表面处理支承装置、表面处理支架、表面处理方法，以及表面处理设备制造方法及图纸

对一系列制品进行表面处理的方法，在一处理室中对所述制品的表面进行处理。所述制品的支承装置可以由各包括许多隔间的顶笼和底笼构成，所述底笼和底笼可在长度方向上开闭。所述支承装置可由可在长度方向上开闭折合的板状部件构成，展开时可形成一系列狭部，其长度对应于待处理制品的内径。一种表面处理设备，其包括一个在于处理室中的处理材料源，旋转支承所述制品的支承装置的旋转装置使所述制品绕其自身的轴线、或公共旋转轴线、或两者旋转的情况下，进行均一的表面处理。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
,以及表面处理设备的制作方法
本专利技术涉及一种表面处理方法，尤其是一种用来在烧制品表面形成一层淀积金属膜的表面处理方法，所述金属比如是铝、锌和锡，所述金属膜或者是金属氮化物膜，比如氮化钛，所述烧制品例如是易被氧化的稀土金属基磁体或类似物质。通过在所述烧制品上形成所述膜，确保所述烧制品比如稀土金属基磁体具有抗氧化性。更为具体地，本专利技术涉及一种表面处理方法，这种方法能够一起对大量的制品进行集中均一的表面处理，所述制品比如是烧制品，例如稀土金属基磁体，其形状具有一内径部分，比如是环形的或类似形状，本专利技术还涉及适用于所述方法的表面处理支承装置、表面处理支架及表面处理设备。例如，在通常的稀土金属基磁体表面处理方法中，如附图说明图11所示的真空汽相淀积设备120用来进行铝的汽相淀积。在图11中，标号121所指为一真空处理室，其可以通过一真空泵122维持于一预定的真空度。在该真空处理室121中，作为蒸发源的铝123装在一蒸发源支架124中由一加热器125加热。作为被处理制品的稀土金属基磁体物件130装在一笼状的容器126中。在旋转容器126的同时进行铝的汽相淀积，从而在作为被处理制品的所述稀土金属基磁体物件130上均匀地镀上铝层。在上述传统的表面处理方法中，当然可以实现基本上均一的汽相淀积，但因为所述制品是一个叠一个地堆在笼状容器中，不可避免地会产生一些不均一的淀积，因此，希望提供一种表面处理方法，由之可进行更为均一的表面处理。许多稀土金属基磁体物件例如Nd-Fe-B基磁体物件，在经过加工处理之后，常呈长方体状，坚硬且具锐利的棱角。因此存在下述问题在汽相淀积处理过程中，所述棱角相互碰撞，从而使淀积在表面上的薄膜被剥落，在严重的情况下产品的棱角会破损，从而导致合格率降低。尤其在物件尺寸大的情况下，问题在于，由于物件重量大，因而撞击能量大，从而导致合格率极大地降低。在制品具有内径部分且为比如环形或类似形状的情况下，所述方法的缺陷在于，制品内径侧会被其他的制品遮挡住，因此使得不能顺利地实现对内径侧内壁的均一表面处理。因此，本专利技术的目的是提供一种表面处理方法，此方法可克服传统方法所具有的问题和缺点，可以对大量的具内径部分且为环形或类似形状的制品批量进行均一的表面处理。本专利技术的专利技术人发现，合乎上述要求的对制品的表面处理比如汽相淀积可以在这样的状态下进行制品被相互隔开，使之绕各自的轴旋转，或使之绕一个公共旋转轴旋转，或使之同时绕一公共旋转轴和各自的轴旋转。为了达到上述目的，按照本专利技术的特征及其第一方面，提供一种表面处理支承装置，可支承一系列制品，其包括一个顶笼和底笼，它们包括许多隔间，可在长度方向上开闭。由于上述特征，所述表面处理支承装置由一个顶笼和底笼构成，它们包括许多隔间，可在长度方向上开闭。因此，通过开闭上述顶笼和底笼，制品可被间隔地置入所述笼状的隔间中，再从所述笼状隔间中取出。可以适当地选择每个笼子的形状、网眼尺寸等特征，使得可以形成足够尺寸的空隙，以确保表面处理材料可以根据制品的尺寸和形状充分而均一地接触所述制品。根据本专利技术第二方面的特征，提供一种用来支承一系列各具有一内径部分的制品的表面处理支承装置，它包括可在长度方向上开闭折合的板状部件，所述板状部件可形成一系列狭部，后者的长度在打开状态下对应于制品的内径。根据本专利技术的第三个方面的特征，除了第二方面的特征外，所述板状部件可借助于一合页开闭折合。由于上述特征，所述表面处理支承装置由可在长度方向上开闭折合的板状部件构成，使之在打开状态下可形成一系列狭部，后者各具有相应于制品内径的长度。因此，在所述板状部件的折合状态下，制品可以分别放置到所述狭部，然后通过将所述板状部件展开而被有间隔地支承在所述狭部。