液体化学回收系统、供应系统和制造半导体装置的方法制造方法及图纸

提供了液体化学回收系统、液体化学供应系统和制造半导体装置的方法。液体化学回收系统包括：缓冲槽，从外部接收第一液体化学品；真空槽，具有连接至此的真空泵并使用真空泵从缓冲槽接收第一液体化学品；以及回收槽，从真空槽接收第一液体化学品并向外部提供作为回收的第一液体化学品的第二液体化学品，其中，缓冲槽包括提供第一液体化学品的第一注入部分以及将第一液体化学品提供到真空槽的第一供应部分，并且缓冲槽的底部朝向第一供应部分向下倾斜，以防止包含在第一液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。

Liquid Chemical Recovery Systems, Supply Systems and Methods for Manufacturing Semiconductor Devices

【技术实现步骤摘要】
液体化学回收系统、供应系统和制造半导体装置的方法于2018年2月20日在韩国知识产权局提交的名称为“液体化学回收系统、液体化学供应系统和使用液体化学回收系统制造半导体装置的方法”的第10-2018-0019746号韩国专利申请通过引用全部包含于此。
实施例涉及液体化学回收系统、液体化学供应系统和使用液体化学回收系统制造半导体装置的方法。
技术介绍
随着半导体世代的更新，蚀刻设备的世代已经从批量式硅蚀刻设备转变为单晶片型蚀刻设备。
技术实现思路
实施例涉及一种液体化学回收系统，所述液体化学回收系统包括：缓冲槽，从外部接收第一液体化学品；真空槽，具有连接至此的真空泵并使用真空泵从缓冲槽接收第一液体化学品；以及回收槽，从真空槽接收第一液体化学品，并向外部提供作为回收的第一液体化学品的第二液体化学品，其中，缓冲槽包括提供第一液体化学品的第一注入部分以及将第一液体化学品提供到真空槽的第一供应部分，缓冲槽的底部朝向第一供应部分向下倾斜，以防止包含在第一液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。实施例也涉及一种液体化学供应系统，所述液体化学供应系统包括：第一储存槽，包括第一液位传感器并储存第一液体化学品；第二储存槽，包括第二液位传感器并储存第二液体化学品；主槽，连接到第一储存槽和第二储存槽，并接收第一液体化学品和第二液体化学品中的一个；工艺腔室，从主槽接收第一液体化学品和第二液体化学品中的一个，并且在其中执行湿法蚀刻工艺；缓冲槽，从工艺腔室接收在湿法蚀刻工艺中使用的第三液体化学品；以及真空槽，包括第三液位传感器并从缓冲槽接收第三液体化学品，其中，第三液体化学品沿着缓冲槽的倾斜表面被提供到真空槽，以防止包含在第三液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。实施例还涉及一种制造半导体装置的方法，所述方法包括：提供包括第一薄膜的基底；通过对基底执行湿法蚀刻工艺去除第一薄膜的至少一部分，其中，湿法蚀刻工艺涉及使用液体化学回收系统，并且液体化学回收系统包括：缓冲槽，从工艺腔室接收第一液体化学品；真空槽，具有连接至此的真空泵，并使用真空泵并从缓冲槽接收第一液体化学品；以及回收槽，从真空槽接收第一液体化学品，并向工艺腔室提供作为回收的第一液体化学品的第二液体化学品，其中，缓冲槽包括提供第一液体化学品的第一注入部分和将第一液体化学品提供到真空槽的第一供应部分，并且缓冲槽的底部朝向第一供应部分向下倾斜，以防止包含在第一液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。附图说明通过参照附图详细地描述示例实施例，特征对于本领域的技术人员而言将变得明显，在附图中：图1示出了根据示例实施例的液体化学供应系统的示意图。图2示出了根据示例实施例的液位传感器的示意图。图3示出了根据示例实施例的在缓冲槽中析出的固体溶质的示意图。图4示出了根据示例实施例的缓冲槽的剖视图。图5示出了根据示例实施例的会在真空槽中发生的固体溶质的析出的剖视图。图6示出了根据示例实施例的会在过滤器中发生的固体溶质的析出的剖视图。图7示出了根据示例实施例的液位传感器的示意图。图8A示出了根据示例实施例的液位传感器的示意图。图8B示出了图8A的区域S的放大视图。图9示出了从正Z轴方向观看的图3的缓冲槽的示意图。图10、图12和图14示出了沿图9的线A-A'截取的剖视图。图11、图13和图15示出了沿图9的线B-B'截取的剖视图。图16至图18示出了根据示例实施例的真空槽的剖视图。