一种彩膜基板及其制备方法、OLED显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种彩膜基板及其制备方法、OLED显示装置，其中所述彩膜基板包括：基板、黑色矩阵、色阻以及隔离墙。本发明专利技术通过在相邻两色阻之间的黑色矩阵上设置隔离墙，从而避免光线在相邻色阻之间的串扰问题，避免混色，从而提高显示效果。

A color film substrate and its preparation method, OLED display device

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制备方法、OLED显示装置
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种彩膜基板及其制备方法、OLED显示装置。
技术介绍
OLED(英文全称：OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)显示器件又称为有机电激光显示装置、有机发光半导体。首先OLED的特性是自己发光，不像薄膜晶体管液晶显示装置(英文全称：Thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，简称TFT-LCD)需要背光，因此可视度和亮度均高。其次OLED具有电压需求低、省电效率高、反应快、重量轻、厚度薄，构造简单，成本低、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，已经成为当今最重要的显示技术之一，正在逐步替代TFT-LCD，有望成为继LCD之后的下一代主流显示技术。OLED的基本结构属于夹层式结构，通常是由阳极、发光材料以及阴极包成类似三明治的结构。整个结构层中包括了:空穴传输层(HTL)、发光层(EL)与电子传输层(ETL)。当电力供应至适当电压时，正极空穴与面阴极电荷就会在发光层中结合，在库伦力的作用下以一定几率复合形成处于激发态的激子(电子-空穴对)，而此激发态在通常的环境中是不稳定的，激发态的激子复合并将能量传递给发光材料，使其从基态能级跃迁为激发态，激发态能量通过辐射驰豫过程产生光子，释放出光能，产生光亮，依其配方不同产生红、绿和蓝三基色，构成基本色彩。OLED按照出光方向可分为三种：底部出光(底发射)、顶部出光(顶发射)和双面出光(双面发射)。其中底发射OLED器件的透明阳极位于透明衬底上面，透明阳极上是多层有机薄膜层，有机薄膜层上面是全反射金属或合金阴极，光线只能透过阳极从衬底方向发射出。而顶发射OLED器件则不一样，其阳极用的是全反射金属，顶部阴极是很薄的半透明金属或合金薄膜，光线从顶部阴极发射出。目前的OLED显示装置的发光衬底与彩膜基板中间存在间距，光线容易在彩膜基板的相邻子像素单元之间产生串扰，影响显示效果。因此需要寻求一种新型的彩膜基板及包括这种彩膜基板的OLED显示装置已解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种彩膜基板及其制备方法、OLED显示装置，其能够解决目前的OLED显示装置中存在的光串扰问题。为了解决上述问题，本专利技术的一个实施方式提供了一种彩膜基板，其中包括：基板、黑色矩阵、色阻以及隔离墙。其中所述黑色矩阵设置于所述基板上，所述黑色矩阵上以矩阵方式间隔设置有开口；所述色阻涂布于所述开口中；所述隔离墙设置于所述相邻色阻之间的黑色矩阵上。进一步地，其中所述相邻两色阻之间的黑色矩阵上设有凹槽，所述隔离墙设置于所述黑色矩阵的凹槽上。进一步地，其中所述凹槽包括矩形凹槽、锯齿形凹槽、波浪形凹槽、弧形凹槽中的一种或多种。进一步地，其中所述隔离墙的组成材料包括黑色PI材料。进一步地，其中所述隔离墙的远离基板的表面与所述色阻远离基板的表面平齐。本专利技术的另一个实施方式还提供了一种制备本专利技术涉及所述的彩膜基板的制备方法，其中包括：步骤S1，提供一基板，通过涂布、烘烤、曝光、显影工艺分别在基板上制备出黑色矩阵，并在所述黑色矩阵上以矩阵方式间隔设置开口，在所述开口中形成色阻；步骤S2，在相邻色阻之间的黑色矩阵上形成所述隔离墙。进一步地，其中所述步骤S2中，其为在所述相邻色阻之间的黑色矩阵上先制备凹槽，然后在所述凹槽内形成所述隔离墙。进一步地，其中所述步骤S2中，其中所述隔离墙的形成方式为在所述凹槽内以打印或涂布的方式填充隔离墙材料，然后采用紫外光对所述隔离墙材料进行照射，从而形成所述隔离墙。进一步地，其中所述隔离墙材料包括黑色PI材料。本专利技术的另一个实施方式还提供了一种OLED显示装置，其中包括：彩膜基板和OLED器件。其中所述彩膜基本为本专利技术涉及的所述的彩膜基板；所述彩膜基板设置于所述OLED器件上方。