装置(12)的真空开口(20)中的一个流体连接。


2.根据权利要求1所述的固定系统(10)，其特征在于，所述支撑板(14)在所述支撑表面(26)中包括真空槽(30)，每个真空槽都流体地连接至至少一个通孔(28)。


3.根据权利要求2所述的固定系统(10)，其特征在于，所述真空槽(30)在所述支撑板(14)的方位角方向上从所述支撑板(14)的中心点(32)径向向外延伸和/或沿着与所述基板(16)的轮廓类似的轮廓延伸。


4.根据前述权利要求中任一项所述的固定系统(10)，其特征在于，所述支撑板(14)包括对准结构，具体地，所述对准结构包括雕刻部(44)、凹口(36)和/或对准标记(40)。


5.根据前述权利要求中任一项所述的固定系统(10)，其特征在于，所述处理装置(12)和/或所述支撑板(14)至少部分是半透明的。


6.根据前述权利要求中任一项所述的固定系统(10)，其特征在于，所述支撑板(14)至少部分地由可光结构化玻璃构成。


7.根据前述权利要求中任一项所述的固定系统(10)，其特征在于，所述支撑板(14)在所述连接表面(24)中包括真空槽(31)，每个真空槽都流体连接至至少一个通孔(28)，特别地，设置在所述连接表面(24)中的真空槽(31)的宽度和/或长度大于设置在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：菲利普·斯蒂文纳德，格哈德·赫克尔，
申请(专利权)人：苏斯微技术光刻有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE