控制晶片平台振动制造技术

一种方法包括产生脉冲光束；将脉冲光束朝向安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导；使脉冲光束和衬底相对于彼此扫描，包括将脉冲光束投射到衬底的每个子区域上并且使脉冲光束和衬底中的一项或多项相对于彼此移动；针对衬底的每个子区域确定平台的振动的值；针对衬底的每个子区域，确定对脉冲光束的带宽的调节量，该调节量补偿平台振动的变化以便跨衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；并且将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量，从而补偿平台振动变化。

Controlling the Vibration of Wafer Platform

One method includes generating pulsed beams; guiding the pulsed beams towards the substrate mounted on the lithography exposure device; scanning the pulsed beams and the substrate relative to each other, including projecting the pulsed beams onto each subregion of the substrate and moving one or more of the pulsed beams and the substrate relative to each other; and determining the vibration of the platform for each subregion of the substrate. For each sub-region of the substrate, the adjusting amount of the bandwidth of the pulsed beam is determined, which compensates for the change of the platform vibration so as to keep the focus blurred across the substrate within the predetermined range; and the adjusting amount determined by changing the bandwidth of the pulsed beam is changed to compensate for the vibration change of the platform.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】控制晶片平台振动相关申请的交叉引用本申请涉及于2016年10月17日提交的美国申请No.15/295,280，该申请通过引用整体并入本文。
所公开的主题涉及一种用于通过调节朝向晶片被引导的脉冲光束的特性来在晶片的扫描期间补偿晶片平台的振动的变化的装置。
技术介绍
在半导体光刻(或光刻技术)中，集成电路(IC)的制造需要在半导体(例如，硅)衬底(也称为晶片)上执行的各种物理和化学工艺。光刻曝光装置或扫描仪是一种将期望图案施加到衬底的目标部分上的机器。晶片固定到平台，使得晶片总体上沿着由扫描仪的正交的XL和YL方向限定的平面延伸。通过光束照射晶片，该光束的波长在深紫外(DUV)范围内。光束沿着轴向方向行进，该轴向方向与扫描仪的ZL方向相对应。扫描仪的ZL方向与横向XL-YL平面正交。临界尺寸(CD)是可以通过曝光装置在晶片上印刷的图案的最小特征尺寸。重要的是，保持均匀或受控的CD以便能够更好地控制印刷在晶片上的微电子特征。
技术实现思路
在一些总体方面中，一种方法包括：从脉冲光源产生脉冲光束；将脉冲光束朝向安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导；在脉冲光束与衬底之间执行扫描操作，其中扫描操作包括将脉冲光束投射到衬底的每个子区域上并且使脉冲光束中的脉冲光束和衬底中的一项或多项相对于彼此移动；针对衬底的每个子区域，确定平台的振动的值；针对衬底的每个子区域，确定对脉冲光束的带宽的调节量，该调节量补偿平台振动的变化以便跨衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；以及当脉冲光束对衬底进行曝光时，将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量，从而补偿平台振动变化。