一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物及其制备方法与应用。所述的吡啶并二唑衍生物单元化学稳定性及化学修饰性强，可以方便地通过二唑中的杂原子调整带隙和能级；其吡啶单元的氮原子为sp2杂化，吸电较性好，并且可以与含有硼原子的基团形成配位键，有利窄带隙聚合物的实现；通过调整吡啶单元的朝向，还可以实现聚合物的规整异构，从而调节聚合物半导体的光学和电学特性。

A class of pyridinediazole derivatives containing boron and nitrogen groups and their preparation and Application

【技术实现步骤摘要】
一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物及其制备方法与应用
本专利技术属于有机光电
，具体涉及一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物及其制备方法与应用。
技术介绍
随着智能设备的不断普及，高性能低成本的红外光电传感器需求日益增加。其中具有近红外-短波红外波段(NIR-SWIR，700-1700纳米)选择性的光电探测器和图像阵列在便携式电子产品，汽车/住宅，自动化，人机交互和人工智能方面具有广泛的应用前景。目前市面上的商用红外图像阵列都是基于晶体硅片制成的。由于半导体硅的固有能隙，这种硅基红外传感器只能用于880-950nm范围(即通称的近红外NIR波段，定义为700-1000纳米范围)。这个波长还是比较接近眼睛的感知范围，因此发射源的照度必须很好地控制以符合人眼安全要求。在SWIR波段内目前主要有两种类型的传感器可以工作：(1)基于锗晶体的传感器，以及(2)基于InGaAs晶体的传感器。前者在室温下由于暗电流本身较高，因此背景噪声高，无法有效工作。后者太昂贵，不适用于一般商业应用，此外还需要外加一个耗电量较大的热电冷却器，才能在低光照条件下运行本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物，其特征在于，具有如下化学结构式：/n

【技术特征摘要】
1.一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物，其特征在于，具有如下化学结构式：



其中n为L基团上连接的含硼杂环并吡啶并二唑衍生物基团的数量，n＝1～6；
X为二唑单元中的杂原子，每次出现时相同或者不同地选自O,S,Se,Te原子或NR1基团；
R1每次出现时相同或者不同地选自H、D、F、Cl、CN、NO2、C(＝O)R2,Si(R2)3,N(R2)2,P(＝O)(R2)2,P(＝S)(R2)2,OR2,SR2,S(＝O)R2,S(＝O)2R2、具有1～20个碳原子的直链的烷基、具有3～20个碳原子的支链或环状的烷基、具有2-20个碳原子的烯基或炔基基团、碳原子数为6～60芳族有机基团或碳原子数为3～60的杂芳族有机基团，其中在前述提到的任一基团中的一个或多个-CH2-基团能被-R3C＝CR3-,-C≡C-,Si(R3)2,C＝O,C＝NR3,-C(＝O)O-,-C(＝O)NR3-,NR3,P(＝O)(R3),P(＝S)(R3),O,S,S(＝O)或SO2代替；两个或更多个基团R1之间能彼此链接且可形成环；
R2、R3每次出现时相同或者不同地选自具有1～60个碳原子的直链烷基、具有3～60个碳原子的支链或环状的烷基、具有2-20个碳原子的烯基或炔基基团、碳原子数为6～60芳族有机基团或碳原子数为3～60的杂芳族有机基团；两个或更多个基团R2、R3可彼此链接且可形成环；
Ar每次出现时相同或者不同地选自可被一个或多个基团R1～3取代的具有6～80个芳族环原子的芳族环系或可被一个或多个基团R1～3取代的具有3～80个芳族环原子的杂芳族环系的基团；或Ar＝R1；R1～3指R1、R2或R3；
L每次出现时相同或者不同地选自可被一个或多个基团R1～3取代的具有6～80个芳族环原子的芳族环系或可被一个或多个基团R1～3取代的具有3～80个芳族环原子的杂芳族环系的基团。


2.根据权利要求1所述的一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物，其特征在于，所述的L单元每次出现时为以下结构或一个或多个基团R1～3取代的以下结构的衍生物或它们的组合：



其中，Y每次出现时相同或者不同地选自C(R1)2,NR1,BR1,C(R1)2O,Si(R1)2,Ge(R1)2,R1C＝CR1,C(R1)2C(R1)2,C＝O,C＝NR1,C(＝O)O,C(＝O)NR1,P(＝O)(R1),P(＝S)(R1),O,S,...

【专利技术属性】
技术研发人员：应磊，钟知鸣，彭沣，黄飞，曹镛，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：广东;44