清洗处理多功能旋转反应釜制造技术

本实用新型专利技术涉及一种清洗处理多功能旋转反应釜，包括筒状的反应釜体、以及供反应釜体可转动安装的机架。反应釜体的转动轴线水平，反应釜体内形成有清洗腔。清洗腔的内壁上沿周圈设有供待清洗电子元器件定位放置的支撑结构，以在反应釜体转动时，清洗腔内的清洗液对支撑结构上的待清洗电子元器件进行清洗。带有硅片等可回收材料的待清洗电子元器件可以提前放置固定到反应釜体内，在反应釜体转动时，反应釜体内的清洗液处理电子器件表面杂质，让待清洗电子元器件表面的杂质被清洗液自动清洗干净，使得得到干净的电子元器件，利于电子元器件的回收利用，清洗过程实现了批量自动化，提升了回收效率，降低了成本，能满足电子元器件回收利用的生产要求。

Cleaning and treatment of multifunctional rotary reactor

【技术实现步骤摘要】
清洗处理多功能旋转反应釜
本技术涉及电子元器件清洗处理系统，更具体地说，涉及一种清洗处理多功能旋转反应釜。
技术介绍
当前大部分存在于电子元器件(如晶体硅芯片)表面的杂质由于不能有效地去除或处理往往被当做垃圾抛弃或销毁，因而未能充分利用这些电子元器件的二次使用价值，例如：电子级硅片纯度高，回收处理表面的杂质后，如果广泛的应用于太阳能电池中，将极大的降低太阳能电池的成本。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于，提供一种清洗处理多功能旋转反应釜。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种清洗处理多功能旋转反应釜，包括筒状的反应釜体、以及供所述反应釜体可转动安装的机架；所述反应釜体的转动轴线水平，所述反应釜体内形成有清洗腔；所述清洗腔的内壁上沿周圈设有供待清洗电子元器件定位放置的支撑结构，以在所述反应釜体转动时，所述清洗腔内的清洗液对所述支撑结构上的待清洗电子元器件进行清洗。优选地，所述反应釜体的侧壁上设置有进出料口、以及对所述进出料口进行封盖的盖体；所述反应釜体与所述进出料口相对的侧壁上设有排液口。优选地，所述反应釜体的两端分别设有轴向伸出的传动轴、承载轴，所述传动轴与所述反应釜体固定连接；所述反应釜体上设有与所述承载轴转动配合的转动孔，所述机架上设有分别供所述传动轴、承载轴转动安装的两个支撑座；所述承载轴的轴心设有沿轴向贯穿连通至所述清洗腔内的排气孔。优选地，所述排气孔内安装有排气管路，所述排气管路与所述反应釜体的清洗腔连通。优选地，所述排气管路包括与所述排气孔配合的连接端，所述连接端的断面外形呈非圆形，以防止所述排气管路相对所述承载轴转动。优选地，所述排气孔远离所述反应釜体的一端内圈设有与所述排气管路密封配合的密封圈。优选地，所述清洗处理多功能旋转反应釜还包括带动所述传动轴转动地驱动电机、以及用于控制所述驱动电机转动速度和时间的控制装置，所述驱动电机和所述传动轴之间通过皮带传动，所述控制装置包括控制器和控制面板。优选地，所述支撑结构包括若干支撑组件，所述反应釜体的内壁面上设有供各所述支撑组件可拆卸安装的安装座，每一支撑组件上设有若干夹持所述待清洗电子元器件的夹口。优选地，所述反应釜体的材质为PP材质。实施本技术的清洗处理多功能旋转反应釜，具有以下有益效果：带有硅片等可回收材料的待清洗电子元器件可以提前放置固定到反应釜体内，反应釜体内可以注入清洗液，在反应釜体转动时，利用化学方法处理回收电子器件表面杂质，让待清洗电子元器件表面的杂质被清洗液自动清洗干净，使得得到干净的电子元器件，利于电子元器件的回收利用，清洗过程实现了批量自动化，提升了回收效率，降低了成本，能满足大部分电子元器件回收再利用的生产要求。附图说明下面将结合附图及实施例对本技术作进一步说明，附图中：图1是本技术实施例中的清洗处理多功能旋转反应釜的立体结构示意图；图2是图1中的清洗处理多功能旋转反应釜的反应釜体的剖面结构示意图。具体实施方式为了对本技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本技术的具体实施方式。如图1所示，本技术一个优选实施例中的清洗处理多功能旋转反应釜包括筒状的反应釜体1、以及供反应釜体1可转动安装的机架2。反应釜体1的转动轴线水平，绕水平方向的轴线转动。反应釜体1内形成有清洗腔11，清洗腔11的内壁上沿周圈设有供待清洗电子元器件3定位放置的支撑结构4，以在反应釜体1转动时，清洗腔11内的清洗液对支撑结构4上的待清洗电子元器件3进行清洗。带有硅片等可回收材料的待清洗电子元器件3可以提前放置固定到反应釜体1内，反应釜体1内可以注入清洗液，在反应釜体1转动时，利用化学方法处理回收电子器件表面杂质，让待清洗电子元器件3表面的杂质被清洗液自动清洗干净，使得得到干净的电子元器件，利于电子元器件的回收利用，清洗过程实现了批量自动化，提升了回收效率，降低了成本，能满足大部分电子元器件回收再利用的生产要求。反应釜体1的材质为PP(聚丙烯)，该材质能抗酸碱，具备寿命长，成本低廉等特点，有利于推广使用。反应釜体1的侧壁上设置有进出料口12、以及对进出料口12进行封盖的盖体13，可以将待清洗电子元器件3由进出料口12放入到反应釜体1内或从里面取出。反应釜体1与进出料口12相对的侧壁上设有排液口14，可以在清洗完毕后，取出待清洗电子元器件3的同时，让用过的清洗液排出，提升效率，方便进行无害化处理。在一些实施例中，支撑结构4包括若干支撑组件41，反应釜体1的内壁面上设有供各支撑组件41可拆卸安装的安装座15，每一支撑组件41上设有若干夹持待清洗电子元器件3的夹口。支撑组件41可以从安装座15上取下，拿出反应釜体1后，将待清洗电子元器件3夹持到夹口上，再将带有待清洗电子元器件3的支撑组件41放入反应釜体1，安装到安装座15上进行固定。待清洗电子元器件3有规则的放置，利于清洗干净均匀。优选地，反应釜体1的两端分别设有轴向伸出的传动轴16、承载轴17，传动轴16与反应釜体1固定连接；反应釜体1上设有与承载轴17转动配合的转动孔，机架2上设有分别供传动轴16、承载轴17转动安装的两个支撑座21。进一步地，清洗处理多功能旋转反应釜还包括带动传动轴16转动地驱动电机、以及用于控制驱动电机转动速度和时间的控制装置5，驱动电机和传动轴16之间通过皮带传动，控制装置5包括控制器和控制面板，通过控制面板输入信号，控制器可采用变频器及时间控制系统进行生产过程的全自动控制，对反应过程中的旋转速度和时间进行精确的控制。进一步地，为了让清洗过程中内部产生的废气及时排出，在承载轴17的轴心设有沿轴向贯穿连通至清洗腔11内的排气孔171。排气孔171内安装有排气管路172，排气管路172与反应釜体1的清洗腔11连通，可以通过排气管路172将废气引导到特定位置进行回收无害化处理。另外，也把反应釜体1和外部连通，实时排放反应过程中产生的废气，使得反应釜体1工作在恒压状态，避免反应釜体1的炸裂。反应釜体1内注入的清洗液的液面高度不高出排气孔171，在反应釜体1工作中，排气孔171始终在清洗液位之上，且相对外面是处于静止不动的状态，使排气稳定。排气管路172包括与排气孔171配合的连接端1721，连接端1721的断面外形呈非圆形，以防止排气管路172相对承载轴17转动。优选地，连接端1721的断面外形呈方形或三角形等。排气孔171远离反应釜体1的一端内圈设有与排气管路172密封配合的密封圈173，排气管路172和旋转的反应釜体1采用的是动密封的结构，使用的密封圈173为氟橡胶圈。可以理解地，上述各技术特征可以任意组合使用而不受限制。以上所述仅为本技术的实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗处理多功能旋转反应釜，其特征在于，包括筒状的反应釜体(1)、以及供所述反应釜体(1)可转动安装的机架(2)；/n所述反应釜体(1)的转动轴线水平，所述反应釜体(1)内形成有清洗腔(11)；/n所述清洗腔(11)的内壁上沿周圈设有供待清洗电子元器件(3)定位放置的支撑结构(4)，以在所述反应釜体(1)转动时，所述清洗腔(11)内的清洗液对所述支撑结构(4)上的待清洗电子元器件(3)进行清洗。/n