实现可以包括以下特征中的一个或多个。例如，可以通过访问查找表以确定保持有效平台振动恒定的带宽的值来确定对特定子区域中的带宽的调节量。该方法可以包括在将脉冲光束朝向衬底引导之前创建查找表。可以通过在已经在脉冲光束与衬底之间执行扫描操作之后针对衬底的每个子区域确定平台振动的值来确定衬底的每个子区域的平台振动的值。可以通过在脉冲光束对尚未被脉冲光束扫描的衬底进行曝光时将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量来在脉冲光束对衬底进行曝光时将脉冲光束的带宽改变所确定的调节量。可以在将脉冲光束朝向衬底引导之前确定对脉冲光束的带宽的调节量。可以在脉冲光束朝向衬底被引导时并且在衬底的每个子区域处确定对脉冲光束的带宽的调节量。可以通过调节光谱特征选择装置的一个或多个光学部件来改变脉冲光束的带宽。可以通过旋转和平移光谱特征选择装置的棱镜来调节光谱特征选择装置的一个或多个光学部件。可以将焦点模糊保持在预定范围内以将形成在衬底中的特征的临界尺寸保持在预定范围内。可以通过改变脉冲光束的脉冲的突发之间的带宽来改变脉冲光束的带宽。该方法可以包括测量朝向衬底被引导的脉冲光束的带宽，以及如果所测量的带宽在可接受的带宽范围之外，则调节脉冲光束的带宽。在其他总体方面中，一种装置包括：产生脉冲光束的光源；将脉冲光束朝向安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导的光束引导系统；被配置为将脉冲光束投射到衬底的每个子区域上并且使脉冲光束中和衬底中的一项或多项相对于彼此移动的扫描系统；被配置为针对衬底的每个子区域确定平台的振动的值的量测装置；以及连接到光源、扫描系统和量测装置的控制系统。控制系统被配置为；从量测装置接收针对每个子区域的平台振动的所确定的值；针对每个子区域，确定对脉冲光束的带宽的调节量，该调节量补偿平台振动的变化，以便跨衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；以及当脉冲光束对衬底进行曝光时，向光源发送信号以将脉冲光束的带宽修改所确定的调节量，从而补偿平台振动变化。实现可以包括以下特征中的一个或多个。例如，扫描系统可以被配置为沿着横向平面使脉冲光束和衬底中的一项或多项相对于彼此移动。横向平面垂直于脉冲光束沿其被引导的轴向方向，并且量测装置可以被配置为确定平台沿着轴向方向的振动的值。该装置可以包括被配置为选择脉冲光束的光谱特征的光谱特征选择装置，光谱特征选择装置包括布置在脉冲光束的路径中的光学部件集合，其中控制系统连接到光谱特征选择装置。控制系统可以通过向光谱特征选择装置发送信号以移动至少一个光学部件从而改变脉冲光束的带宽来向光源发送信号以修改脉冲光束的带宽。光谱特征选择装置的该组光学部件可以包括至少一个棱镜，并且控制系统可以通过向与至少一个棱镜相关联的快速致动器发送信号以引起棱镜旋转从而改变带宽来向光谱特征选择装置发送信号以移动至少一个光学部件从而改变脉冲光束的带宽。光谱特征选择装置的该组光学部件可以包括：被布置为与脉冲光束交互的色散光学元件；以及在色散光学元件与光源之间被布置在脉冲光束的路径中的多个棱镜。光谱特征选择装置可以包括致动系统，该致动系统包括与棱镜相关联并且被配置为旋转相关联的棱镜，从而调节脉冲光束的光谱特征的至少一个快速致动器。快速致动器可以包括旋转平台，旋转平台围绕旋转轴线旋转并且包括与棱镜机械链接的区域。旋转平台可以被配置为围绕旋转轴线旋转完整的360°的旋转角度。附图说明图1是产生被引导到光刻曝光装置的脉冲光束的光刻系统的框图；图2是描绘在图1的光刻曝光装置内成像的晶片的绘图的示意图，该绘图示出了晶片的子区域；图3是由图1的光刻系统产生的脉冲光束的示例性光谱的曲线图；图4是可以在图1的光刻系统中使用的示例性光刻曝光装置的框图；图5A是可以在图1的光刻系统中使用的示例性光谱特征选择装置的框图；图5B是图5A的光谱特征选择装置内的示例性棱镜的框图，并且示出了穿过棱镜的光束放大率和光束折射角；图6A是包括与至少一个棱镜相关联的快速致动器并且可以在图1的光刻系统中使用的示例性光谱特征选择装置的框图；图6B是沿着图6A装置的一个棱镜的6B-6B截面截取的视图；图6C是沿着图6B的棱镜的ZSF方向的视图，示出了棱镜的旋转；图7A是包括与至少一个棱镜相关联的快速致动器并且可以在图1的光刻系统中使用的示例性光谱特征选择装置的框图；图7B是沿着图7A装置的一个棱镜的7B-7B截面截取的视图；图7C是沿着图7B的棱镜的ZSF方向的视图，示出了棱镜的旋转；图8是可以在图1的光刻系统中使用的示例性光源的框图；图9是可以在图1的光刻系统中使用的示例性控制系统的框图；图10是由图1的光刻系统执行示例性过程的流程图，以快速调节脉冲光束的带宽，以补偿晶片的每个子区域中的平台振动的变化；图11是由图1的光刻系统执行的示例性过程的流程图，以确定针对晶片的每个子区域的对脉冲光束的带宽的调节；以及图12是针对晶片的所有子区域测量的平台振动与补偿平台振动的不希望变化的脉冲光束的带宽之间的示例性关系的曲线图。