TFT-LCD减薄镀膜生产线制造技术

本发明专利技术公开一种TFT‑LCD减薄镀膜生产线，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，所述工艺室包括多个磁控溅射腔，所述磁控溅射腔设有旋转阴极，多个所述磁控溅射腔的旋转阴极不全位于同一侧；所述生产线还包括传送系统，所述传送系统包括磁导向摩擦传动装置。本发明专利技术的TFT‑LCD减薄镀膜生产线，可以适用于各种面积的基片溅射，镀膜效果好。

TFT-LCD Thin Film Production Line

【技术实现步骤摘要】
TFT-LCD减薄镀膜生产线
本专利技术涉及玻璃镀膜结构
，尤其涉及一种大面积的TFT-LCD减薄镀膜生产线。
技术介绍
TFT-LCD是采用新材料和新工艺的大规模半导体全集成电路制造技术，是液晶(LC)、无机和有机薄膜电致发光(EL和OEL)平板显示器的基础。TFT是在玻璃或塑料基板等非单晶片上(当然也可以在晶片上)通过溅射、化学沉积工艺形成制造电路必需的各种膜，通过对膜的加工制作大规模半导体集成电路(LSIC)。采用非单晶基板可以大幅度地降低成本，是传统大规模集成电路向大面积、多功能、低成本方向的延伸。在大面积玻璃或塑料基板上制造控制像元(LC或OLED)开关性能的TFT比在硅片上制造大规模IC的技术难度更大。对生产环境的要求(净化度为100级)，对原材料纯度的要求(电子特气的纯度为99.999985％)，对生产设备和生产技术的要求都超过半导体大规模集成，是现代大生产的顶尖技术。TFT-LCD面板由上下两个基板构成，上基板为CF基板，设置有CF(ColorFilter，彩色滤光片)，用于产生颜色，下基板为TFT基板，设置有TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种TFT‑LCD减薄镀膜生产线，其特征在于，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，所述工艺室包括多个磁控溅射腔，所述磁控溅射腔设有旋转阴极，多个所述磁控溅射腔的旋转阴极不全位于同一侧；所述生产线还包括传送系统，所述传送系统包括磁导向摩擦传动装置。

【技术特征摘要】
1.一种TFT-LCD减薄镀膜生产线，其特征在于，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，所述工艺室包括多个磁控溅射腔，所述磁控溅射腔设有旋转阴极，多个所述磁控溅射腔的旋转阴极不全位于同一侧；所述生产线还包括传送系统，所述传送系统包括磁导向摩擦传动装置。2.根据权利要求1所述的TFT-LCD减薄镀膜生产线，其特征在于，至少一个所述磁控溅射腔设有移动磁场阴极。3.根据权利要求1所述的TFT-LCD减薄镀膜生产线，其特征在于，还包括真空泵，所述真空泵为分子泵，所述分子泵安装于门板上。4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄乐，祝海生，陈立，凌云，黄夏，孙桂红，黄国兴，
申请(专利权)人：湘潭宏大真空技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43