颗粒检测器制造技术

本公开提供一种用于检测流体中所含的纳米颗粒的颗粒检测器。颗粒检测器包含衬底和设置于衬底上的至少一对感测电极。衬底包含纳米孔，其中纳米孔的孔径大于纳米颗粒的粒径，以允许流体中所含的纳米颗粒穿过纳米孔。至少一对感测电极邻接于纳米孔中的至少一个设置。

Particle detector

【技术实现步骤摘要】
颗粒检测器
本专利技术实施例涉及一种颗粒检测器。
技术介绍
当今，超纯水(ultra-purewater；UPW)广泛用于晶片的制造工艺和掩模版(reticles)(光掩模(photo-masks))的清洁工艺中。对于未来高阶半导体工艺，包含于超纯水中的纳米颗粒可能染污晶片或掩模版(光掩模)且致使良品率降低。当前，没有用于检测超纯水中的纳米颗粒的实时监测技术。
技术实现思路
根据本专利技术的实施例，一种用于检测流体中的纳米颗粒的颗粒检测器，所述颗粒检测器包括衬底以及至少一对感测电极。衬底包含多个纳米孔，其中所述多个纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个纳米孔。至少一对感测电极设置于所述衬底上，且所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔中的至少一个设置，其中所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个感测纳米孔设置，且所述至少一对感测电极未邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个虚设纳米孔设置。根据本专利技术的实施例，一种用于检测流体中的纳米颗粒的颗粒检测器，所述颗粒检测器包本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于检测流体中的纳米颗粒的颗粒检测器，所述颗粒检测器包括：/n衬底，包含多个纳米孔，其中所述多个纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个纳米孔；以及/n至少一对感测电极，设置于所述衬底上，且所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔中的至少一个设置，/n其中所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个感测纳米孔设置，且所述至少一对感测电极未邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个虚设纳米孔设置。/n

【技术特征摘要】
20180815 US 16/103,9341.一种用于检测流体中的纳米颗粒的颗粒检测器，所述颗粒检测器包括：
衬底，包含多个纳米孔，其中所述多个纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个纳米孔；以及
至少一对感测电极，设置于所述衬底上，且所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔中的至少一个设置，
其中所述至少一对感测电极邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个感测纳米孔设置，且所述至少一对感测电极未邻接于所述多个纳米孔当中的至少一个虚设纳米孔设置。


2.根据权利要求1所述的颗粒检测器，其中所述至少一对感测电极设置于所述衬底的一侧上，且一对弧形电极邻接于所述多个纳米孔设置。


3.根据权利要求1所述的颗粒检测器，其中所述至少一对感测电极设置于所述衬底的两个相对侧上，且一对环形电极邻接于所述多个纳米孔设置。


4.一种用于检测流体中的纳米颗粒的颗粒检测器，所述颗粒检测器包括：
衬底，包含多个感测纳米孔以及多个虚设纳米孔，其中所述多个感测纳米孔的孔径以及所述多个虚设纳米孔的孔径大于所述纳米颗粒的粒径，以允许所述流体中的所述纳米颗粒穿过所述多个感测纳米孔以及所述多个虚设纳米孔；以及
多个感测电极对，设置于所述衬底上，各感测电极对分别邻接于所述多个感测纳米孔中的一个设置。


5.根据权利要求4所述的颗粒检测器，其中所述多个感测纳米孔以及所述多个虚设纳米孔在孔径上大体上相同。


6....

【专利技术属性】
技术研发人员：林恩添，于淳，李玫，许淑裕，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71