一种蒸镀装置制造方法及图纸

技术编号:22928846 阅读:39 留言:0更新日期:2019-12-25 02:58
本实用新型专利技术提供一种蒸镀装置,包括蒸镀源、至少三段加热部、至少三个温度监测单元、坩埚和驱动轴。蒸镀源随着驱动器包绕在坩埚外部匀速转动,对坩埚周围进行加热,控制器根据温度监测单元反馈的温度信号控制各温度监测单元所对应的控制单元,以调整该控制单元所对应的加热部中加热器升温或者降温,使坩埚竖直方向上各段之间的温度保持相同,降低各段之间的温差,在蒸镀源旋转过程中,各温度监测单元监测对应的坩埚圆周上不同位置的温度,将圆周上的温度差反馈到控制器,控制器控制驱动器加速转动,以降低坩埚圆周方向上各位置间的温度差,使整个坩埚保持统一温度,保证材料的稳定蒸发,使镀膜更加均匀,提高蒸镀材料的利用率,减少资源浪费。

A kind of evaporation and plating device

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀装置
本技术属于镀膜
,具体涉及一种蒸镀装置。
技术介绍
目前真空蒸镀由于技术的不断改善和设备性能的提高,真空镀膜技术也在飞速的发展中,OLED生产、半导体芯片以及太阳能电池等均使用到该项技术。特别是在OLED器件生产中,基本采用真空蒸镀技术来蒸镀制备功能层和阴极层,所以蒸镀技术的稳定对OLED器件光电参数性能非常关键。影响器件性能的因素除了材料选择的影响,还涉及到膜层厚度,不同功能层的厚度不同,会直接影响器件的稳定性和光电性能。在蒸镀操作时,将蒸镀材料放置在蒸镀坩埚内,然后对蒸镀坩埚进行加热,使材料受热,并气化离开蒸镀坩埚,最后镀覆在待蒸镀基板上,从而形成膜层。但是目前蒸镀所形成的膜层,由于坩埚受热不均匀,造成蒸镀的膜层厚度不均匀,影响器件的性能;以及蒸镀结束后坩埚内部分区域有材料的沉积附着,材料利用率低下。现有的技术中,为使坩埚受热均匀采用的常规方式是,在坩埚下部设置支撑体,由支撑体旋转并带动坩埚同步旋转,在坩埚外部设置加热套对坩埚加热。但是,上述坩埚加热方式仍然存在一定的问题,坩埚自身的旋转使坩埚内的液面难以保持一个平坦的界面,且坩埚开口与外界接触,造成坩埚竖向上不同位置的温度不一样,温度差的存在仍然容易造成材料蒸镀不充分,在坩埚壁面上形成材料沉积附着,造成材料的浪费。
技术实现思路
因此,本技术所要解决的技术问题在于现有的蒸镀装置不能够实时调整坩埚不同位置的受热温度。为此,本技术提供一种蒸镀装置,包括蒸镀源,与驱动器的驱动轴相连接,可旋转的间隔设置在坩埚外部;至少三段加热部,竖向排布在所述蒸镀源内壁面上;任一所述加热部包括至少一个加热器,用于加热所述坩埚;控制单元,与所述加热器电连接且与所述加热部一一对应设置在所述蒸镀源外部。优选地,上述蒸镀装置,所述蒸镀装置还包括至少三个温度监测单元;所述温度监测单元与所述加热部一一对应设置在所述蒸镀源周向内壁面上;任一所述温度监测单元与其对应的所述加热器间隔设置在所述蒸镀源内壁的同一圆周上。优选地,上述蒸镀装置,任一所述温度监测单元可以监测其所在的圆周所对应的所述坩埚圆周上任一位置的实时温度。优选地,上述蒸镀装置,任一所述温度监测单元与其对应的所述加热部相对设置在所述蒸镀源内壁的同一圆周上。优选地,上述蒸镀装置,所述蒸镀装置还包括控制器;所述控制器分别与任一所述温度监测单元、所述驱动器和任一所述控制单元电连接。优选地,上述蒸镀装置,所述控制器接收任一所述温度监测单元反馈的温度信号以调整与其对应的控制单元从而改变与所述控制单元对应的所述加热部的加热温度,和/或所述控制器接收任一所述温度监测单元反馈的温度信号以调整所述驱动器的转速。优选地,上述蒸镀装置,所述控制器包括第一控制器和第二控制器;所述第一控制器与所述驱动器电连接;所述第二控制器与任一所述控制单元电连接。优选地,上述蒸镀装置,所述蒸镀装置还包括支撑架,固定在所述坩埚开口端;适于将所述坩埚架设在所述蒸镀源的内腔中。优选地,上述蒸镀装置,所述驱动器设置在所述蒸镀源底部;所述驱动器的驱动轴与所述蒸镀源的连接处设置密封件。本技术的技术方案,具有如下优点:1.本技术提供的一种蒸镀装置,在蒸镀源内壁面上设置至少三段加热部,通过控制单元对加热部的单独控制,对该段加热部所对应的坩埚进行升温或者降温,蒸镀源随着驱动器包绕在坩埚外部匀速转动,对坩埚周围一圈进行加热。