基于带宽和散斑的光刻过程的优化制造技术

一种用于改善使用光刻设备将设计布局的一部分成像至衬底上的光刻过程的方法。所述方法包括：计算多变量成本函数，所述多变量成本函数是以下各项的函数：(i)影响所述光刻过程的特性的多个设计变量，和(ii)所述光刻设备的辐射源的辐射带宽；和通过调整所述设计变量(例如，源、掩模布局、带宽，等等)中的一个或更多个设计变量来重新配置所述光刻过程的所述特性(例如，EPE、图像对比度、抗蚀剂，等等)中的一个或更多个特性，直到终止条件被满足为止。所述终止条件包括散斑特性(例如，散斑对比度)被维持在与所述辐射源相关联的散斑规格内且也将与所述光刻过程相关联的图像对比度维持在所需的范围内。所述散斑特性是所述辐射带宽的函数。的函数。的函数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于带宽和散斑的光刻过程的优化
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年12月23日递交的美国申请63/129,957的优先权，并且所述美国申请的全部内容通过引用而被合并入本文中。


[0003]本文中的描述内容涉及光刻设备和过程，和包括用以针对给定图案形成装置通过允许改变照射源的带宽来优化所述照射源的方法或设备。

技术介绍

[0004]光刻投影设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这样的情况下，图案形成装置(例如，掩模)可以包括或提供对应于IC的单层的电路图案(“设计布局”)，并且可以通过诸如经由图案形成装置上的电路图案而辐照已涂覆有辐射敏感材料(“抗蚀剂”)层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或更多个管芯)的方法将这种电路图案转印至所述目标部分上。通常，单个衬底包括多个相邻目标部分，电路图案通过光刻投影设备连续地转印至所述多个相邻目标部分，一次一个目标部分。在这种类型的光刻投影设备中，将整个图案形成装置上的电路图案一次性转印至一个目标部分上；这种设备通常称作步进器。在通常称作步进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于改善使用光刻设备将设计布局的一部分成像至衬底上的光刻过程的方法，所述方法包括：由硬件计算机系统计算多变量成本函数，所述多变量成本函数是以下各项的函数：(i)影响所述光刻过程的特性的多个设计变量，和(ii)所述光刻设备的辐射源的辐射带宽；和由所述硬件计算机系统通过调整所述设计变量中的一个或更多个设计变量直到终止条件被满足为止，来重新配置所述光刻过程的所述特性中的一个或更多个特性，所述终止条件包括散斑特性在与由所述辐射源进行的辐射产生相关联的散斑规格内、同时将与所述光刻过程相关联的图像对比度维持在所需的范围内，所述散斑特性是所述辐射带宽的函数。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述辐射带宽在所述重新配置期间改变。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述散斑特性是与由所述辐射源的一组相干波前的互相干涉产生的散斑相关联的指标，所述散斑指示局部剂量变化。4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述散斑特性是与由所述辐射源产生的辐射相关联的散斑对比度，并且其中所述散斑对比度在重新配置期间被减小或最小化。5.根据权利要求4所述的方法，其中，与所述辐射相关联的所述散斑对比度由来自空间相干性和时间相干性两者的贡献表征，并且所述散斑对比度的减小包括减小时间相干性和/或空间相干性。6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述特性包括以下各项中的一项或更多项：在所述光刻过程期间产生的图像的所述图像对比度；所述光刻过程的过程窗口；源特性；与所述光刻过程相关联的性能指标；或所述辐射源的所述散斑特性和带宽的范围。7.根据权利要求1所述的方法，其中，重新配置所述光刻过程的所述特性中的一个或更多个特性包括：使用所述多变量成本函数以经由与所述光刻过程相关联的一个或更多个过程模型执行源优化；或使用...

【专利技术属性】
技术研发人员：W，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：