【技术特征摘要】
1.一种清洗处理多功能旋转反应釜，其特征在于，包括筒状的反应釜体(1)、以及供所述反应釜体(1)可转动安装的机架(2)；
所述反应釜体(1)的转动轴线水平，所述反应釜体(1)内形成有清洗腔(11)；
所述清洗腔(11)的内壁上沿周圈设有供待清洗电子元器件(3)定位放置的支撑结构(4)，以在所述反应釜体(1)转动时，所述清洗腔(11)内的清洗液对所述支撑结构(4)上的待清洗电子元器件(3)进行清洗。


2.根据权利要求1所述的清洗处理多功能旋转反应釜，其特征在于，所述反应釜体(1)的侧壁上设置有进出料口(12)、以及对所述进出料口(12)进行封盖的盖体(13)；
所述反应釜体(1)与所述进出料口(12)相对的侧壁上设有排液口(14)。


3.根据权利要求1所述的清洗处理多功能旋转反应釜，其特征在于，所述反应釜体(1)的两端分别设有轴向伸出的传动轴(16)、承载轴(17)，所述传动轴(16)与所述反应釜体(1)固定连接；
所述反应釜体(1)上设有与所述承载轴(17)转动配合的转动孔，所述机架(2)上设有分别供所述传动轴(16)、承载轴(17)转动安装的两个支撑座(21)；
所述承载轴(17)的轴心设有沿轴向贯穿连通至所述清洗腔(11)内的排气孔(171)。


4.根据权利要求3所述的清洗处理多功能旋转反应釜，其特征在于，所述排气孔(171)内安装有排气管...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑威，李锦干，徐华毕，
申请(专利权)人：深圳市华尔利泰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44