2.本技术提供的一种蒸镀装置,在蒸镀源内壁面上设置与加热部一一对应的温度监测单元,随着蒸镀源的转动,可以实时监测温度监测单元所对应的坩埚一周的温度。3.本技术提供的一种蒸镀装置,控制器根据所有温度监测单元反馈的温度信号控制各温度监测单元所对应的控制单元,以调整该控制单元所对应的加热部中加热器升温或者降温,使坩埚竖直方向上各段之间的温度保持相同,降低各段之间的温差。4.本技术提供的一种蒸镀装置,控制器根据所有温度监测单元反馈的温度信号控制各温度监测单元所对应的控制单元,在蒸镀源旋转过程中,各温度监测单元监测对应的坩埚圆周上不同位置的温度,将圆周上的温度差反馈到控制器,控制器控制驱动器加速转动,以降低坩埚圆周方向上各位置间的温度差。5.本技术提供的一种蒸镀装置,支撑架固定在坩埚开口端,不会影响蒸镀源的旋转。6.本技术提供的一种蒸镀装置,驱动轴与蒸镀源的连接处设置密封件将蒸镀源内部与外界隔离,也使得驱动轴与蒸镀源的连接更稳定,保证蒸镀源随驱动轴旋转的稳定性。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术一种蒸镀装置的结构示意图一;图2为本技术一种蒸镀装置的结构示意图二;图3为本技术一种蒸镀装置中温度监测单元旋转监测示意图。附图标记说明:1-蒸镀源;2-加热部;3-温度监测单元;4-驱动轴;5-密封件;6-坩埚;7-支撑架。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。实施例1本实施例提供一种蒸镀装置,如图1所示,包括蒸镀源1、至少三段加热部2、至少三个温度监测单元3、坩埚6和驱动轴4。其中,蒸镀源1包绕并隔离设置在坩埚6外部,本实施例中,坩埚6呈圆柱体状,支撑架7固定在坩埚6开口端,将坩埚6架设在蒸镀源1的内腔中,蒸镀源1内壁面竖直方向上设置至少三段加热部2,每个加热部2上设有至少一个加热器(图中未本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:/n蒸镀源(1),与驱动器的驱动轴(4)相连接,可旋转的间隔设置在坩埚(6)外部;/n至少三段加热部(2),竖向排布在所述蒸镀源(1)内壁面上;任一所述加热部(2)包括至少一个加热器,用于加热所述坩埚(6);/n控制单元,与所述加热器电连接且与所述加热部(2)一一对应设置在所述蒸镀源(1)外部。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:
蒸镀源(1),与驱动器的驱动轴(4)相连接,可旋转的间隔设置在坩埚(6)外部;
至少三段加热部(2),竖向排布在所述蒸镀源(1)内壁面上;任一所述加热部(2)包括至少一个加热器,用于加热所述坩埚(6);
控制单元,与所述加热器电连接且与所述加热部(2)一一对应设置在所述蒸镀源(1)外部。


2.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置还包括至少三个温度监测单元(3);
所述温度监测单元(3)与所述加热部(2)一一对应设置在所述蒸镀源(1)周向内壁面上;任一所述温度监测单元(3)与其对应的所述加热器间隔设置在所述蒸镀源(1)内壁的同一圆周上。


3.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,任一所述温度监测单元(3)可以监测其所在的圆周所对应的所述坩埚(6)圆周上任一位置的实时温度。


4.根据权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,任一所述温度监测单元(3)与其对应的所述加热部(2)相对设置在所述蒸镀源(1)内壁的同一圆周上。


5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:江李李奂钦汤金明
申请(专利权)人:宁波卢米蓝新材料有限公司宁波激智创新材料研究院有限公司
类型:新型
国别省市:浙江;33

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