本专利技术的优点是：本专利技术涉及一种彩膜基板及其制备方法、OLED显示装置，本专利技术通过在相邻两色阻之间的黑色矩阵上设置隔离墙，从而避免光线在相邻色阻之间的串扰问题，避免混色，从而提高显示效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术彩膜基板的结构示意图。图2是本专利技术彩膜基板的制备步骤图。图3是本专利技术OLED显示装置的OLED器件的结构示意图。图中部件标识如下：100、彩膜基板200、OLED器件101、基板102、黑色矩阵1021、开口1022、凹槽103、色阻104、隔离墙201、衬底202、阳极层203、第一功能层204、有机发光层205、第二功能层206、阴极层207、光取出层208、电子阻挡层209、空穴阻挡层2031、空穴注入层2032、空穴传输层2051、电子传输层2052、电子注入层具体实施方式以下结合说明书附图详细说明本专利技术的优选实施例，以向本领域中的技术人员完整介绍本专利技术的
技术实现思路
，以举例证明本专利技术可以实施，使得本专利技术公开的
技术实现思路
更加清楚，使得本领域的技术人员更容易理解如何实施本专利技术。然而本专利技术可以通过许多不同形式的实施例来得以体现，本专利技术的保护范围并非仅限于文中提到的实施例，下文实施例的说明并非用来限制本专利技术的范围。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是附图中的方向，本文所使用的方向用语是用来解释和说明本专利技术，而不是用来限定本专利技术的保护范围。在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。此外，为了便于理解和描述，附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的，本专利技术并没有限定每个组件的尺寸和厚度。当某些组件，被描述为“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接置于所述另一组件上；也可以存在一中间组件，所述组件置于所述中间组件上，且所述中间组件置于另一组件上。当一个组件被描述为“安装至”或“连接至”另一组件时，二者可以理解为直接“安装”或“连接”，或者一个组件通过一中间组件“安装至”或“连接至”另一个组件。实施例1如图1所示，一种彩膜基板，其中包括：基板101、黑色矩阵102、色阻103以及隔离墙104。其中所述黑色矩阵102设置于所述基板101上，所述黑色矩阵102上以矩阵方式间隔设置有开口1021；所述色阻103涂布于所述开口1021中；其中所述相邻两色阻103之间的黑色矩阵102上设有凹槽1022；所述隔离墙104设置于所述凹槽1022上。其中所述凹槽1022可以是矩形凹槽、锯齿形凹槽、波浪形凹槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：/n基板；/n黑色矩阵，所述黑色矩阵设置于所述基板上，所述黑色矩阵上以矩阵方式间隔设置有开口；/n色阻，所述色阻涂布于所述开口中；以及/n隔离墙，所述隔离墙设置于所述相邻色阻之间的黑色矩阵上。/n

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
基板；
黑色矩阵，所述黑色矩阵设置于所述基板上，所述黑色矩阵上以矩阵方式间隔设置有开口；
色阻，所述色阻涂布于所述开口中；以及
隔离墙，所述隔离墙设置于所述相邻色阻之间的黑色矩阵上。


2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述相邻色阻之间的黑色矩阵上设有凹槽，所述隔离墙设置于所述黑色矩阵的凹槽上。


3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽包括矩形凹槽、锯齿形凹槽、波浪形凹槽、弧形凹槽中的一种或多种。


4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔离墙的组成材料包括黑色PI材料。


5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔离墙的远离基板的表面与所述色阻远离基板的表面平齐。


6.一种制备根据权利要求1所述彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：
步骤S1，提供一基板，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李元元，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44