具有受控流体流动通道的基底的横向流动测试制造技术

描述了一种被构造成在其上限定流体流动通道和/或流体控制特征的基底。基底可另外包含捕获区和/或测试区，以用作测试条，用于确定感兴趣分析物的存在或不存在，例如感染因子或生物标记物。试剂以液滴阵列形式放置在捕获区和/或测试区中。

Transverse flow test of substrate with controlled flow channel

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有受控流体流动通道的基底的横向流动测试相关申请的交叉引用本申请要求2017年2月10日提交的美国临时申请No.62/457,660，2017年3月16日提交的美国临时申请No.62/472,182和2017年12月14日提交的美国临时申请No.62/598,947的优先权，其中的每一个都通过引用整体并入本文。
本文描述的主题涉及具有流体流动通道和通过暴露于激光束创建的流体控制特征的基底，其中流体控制特征被配置为控制流体流动速率和/或流体流动均匀性。例如，基底可用于侧向流动测试，以检测和/或区分流体样品中感兴趣的物质(species)。
技术介绍
侧向流动测试是一种已建立的技术，其可适用于传感器、诊断和指示器的各种测试应用。侧向流动测试通常由材料或基底组成，该材料或基底通过被动的毛细管作用将感兴趣的流体样品从施加点(例如样品收集区)输送到检测区。例如，快速侧向流动免疫测试装置用于临床和家庭环境中。这些装置用于测试各种分析物，诸如激素、蛋白质、尿液或血浆组分等。这些装置通常包括侧向流动测试条(诸如硝化纤维或滤纸)、样品应用区、测试结果区和分析物特异性结合试剂，其结合到某种可检测标记，诸如有色颗粒(诸如铕珠)、荧光或发光标记，或酶检测系统。这种设备的简单性是维持其在市场中使用的一个因素。因为流体输送方法是被动的，所以流动速率和特定流动路径在很大程度上取决于液体样品的粘度、基底材料和任何可能施加的涂层的化学性质(例如，亲水性的或疏水的)。在不向基底添加额外的组分或材料的情况下改变流速或控制流体流动的均匀性将是有利的。需要一种在侧向流动测定中调整和调节放置在基底上的流体样品的流动速率和流动均匀性的方法。
技术实现思路
以下描述和说明的以下方面和实施方式旨在是示例性和说明性的，而不是限制范围。在一个方面，提供了一种基底。基底包括样品接收区；目标区；从样品接收区和目标区延伸的流体路径；以及在基底上创建的流体控制特征，以控制(i)流过目标区的流体流动速率，和/或(ii)流过目标区的移动流体的前缘的流动速率的均匀性。在另一方面，提供了一种包括基底的装置。基底包括样品接收区、目标区、从样品接收区和目标区延伸的流体路径、以及位于基底上的流体控制特征，以控制(i)流过目标区的流体流动速率，和/或(ii)流过目标区的移动流体的前缘的流动速率的均匀性。在一个实施方式中，流体控制特征在流动速率控制区中，在一个实施方式中，该流动速率控制区设置在样品接收区和目标区之间。在一个实施方式中，目标区是标记区。在一个实施方式中，流动速率控制区设置在样品接收区和标记区之间。在另一个实施方式中，基底是硝化纤维。在另一个实施方式中，基底是硝化纤维层和疏水性支撑层的层压体。在一个实施方式中，在暴露于激光以创建流体控制特征和/或流体流动通道的侧壁之前，硝化纤维不用聚合物(包括光聚合物)处理或浸渍。在另一方面，提供了包括如本文所述的基底或装置的免疫测定装置。在又一方面，提供了一种装置，其包括具有厚度l的基底和基底上的第一流体流动通道。第一流体流动通道包括在基底上或基底内的流体流动路径，并且由相对的无基底侧壁或通道限定和界定，在一个实施方式中，通过将基底暴露于激光来创建。相对的无基底侧通道对流体流动是不可渗透的。第一流体控制特征设置在基底上以控制(i)第一流体流动通道中的流体流动速率和/或(ii)第一流体流动通道中移动流体的前缘的流动速率的均匀性。在一个实施方式中，所述装置包括第二流体流动通道，所述第二流体流动通道通过相对的、无基底的侧壁或通道限定在基底上或基底内，所述侧壁或通道对流体流动是不可渗透的。在一个实施方式中，第二流体流动通道包括第二流体流动控制特征，其在基底上具有形状和位置以控制(i)第二流体流动通道中的流体流动速率和/或(ii)第二流体流动通道中移动流体的前缘的流动速率的均匀性。在一个实施方式中，流体流动控制特征和/或相对的无基底侧通道的深度等于基底厚度l。在一个实施方式中，基底是附着于支撑层或第二基底的硝化纤维基底以形成层压体，所述支撑层或第二基底是疏水性材料。在一个实施方式中，第二流体流动通道具有平行于第一流体流动通道中的第一流体流动路径的流体流动路径，其中第一通道中的流体通过无基底侧通道与第二通道中的流体隔离，该无基底侧通道在一个实施方式中是公共的无基底侧通道。在一个实施方式中，第二流体流动通道具有在与第一流体流动通道中的流体流动路径相反的方向上的流体流动路径。在一个实施方式中，第一流体流动通道是圆形的并且限定了圆形流体流动路径。在另一方面，提供了一种免疫测定装置。该装置包括单一整体基底和基底上的单一样品接收区，样品接收区定位成将放置在其上的样品的至少一部分分配到包括标记区和标记区下游的捕获区的流体流动路径，标记区、捕获区或标记区和捕获区二者包括nxm离散点阵列，其中n大于或等于一(1)且m大于或等于零(0)，其中当m大于零时，nxm阵列中的每个点与相邻的点分开距离x，并且其中每个点包括试剂，该试剂包括结合成员。在另一方面，提供了一种免疫测定装置。该装置包括单一整体基底和基底上的单一样品接收区。样品接收区定位成将放置在其上的样品的一部分分配到多个单独的流体流动路径中的每一个，每个流体流动路径包括标记区和标记区下游的捕获区。标记区、捕获区或标记区和捕获区二者包括nxm离散点阵列，其中n大于或等于一(1)且m大于或等于零(0)，其中当m大于零时，nxm阵列中的每个点与相邻的点分开距离x，并且其中每个点包括试剂，该试剂包括结合成员。在一个实施方式中，多个流体流动路径中的每个流体流动路径通过激光刻蚀基底形成的物理屏障与相邻的流体流动路径分开。在一个实施方式中，物理屏障是对应于无基底通道区的间隙。在另一个实施方式中，多个流体流动路径中的每个流体流动路径通过激光刻蚀基底形成的疏水和/或物理屏障与相邻的流体流动路径分开。在一个实施方式中，疏水屏障是层压到基底上的疏水支撑层，该屏障对应于无基底通道或基底间隙以暴露疏水支撑层。在另一个实施方式中，多个流体流动路径包括2-50个之间的流体流动路径。在另一个实施方式中，多个流体流动路径包括3-50、2-12或2-8或2-6个之间的流体流动路径。在另一个实施方式中，每个流体流动路径的捕获区在单一光学窗口内以供仪器检查。在另一个实施方式中，样品接收区以基本相等的量和基本相等的速率将样品分配到每个通道。在又一个实施方式中，多个流体流动路径中的每个流体流动路径中的捕获区包括直接或间接结合抗体的固定物质，该抗体针对存在于放置在样品接收区液体样品中的感染因子、抗原或抗原的标记物。在另一个实施方式中，捕获区包括结合缀合物的物质，该缀合物包括可检测物质和抗体，该抗体针对存在于放置在样品接收区液体样品中的感染因子、抗原或抗原的标记物。在一个实施方式中，可检测物质包括抗体。在一个实施方式中，可检测物质包括光学可检测标记。在一个实施方式中，光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种装置，包括：/n基底，其包括样品接收区、目标区、从所述样品接收区和所述目标区延伸的流体路径、以及通过将所述基底暴露于激光而在所述流体路径中创建的流体控制特征，所述流体控制特征控制(i)流过所述目标区的流体流动速率，和/或(ii)流过所述目标区的移动流体的前缘的流动速率的均匀性。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170210 US 62/457,660;20170316 US 62/472,182;20171.一种装置，包括：
基底，其包括样品接收区、目标区、从所述样品接收区和所述目标区延伸的流体路径、以及通过将所述基底暴露于激光而在所述流体路径中创建的流体控制特征，所述流体控制特征控制(i)流过所述目标区的流体流动速率，和/或(ii)流过所述目标区的移动流体的前缘的流动速率的均匀性。