在完成表面处理之后，通过再次折合所述板状部件，所述制品可以轻易地从所述支承装置上取下。尤其是，通过确保所述板状部件能够借助于所述合页而开闭折合，可以轻易地将制品装到所述支承装置上和从上面取下来。可以如此选择每一狭部的形状、尺寸等特征，使得所述制品可以相应于自身的尺寸和形状而保持相互隔离的状态。根据本专利技术第四方面的特征，提供一种表面处理支架，后者由丝状物制成，所述丝状物按一定间距绕制，形成一种弹簧状的管状结构，在该结构相对的两端，是螺旋线状的端面。前述结构使得制品可以被装在所述管状结构中。按照本专利技术的第五方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述管状结构是一种圆柱形结构。按照本专利技术的第六方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，在所述丝状物的构成所述管状结构之侧面的部分上绕制一种防缠结弹簧。按照本专利技术的第七方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述丝状物在所述管状结构侧面相对的两端附近密集绕制。按照本专利技术的第八方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，在所述管状结构的螺旋线状端面处的丝状物的中央部分密集绕制。按照本专利技术的第九方面的特征，除了所述第四方面的特征之外，所述丝状物是由不锈钢制成的。在所述表面处理支架中，所述丝状物按这样的间距绕制，使得其形成弹簧状的管状结构，并在该管状结构的两端形成螺旋线状的端面，从而使得制品可以被容纳在该管状结构中。从而可以通过所述丝状物所形成的间隙进行均一的表面处理，比如铝的汽相淀积。另外，即使所述支架相互碰撞，在支架中的制品也不会相互碰撞。而且，由于所述支架具有的弹性，支架中的制品也不会受到大的震动，因而不会产生被处理表面的剥落、产品的破损或者类似情况。可以通过由所述丝状物形成的间隙，利用支架的弹性向其中置入或从中取出制品，从而不需要设置专门的入口和出口。所述丝状物的直径、绕制圈数和节距可以合适地选择，考虑到要形成足够尺寸的间距以使之具有适当的弹性，同时要考虑到表面处理材料能够充分而均一地接触被处理制品。如果所述支架是管状的，其形状不受具体限制，可以是椭圆形的。但是，如果考虑到支架要易于旋转，并考虑到处理材料的均匀淀积，所述支架最好是圆柱形的。另外，通过在形成管状结构之侧面的丝状物上绕制防缠结弹簧，可以防止构成支架的丝状物插入丝状物间形成的间隙中，从而防止了构成支架的丝状物相互缠结。类似地，通过在管状结构侧面两端部附近密集绕制所述丝状物，或者在所述管状结构的相对的螺旋线状端面处的丝状物的中央部分密集绕制，也可以防止构成支架的丝状物插入丝状物间形成的间隙中，从而防止了构成支架的丝状物相互缠结。这确保了可以实现均一的表面处理，比如铝的汽相淀积。通过利用不锈钢制造所述丝状物，例如，可以用酸洗掉淀积在所述丝状物上的铝或类似金属。另外，不锈钢与铁不一样，即使在高温下进行汽相淀积，也不会有损于其弹性。这样，如果将由稀土金属基磁体组成的制品放在具有上述设置的表面处理支架中进行表面处理比如铝的汽相淀积，就可以透过所述由丝状物形成的间隙而实现均一的表面处理，而且不会发生被处理表面的剥落、产品的破损及类似情况，从而实现极高的合格率。根据本专利技术第十方面的特征，提供一种对一系列制品进行表面处理的方法，它包括这样的步骤在一处理室中对制品进行表面处理，同时在相互间留有间距的状态下使制品绕自身的轴线旋转。按照本专利技术的第十一方面的特征，除了所述第十方面的特征之外，所述表面处理是在一种烧制品上进行的汽相淀积。按照本专利技术的第十二方面的特征，除了所述第十方面的特本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面处理支承装置，用来支承一系列制品，其包括一个顶笼和底笼，所述顶笼和底笼包括许多隔间，可在长度方向上开闭。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：枥下佳己，藤原好雄，浅贝义宏，太田垣谦，
申请(专利权)人：株式会社新王磁材，
类型：发明
国别省市：JP[日本]