本实用新型涉及一种具有抗指纹功能的高介电常数的陶瓷盖板，包括陶瓷材质的基板，以及依次在所述基板上沉积形成的Parylene膜层、InSn膜层、SIO

本实用新型涉及一种真空镀膜设备，包括真空炉、蒸发热源、冷却装置、以及旋转支架。真空炉内形成有镀膜腔室，蒸发热源设置在真空炉的内壁面上，以将镀膜材料加热蒸发到镀膜腔室内。冷却装置包括在真空炉的外壁面周向分布的至少两组冷却组件，每一冷却组件...

本实用新型涉及一种清洗处理多功能旋转反应釜，包括筒状的反应釜体、以及供反应釜体可转动安装的机架。反应釜体的转动轴线水平，反应釜体内形成有清洗腔。清洗腔的内壁上沿周圈设有供待清洗电子元器件定位放置的支撑结构，以在反应釜体转动时，清洗腔内的...