图19示出了根据示例实施例的冲洗过滤器的示意图。图20示出了示出根据示例实施例的制造半导体装置的方法的流程图。具体实施方式通过参照这里所阐述的详细描述，实施例对本领域的技术人员而言将变得更加明显。图1示出了根据示例实施例的液体化学供应系统的示意图。参照图1，液体化学供应系统100可包括第一工艺液体化学供应系统PCS_1和第二工艺液体化学供应系统PCS_2、工艺液体化学回收系统PCR和计算装置180。为了方便起见，图1仅详细地示出了第一工艺液体化学供应系统PCS_1和工艺液体化学回收系统PCR。第二工艺液体化学供应系统PCS_2可具有与第一工艺液体化学供应系统PCS_1相同或相似的结构，如此，在图1中不再重复第二工艺液体化学供应系统PCS_2的详细图示。在本示例实施例中，第一工艺液体化学供应系统PCS_1可包括第一副槽(“SUBTANK_1”)110、第二副槽(“SUBTANK_2”)120、主槽(“MAINTANK”)130和工艺腔室(“PROCESSCHAMBER”)140。在本示例实施例中，第一副槽110可包括液位传感器(“LEVELSENSOR”)LS。第一液体化学品可储存在第一副槽110中。在本示例实施例中，第一液体化学品可以是回收的液体化学品。在本示例实施例中，第一液体化学品可以是溶剂和溶质的混合物。例如，第一液体化学品可以是回收的磷酸(H3PO4)和液体(例如，悬浮的或溶解的)二氧化硅(SiO2)的混合物。在本示例实施例中，可将水W供应到第一副槽110中以控制储存在第一副槽110中的第一液体化学品的浓度。例如，水W可以是去离子(DI)水。在本示例实施例中，第一副槽110可从以下将描述的回收槽(“RECYCLETANK”)170接收回收的液体化学品，即，第一液体化学品。在本示例实施例中，第一液体化学品可在第一副槽110中循环。例如，第一液体化学品可通过加热器H和过滤器F连续地循环。在实施方式中，可以不设置过滤器F。在实施方式中，第一副槽110可包括用于使第一液体化学品循环的泵。图1示出了第一液体化学品通过加热器H且然后通过过滤器F的示例。在另一实施方式中，第一液体化学品可首先通过过滤器F且然后可由加热器H加热。在本示例实施例中，第二副槽120可包括液位传感器LS。第二液体化学品可储存在第二副槽120中。在本示例实施例中，第二液体化学品可以是非回收的或新鲜的液体化学品。在本示例实施例中，第二液体化学品可以是溶剂和溶质的混合物。例如，第二液体化学品可以是磷酸和液体(例如，溶解的或悬浮的)二氧化硅的混合物。在本示例实施例中，可将水W供应到第二副槽120中以控制储存在第二副槽120中的第二液体化学品的浓度。例如，水W可以是DI水。在本示例实施例中，第二副槽120可从外部(其中，外部表示例如处理半导体晶片的工艺腔室)接收溶剂SOLVENT和液体溶质L_SOLUTE。因此，可通过在第二副槽120中混合溶剂SOLVENT和液体溶质L_SOLUTE来获得第二液体化学品。在本示例实施例中，第二液体化学品可在第二副槽120中循环。例如，第二液体化学品可通过加热器H和过滤器F连续地循环。在实施方式中，可以不设置过滤器F。使第二液体化学品循环的系统可以与使第一液体化学品循环的系统相同或相似，因此，将不再重复其详细描述。在本示例实施例中，可通过打开第一阀VV_1和第二阀VV_2中的一个来将第一液体化学品和第二液体化学品中的一个提供到主槽130。在本示例实施例中，可通过计算装置180来控制第一阀VV_1和第二阀VV_2的打开或关闭。这里，提供到主槽130的第一液体化学品和第二液体化学品中的任一个都可被称作第三液体化学品。在本示例实施例中，主槽130可包括液位传感器LS。在本示例实施例中，可将水W供应到主槽130中以控制储存在主槽130中的第三液本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液体化学回收系统，所述液体化学回收系统包括：缓冲槽，从外部接收第一液体化学品；真空槽，具有连接至真空槽的真空泵，并使用真空泵从缓冲槽接收第一液体化学品；以及回收槽，从真空槽接收第一液体化学品，并向外部提供第二液体化学品，第二液体化学品是回收的第一液体化学品，其中，缓冲槽包括第一注入部分和第一供应部分，第一液体化学品被提供到第一注入部分，第一供应部分将第一液体化学品提供到真空槽，并且缓冲槽的底部朝向第一供应部分向下倾斜，以防止包含在第一液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。

