在单次曝光通过过程期间，使光束中的光脉冲的集合朝向晶片穿过掩模；在单次曝光通过过程期间，基于脉冲的集合中的穿过掩模的光脉冲来在晶片上生成至少第一空间图像和第二空间图像，第一空间图像在晶片上的第一平面处并且第二空间图像在晶片上的第二平面处...

激光放电室中的阴极和阳极电极的面对的放电表面中的一个或两个表面，即，等离子体在其间被撞击的表面，设置有形成分布式放电起始或成核位置的工程化的表面结构，以便实现对放电过程的控制。

气体控制装置包括与气体放电室通信的控制系统。该控制系统包括性能监测模块，该性能监测模块被配置为在气体放电室的标准操作模式期间和气体恢复方案在使用气体恢复设置的气体放电室上的执行之间：将气体放电室的一个或多个性能参数与相应阈值进行比较；基...

预测装置与被配置为产生供光刻曝光设备使用的脉冲光束的光源通信。预测装置包括：光刻模块，其与光刻曝光设备通信并且被配置为接收标识符，所接收的标识符缺乏与定义脉冲光束的特性的实际发射图案相关的数据；以及与光源通信的光源模块，光源模块被配置为...

一种脉冲功率电路包括一个或多个磁性开关，该一个或多个磁性开关分别被实现为具有可饱和芯的一个或多个电感器，其中在放电脉冲之后，每个可饱和芯通过复位脉冲(该复位脉冲具有例如由腔室操作条件确定的可变特性)可重复地复位到其磁化曲线上的初始偏压点...

一种系统包括：光脉冲展宽器，该光脉冲展宽器包括：第一反射光学元件；第二反射光学元件；以及光学耦合系统，其中第一反射光学元件与第二反射光学元件之间的距离限定光学腔中的间隔距离，并且光学耦合系统被配置为将光脉冲引入腔中并且允许光脉冲离开腔。...

一种装置包括：被配置为激活放电腔中的激励机构的磁开关网络。该磁开关网络包括：被配置为从充电器接收电流的初始能量存储节点；附加能量存储节点；以及位于初始能量存储节点与附加能量节点之间的至少一个电元件。该装置还包括电连接到附加能量存储节点的...

描述了用于控制脉冲光束的能量的方法。方法包括：从光源产生多个混合的光束脉冲集，每个光束脉冲集与不同的主波长和不同的目标能量相关联；接收先前光束脉冲的能量的测量值；确定能量误差，包括：如果先前光束脉冲在特定光束脉冲集中，则将所测量的先前光...

用于维护用于半导体光刻的光源的系统，其中构成光源的部分的模块以各种脉冲计数进行评价，以产生关于模块是否足够可能在后续脉冲序列中无故障操作的二元预测。可以通过机器学习模型做出二元预测，该机器学习模型根据度量进行训练，该度量从对所卸载的模块...

一种方法包括：在以脉冲重复率产生脉冲突发的同时，以与脉冲重复率相关的频率在一组离散状态之间驱动光谱特征调节器；以及在脉冲突发的产生之间(在没有脉冲产生的同时)之间，根据由一组参数限定的驱动信号来驱动光谱特征调节器。每个离散状态对应于光谱...

一种脉冲功率电路(30，31，32)，包括电感器(55)，所述电感器具有开关磁性材料和衰减磁性材料的混合芯，所述开关磁性材料被布置和选择成用作磁性开关；所述衰减磁性材料被布置和选择成衰减能量反射而不干扰所述开关磁性材料用作磁性开关，使得...

基于包括激光系统的光学系统的一个或多个操作特性来确定电量的一个或多个性质；通过将电量提供给磁耦合到磁性开关网络的磁芯的线圈来调节磁芯的阻抗；并且在调节磁芯的阻抗之后，产生光脉冲。产生光脉冲包括：使磁芯饱和，使得电脉冲被提供给激光系统的激...

一种用于改善使用光刻设备将设计布局的一部分成像至衬底上的光刻过程的方法。所述方法包括：计算多变量成本函数，所述多变量成本函数是以下各项的函数：(i)影响所述光刻过程的特性的多个设计变量，和(ii)所述光刻设备的辐射源的辐射带宽；和通过调...

在一些一般方面，一种用于光源的装置包括：监测模块，被配置为监测光源的一个或多个操作条件的故障状态；递减模块，被配置为如果与光源的一个或多个操作条件相关的故障状态是归零的、并且如果降低后的操作速度将处于或高于基线速度，则降低布置在光源的气...

在用于产生多于一个波长(颜色)的激光辐射的系统中控制波长的设备和方法，其中一个或多个致动器响应于被提供的波形来控制波长。波形和/或用于控制波形的控制器的特性基于激光器的当前重复率来确定。确定当前重复率，如果它是新的，则命令新的波形。还公...

一种用于对准光学脉冲展宽器中的诸如分束器之类的光学部件的装置和方法，在该光学脉冲展宽器中，使已经穿越分束器的一部分的射束的着陆斑点和从经回射的输入射束中拆分的射束的重合着陆斑点对准在目标斑点上。此外，公开了一种用于对准回射器以便于进行适...

波长选择装置包括：中心波长选择光学器件，其被配置为根据脉冲光束在中心波长选择光学器件上的入射角来针对脉冲光束中的每个脉冲选择至少一个中心波长；调谐机构，其沿着脉冲光束到中心波长选择光学器件的路径布置；以及衍射光学元件，其是无源的且透射的...

一种光学部件包括：氟化钙衬底，其包括原子级光滑的衬底表面，该原子级光滑的衬底表面形成光学相互作用表面的至少一部分；以及密封剂层，该密封剂层覆盖原子级光滑的衬底表面，从而在氟化钙衬底与密封剂层之间形成光滑的界面。原子级光滑的衬底表面的轮廓...

一种用于光源的装置包括：限定通道的电绝缘体；围绕电绝缘体的至少一部分的衬垫；以及在通道和衬垫之间的屏蔽件。该通道被配置为接纳电导体。衬垫包括非金属材料。衬垫包括非金属材料。衬垫包括非金属材料。

执行一种用于安排与光源中的光学设备相关的校准的方法。该方法可以由包括校准装置和预测控制器的校准系统执行。该方法包括：在光学设备正在被校准时接收与光学设备相关联的属性；至少基于光学设备属性来计算当前退化度量，退化度量对光学设备的行为进行建...