具体实施方式参考图1，光刻系统100包括照射系统150，该照射系统150产生脉冲光束110，该脉冲光束110具有名义上处于中心波长处的波长并且被引导到光刻曝光装置或扫描仪115。脉冲光束110是用于在安装到扫描仪115中的平台122的衬底或晶片120上图案化微电子特征。在晶片120上图案化的这些微电子特征的尺寸受到临界尺寸(CD)的限制，并且临界尺寸受到焦点模糊的影响，焦点模糊是光束110在晶片120处的焦点的模糊。焦点模糊至少部分地是由于光束110的带宽、沿着ZL方向的平台振动或振荡、以及平台122从XL-YL平面的倾斜而引起的色差效应而导致的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方法，包括：从所述脉冲光源产生脉冲光束；将所述脉冲光束朝向被安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导；在所述脉冲光束与所述衬底之间执行扫描操作，其中所述扫描操作包括将所述脉冲光束投射到所述衬底的每个子区域上并且使所述脉冲光束和所述衬底中的一项或多项相对于彼此移动；针对衬底的每个子区域，确定所述平台的振动的值；针对所述衬底的每个子区域，确定对所述脉冲光束的带宽的调节量，所述调节量补偿平台振动的变化，以便跨所述衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；以及当所述脉冲光束对衬底进行曝光时，将所述脉冲光束的带宽改变所确定的调节量，从而补偿所述平台振动变化。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.10.17 US 15/295,6271.一种方法，包括：从所述脉冲光源产生脉冲光束；将所述脉冲光束朝向被安装到光刻曝光装置的平台的衬底引导；在所述脉冲光束与所述衬底之间执行扫描操作，其中所述扫描操作包括将所述脉冲光束投射到所述衬底的每个子区域上并且使所述脉冲光束和所述衬底中的一项或多项相对于彼此移动；针对衬底的每个子区域，确定所述平台的振动的值；针对所述衬底的每个子区域，确定对所述脉冲光束的带宽的调节量，所述调节量补偿平台振动的变化，以便跨所述衬底将焦点模糊保持在预定值范围内；以及当所述脉冲光束对衬底进行曝光时，将所述脉冲光束的带宽改变所确定的调节量，从而补偿所述平台振动变化。2.根据权利要求1所述的方法，其中确定对特定子区域中的带宽的调节量包括：访问查找表以确定保持有效平台振动恒定的带宽的值。3.根据权利要求2所述的方法，还包括：在将所述脉冲光束朝向所述衬底引导之前创建所述查找表。4.根据权利要求1所述的方法，其中针对衬底的每个子区域确定所述平台振动的值包括：在已经在所述脉冲光束与所述衬底之间执行扫描操作之后，针对所述衬底的每个子区域确定所述平台振动的值。5.根据权利要求4所述的方法，其中当所述脉冲光束对衬底进行曝光时将所述脉冲光束的带宽改变所确定的调节量包括：当所述脉冲光束对尚未被所述脉冲光束扫描的衬底进行曝光时将所述脉冲光束的带宽改变所确定的调节量。6.根据权利要求1所述的方法，其中确定对所述脉冲光束的带宽的调节量在将所述脉冲光束朝向所述衬底引导之前发生。7.根据权利要求1所述的方法，其中确定对所述脉冲光束的带宽的调节量在将所述脉冲光束朝向所述衬底引导时并且在所述衬底的每个子区域处发生。8.根据权利要求1所述的方法，其中改变所述脉冲光束的带宽包括：调节光谱特征选择装置的一个或多个光学部件。9.根据权利要求8所述的方法，其中调节所述光谱特征选择装置的一个或多个光学部件包括旋转和平移所述光谱特征选择装置的棱镜。10.根据权利要求1所述的方法，其中将所述焦点模糊保持在所述预定范围内还将形成在所述衬底中的特征的临界尺寸保持在预定范围内。11.根据权利要求1所述的方法，其中改变所述脉冲光束的带宽包括改变所述脉冲光束的脉冲的突发之间的带宽。12.根据权利要求1所述的方法，还包括：测量朝向所述衬底被引导的所述脉冲光束的带宽，并且如果所测量的带宽在可接受的带宽范围之外，则调节所述脉冲光束的带宽。13.一种装置，包括：光源，产生脉冲光束；光束引导系统，将所述脉冲光束朝向被安装到光刻曝光装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·J·M·范阿德里切姆，W·E·康利，E·A·梅森，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US