【技术特征摘要】
2018.02.20 KR 10-2018-00197461.一种液体化学回收系统，所述液体化学回收系统包括：缓冲槽，从外部接收第一液体化学品；真空槽，具有连接至真空槽的真空泵，并使用真空泵从缓冲槽接收第一液体化学品；以及回收槽，从真空槽接收第一液体化学品，并向外部提供第二液体化学品，第二液体化学品是回收的第一液体化学品，其中，缓冲槽包括第一注入部分和第一供应部分，第一液体化学品被提供到第一注入部分，第一供应部分将第一液体化学品提供到真空槽，并且缓冲槽的底部朝向第一供应部分向下倾斜，以防止包含在第一液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。2.根据权利要求1所述的液体化学回收系统，所述液体化学回收系统还包括保持或提高缓冲槽的温度的加热器。3.根据权利要求1所述的液体化学回收系统，其中，由缓冲槽的侧壁和缓冲槽的底部的与侧壁相邻的部分形成的角度比直角大。4.根据权利要求3所述的液体化学回收系统，所述液体化学回收系统还包括保持或提高缓冲槽的温度的加热器。5.根据权利要求1所述的液体化学回收系统，其中，第一注入部分的至少一部分插入缓冲槽中。6.根据权利要求5所述的液体化学回收系统，其中，第一注入部分包括在第一方向上延伸的第一部分以及连接到第一部分并在与第一方向不同的第二方向上延伸的第二部分。7.根据权利要求1所述的液体化学回收系统，其中，真空槽包括：第二注入部分，第一液体化学品被提供到第二注入部分；液位传感器，测量提供到真空槽的第一液体化学品的液位；第二供应部分，将第一液体化学品提供到回收槽；第一气体排放部分，连接到真空泵；以及第一阀，控制第二供应部分的打开或关闭。8.根据权利要求7所述的液体化学回收系统，其中，液位传感器附着到真空槽的外壁，并通过向真空槽的外壁施加电压并测量真空槽的内壁与外壁之间的电势差来测量提供到真空槽的第一液体化学品的液位。9.根据权利要求7所述的液体化学回收系统，所述液体化学回收系统还包括：计算装置，连接到液位传感器，以控制第一阀的打开或关闭，其中，如果提供到真空槽的第一液体化学品的液位比预定的液位高，则计算装置打开第一阀。10.根据权利要求1所述的液体化学回收系统，所述液体化学回收系统还包括：过滤器，设置在缓冲槽与真空槽之间，其中，当第一液体化学品不运动时，使用去离子水冲洗过滤器。11.根据权利要求7所述的液体化学回收系统，其中，真空槽的底部朝向第二供应部分向下倾斜。12.一种液体化学供应系统，所述液体化学供应系统包括：第一储存槽，包括第一液位传感器并储存第一液体化学品；第二储存槽，包括第二液位传感器并储存第二液体化学品；主槽，连接到第一储存槽和第二储存槽并接收第一液体化学品和第二液体化学品中的一个；工艺腔室，从主槽接收第一液体化学品和第二液体化学...

【专利技术属性】
技术研发人员：金伶厚，朴晟见，卢炫佑，车知勳，崔溶俊，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR