一种彩膜基板及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，以实现薄型化的所述彩膜基板，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。所述彩膜基板，包括衬底基板，所述衬底基板具有相对的第一面和第二面，所述衬底基板的第一面上形成有多个像素凹槽，所述像素凹槽内填充有色阻材料。本发明专利技术实施例中，将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)以其图像显示品质好、能耗低、环保等优势被广泛应用，占据了显示器领域的重要位置。目前，TFT-LCD的显示面板主要由阵列基板和彩膜基板对盒形成，阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶。现有的彩膜基板是基于红、绿、蓝三原色的，显示面板通过调节提供给阵列基板的驱动电压来控制液晶分子的排列状态，液晶分子的排列状态的改变形成开关的动作，从而能够控制入射光是否穿透，再经彩膜基板上设置的红、绿、蓝色阻，形成亮丽、鲜艳的画面。但是，现有技术中的TFT-LCD产品，彩膜基板均是在衬底基板的表面形成黑矩阵，再形成红、绿、蓝色阻，之后再设置隔垫物。如图1所示，现有技术的彩膜基板，包括：衬底基板1，依次形成于所述衬底基板1表面的黑矩阵2和色阻3，以及形成于色阻3之上的保护层4和隔垫物5。因此，现有技术的彩膜基板的整体厚度较大，增加显示面板的响应时间，使得产品性能下降。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，以实现薄型化的所述彩膜基板，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的：本专利技术实施例提供一种彩膜基板，包括衬底基板，所述衬底基板具有相对的第一面和第二面，所述衬底基板的第一面上形成有多个像素凹槽，所述像素凹槽内填充有色阻材料。本实施例中，将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。优选的，所述色阻材料的填充厚度小于或等于所述像素凹槽的深度。本实施例中，由于所述色阻材料的填充厚度不超过所述像素凹槽的深度，因此所述色阻材料不会超所述衬底基板的第一面，能够减小所述彩膜基板的整体厚度；同时，当所述色阻材料的填充厚度小于所述像素凹槽的深度时，还可以在所述像素凹槽再填充其它必须的物质(例如树脂层)，可以进一步减小所述彩膜基板的整体厚度。优选的，所述像素凹槽的深度为1～3微米。优选的，所述色阻材料之上还形成有树脂层。本实施例中，由所述树脂层对所述色阻材料进行保护和封盖。优选的，所述色阻材料为液态。本实施例中，在具有所述树脂层进行封盖和保护的情况下，所述色阻材料可以是液态的，不需要在掺杂其它物质进行固化。优选的，所述树脂层的外表面与所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面在同一平面。本实施例中，所述色阻材料和所述树脂层的整体与所述衬底基板的第一面在同一平面，使得所述彩膜基板的整体厚度减小。优选的，所述彩膜基板还包括黑矩阵和多个隔垫物，所述黑矩阵形成于所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面上，所述隔垫物形成于所述黑矩阵上。本专利技术实施例有益效果如下：将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，
应用于显示面板后，减少了盒厚，减小了液晶的用量，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。本专利技术实施例还提供一种显示面板，包括如上实施例提供的所述彩膜基板。本专利技术实施例有益效果如下：将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。基于同样的专利技术思想，本专利技术实施例还提供一种彩膜基板制备方法，包括：提供具有相对的第一面和第二面的衬底基板，在所述衬底基板的第一面上形成像素凹槽；在所述像素凹槽内填充色阻材料。优选的，在所述衬底基板的第一面上形成所述像素凹槽，包括：在所述衬底基板的第一面上形成保护层，所述保护层暴露要形成所述像素凹槽的区域；将所述衬底基板经刻蚀液浸泡后，清洗所述衬底基板并去除所述保护层并形成所述像素凹槽。优选的，所述衬底基板的材料为二氧化硅，所述刻蚀液为浓度1.4mol/L的氢氟酸，浸泡温度为25℃，浸泡时长为2～5min；或者，所述衬底基板的材料为聚甲基丙烯酸甲酯，所述刻蚀液为浓度40％的碱性溶液，浸泡温度为50℃，浸泡时长为2～5min。优选的，在所述像素凹槽内填充所述色阻材料，包括：采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，直接在色阻材料上形成树脂层；或者，采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，对所述色阻材料进行固化成形；或者，采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，对所述色阻材料进
行固化成形，在固化成形后的所述色阻材料上形成树脂层。优选的，还包括在所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面上形成黑矩阵，在所述黑矩阵上形成多个隔垫物。本专利技术实施例有益效果如下：将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。附图说明图1为现有技术的第一种彩膜基板结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的第一种彩膜基板结构示意图；图3为本专利技术实施例中衬底基板的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的第二种彩膜基板结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的第三种彩膜基板结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的第四种彩膜基板结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的显示面板的结构示意图；图8为本专利技术实施例提供彩膜基板的制备方法的流程图。具体实施方式下面结合说明书附图对本专利技术实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。参见图2，本专利技术实施例提供第一种彩膜基板100，包括衬底基板10，衬底基板10具有相对的第一面和第二面，衬底基板10的第一面上形成有多个像素凹槽11，像素凹槽11内填充有色阻材料12。参见图3，提供了衬底基板10的示意图，其中衬底基板10的第一面上形
成有多个像素凹槽11。而该彩膜基板100应用于显示面板时，该些像素凹槽11是与彩膜基板100所匹配的阵列基板上的像素单元一一对应的，在此不再赘述。本实施例中，将色阻材料12填充于像素凹槽11内，不需要占用衬底基板10自身之外的空间，能够减小彩膜基板100的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。基于图2提供的彩膜基板100，可以进行多种变型，详细说明如下：例如，如图4所示，本专利技术实施例提供第二种彩膜基板100，包括衬底基板10，衬底基板10具有相对的第一面和第二面，衬底基板10的第一面上形成有多个像素凹槽11。可以在像素凹槽11内填充固态的色阻材料12，该色阻材料12的填充厚度可以根据需要进行设计，优选的该色阻材料12的填充厚度小于或等于像素凹槽11的深度。在各像素凹槽11之间的区域形成黑矩阵14，在黑矩阵14之上形成隔垫物15。但是该种彩膜基板100，色阻材料12未被保护。又例如，如图5所示，本专利技术实施例提供第三种彩膜基板100，包括衬底基板10，衬底基板10具有相对的第一面和第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，包括衬底基板，所述衬底基板具有相对的第一面和第二面，其特征在于，所述衬底基板的第一面上形成有多个像素凹槽，所述像素凹槽内填充有色阻材料。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括衬底基板，所述衬底基板具有相对的第一面和第二面，其特征在于，所述衬底基板的第一面上形成有多个像素凹槽，所述像素凹槽内填充有色阻材料。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料的填充厚度小于或等于所述像素凹槽的深度。3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述像素凹槽的深度为1～3微米。4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料之上还形成有树脂层。5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料为液态。6.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述树脂层的外表面与所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面在同一平面。7.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括黑矩阵和多个隔垫物，所述黑矩阵形成于所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面上，所述隔垫物形成于所述黑矩阵上。8.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至7任一项所述的彩膜基板。9.一种彩膜基板制备方法，其特征在于，包括：提供具有相对的第一面和第二面的衬底基板，在所述衬底基板的第一面上形成像素凹槽；在所述像素凹槽内填充色阻材料。10.如权利要求9所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋雪超，王建，王春雷，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11