一种辉光监测电路、辉光监测装置及刻蚀机制造方法及图纸

本申请适用于辉光监测技术领域，提供了一种辉光监测电路、辉光监测装置及刻蚀机，所述辉光监测电路包括：用于将辉光转换为对应的监测电压信号的光电信号转换模块；用于将监测电压信号与参考电压源输出的预设参考电压阈值信号进行比较，并输出对应的电压比较信号的比较模块；根据电压比较信号和监测控制信号输出对应的逻辑控制信号的逻辑处理模块；根据逻辑控制信号生成对应的互锁开关信号，以控制所述刻蚀机的工作状态的监测开关模块。通过对辉光进行实时监控，在辉光出现异常时及时暂停刻蚀工艺，避免了工艺异常只能在下一步工艺完成后才能发现，从而导致产品质量不合格且产品无法返工而报废，极大的降低了刻蚀机的产品良率的问题。

A glow monitoring circuit, a glow monitoring device and an etcher

【技术实现步骤摘要】
一种辉光监测电路、辉光监测装置及刻蚀机
本申请属于辉光监测
，特别涉及一种辉光监测电路、辉光监测装置及刻蚀机。
技术介绍
现代化大规模集成电路制造需要使用到数十种工艺设备进行几百道的工艺处理过程，集成电路制造工厂里的设备通常被分为沉积、光刻、刻蚀、扩散等几个区域，每个区域均由进行相同或相近工艺处理的半导体设备所组成。工厂物料传输/管理系统进行不同的区域之间的物料传输，而整个硅片的生产工艺由制造执行系统负责协调，统一管理物料在不同区域的不同机台之间的协调，进而完成整个复杂的半导体工艺制造流程。随着集成电路制造特征尺寸的不断减小，所加工硅片表面积的不断扩大，半导体生产对于工厂自动化水平的要求也不断提高，机台之间的工艺转换时间不断缩短。半导体刻蚀技术，是按照掩膜图形或设计要求对半导体衬底表面进行选择性腐蚀或者剥离的技术，刻蚀机是集成电路生产工艺过程中必不可少的一项工艺设备。例如，LamAutoEtch系列机台通常用于刻蚀多晶硅、氮化硅、去除光刻胶浮渣以及扫硅渣等工艺。然而，产品的关键尺寸和形貌的均匀性是产品质量的一个重要衡量标准，在刻蚀本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种辉光监测电路，与监测控制信号源连接，应用于刻蚀机，其特征在于，所述辉光监测电路包括：/n用于将辉光转换为对应的监测电压信号的光电信号转换模块；/n与所述光电信号转换模块连接，用于将所述监测电压信号与预设的参考电压阈值信号进行比较，并输出对应的电压比较信号的比较模块；/n与所述比较模块和所述监测控制信号源连接，用于接收所述电压比较信号和所述监测控制信号源输出的监测控制信号，并根据所述电压比较信号和所述监测控制信号输出对应的逻辑控制信号的逻辑处理模块；以及/n与所述逻辑处理模块连接，用于接收所述逻辑控制信号，并根据所述逻辑控制信号生成对应的互锁开关信号，以控制所述刻蚀机的工作状态的监测开关...

【技术特征摘要】
1.一种辉光监测电路，与监测控制信号源连接，应用于刻蚀机，其特征在于，所述辉光监测电路包括：
用于将辉光转换为对应的监测电压信号的光电信号转换模块；
与所述光电信号转换模块连接，用于将所述监测电压信号与预设的参考电压阈值信号进行比较，并输出对应的电压比较信号的比较模块；
与所述比较模块和所述监测控制信号源连接，用于接收所述电压比较信号和所述监测控制信号源输出的监测控制信号，并根据所述电压比较信号和所述监测控制信号输出对应的逻辑控制信号的逻辑处理模块；以及
与所述逻辑处理模块连接，用于接收所述逻辑控制信号，并根据所述逻辑控制信号生成对应的互锁开关信号，以控制所述刻蚀机的工作状态的监测开关模块。


2.如权利要求1所述的辉光监测电路，其特征在于，所述监测开关模块包括：
工作电源；
与所述逻辑处理模块连接，用于接收所述逻辑控制信号，并根据所述逻辑控制信号进行导通或者关断的开关单元；
与所述工作电源和所述开关单元串联，用于根据所述开关单元的导通或者关断输出对应的继电器开关信号的继电器单元；
与所述继电器单元连接，用于接收所述继电器开关信号，并根据所述继电器开关信号输出对应的互锁开关信号的互锁控制单元。


3.如权利要求2所述的辉光监测电路，其特征在于，所述继电器单元包括：继电器线圈和继电器常闭触点；
所述继电器线圈的第一端与所述工作电源连接，所述继电器线圈的第二端与所述开关单元的电流输入端连接，所述继电器常闭触点的第一端与所述互锁控制单元的第一端连接，所述继电器常闭触点的第二端与所述互锁控制单元的第二端连接。


4.如权利要求3所述的辉光监测电路，其特征在于，所述监测开关模块包括：报警单元；
所述继电器单元还包括：继电器常...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘国梁，李明，李理，
申请(专利权)人：深圳方正微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44