2.根据权利要求1所述的装置，其中所述流体控制特征位于设置在所述样品接收区下游的流动速率控制区中。


3.根据权利要求2所述的装置，其中所述目标区是标记区。


4.根据权利要求3所述的装置，其中所述流动速率控制区设置在所述样品接收区和所述标记区之间。


5.根据前述任一项权利要求所述的装置，其中所述基底包括硝化纤维。


6.根据权利要求1-5中任一项所述的装置，其中所述基底包括硝化纤维和疏水支撑层的层压体。


7.根据前述任一项权利要求所述的装置，其中所述装置是免疫测定装置。


8.一种装置，包括：
基底；
第一流体流动通道，其在所述基底上，所述第一流体流动通道包括在所述基底上的流体流动路径，所述流动流动路径由相对的、无基底的侧通道限定和界定，所述侧通道对流体流动是不可渗透的；以及
第一流体流动控制特征，其设置在所述基底上，所述第一流体流动控制特征控制(i)第一流体流动通道中的流体流动速率，和/或(ii)所述第一流体流动通道中移动流体的前缘的流动速率的均匀性。


9.根据权利要求8所述的装置，包括第二流体流动通道，其通过相对的无基底侧通道限定在所述基底上，所述相对的侧通道对流体流动是不可渗透的。


10.根据权利要求9所述的装置，其中所述第二流体流动通道包括第二流体流动控制特征，所述第二流体控制特征被配置成控制(i)所述第二流体流动通道中的流体流动的速率，和/或(ii)第二流体流动通道中移动流体的前缘的流动速率的均匀性。


11.根据权利要求9-10中任一项所述的装置，其中所述第二流体流动通道具有平行于所述第一流体流动通道中的所述流体流动路径的流体流动路径，其中所述第一流体流动通道中的流体与所述第二流体通道中的流体在使用该装置期间通过无基底侧通道之一隔离。


12.根据权利要求9-10中任一项所述的装置，其中所述第二流体流动通道具有与在所述第一流体流动通道中的所述流体流动路径的相反方向上的流体流动路径。


13.根据权利要求8所述的装置，其中所述第一流体流动...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·张，J·麦克卢尔，R·里德，I·S·布兰迪，R·韦勒，C·波布里奇，
申请(专利权)人：奎多公司，
类型：发明
国别省市：美国;US