曝光装置以及制造方法制造方法及图纸

技术编号:38626072 阅读:17 留言:0更新日期:2023-08-31 18:27
本发明专利技术提供一种曝光装置以及制造方法。为了实现装置的小型化,即占用区域的窄小化,曝光装置包括:光学系统,照射基板;载台装置,一边保持基板一边移动;保持部,保持基板;腔室,收容光学系统、载台装置及保持部;以及控制装置,使载台装置移动。载台装置包括保持装置。保持部在基板位于腔室的开口内时位于能够保持基板的位置。控制装置在载台装置位于保持部下方的状态下,使保持装置保持通过保持部而被保持的基板中不与曝光区域重叠的部分,使保持装置能够从保持部接收基板,在基板的所述部分被保持装置保持的状态下,移动载台装置使载台装置自保持部远离,且一边使保持基板的载台装置相对于光学系统移动,一边使光学系统照射基板。板。板。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及制造方法
[0001]相关分案申请
[0002]本申请是2020年03月12日所提出的申请号为202080036828.6、专利技术名称为《曝光装置、平板显示器制造方法以及元件制造方法》的专利技术专利申请的分案申请。


[0003]本专利技术涉及一种曝光装置以及制造方法。

技术介绍

[0004]在制造液晶显示元件、半导体元件等电子元件的光刻工序中,使用将形成于掩模(或标线片(reticule))的图案使用能量束而转印至基板(包含玻璃或塑料等的基板、半导体晶片等)上的曝光装置。
[0005]此种曝光装置中,使用基板搬送装置来进行保持基板的载台装置上的已曝光的基板的搬出、以及新的基板向载台装置上的搬入。作为基板的搬送方法,例如已知有专利文献1所记载的方法。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1:国际公开第2013/150787号

技术实现思路

[0009]解决问题的技术手段
[0010]曝光装置包括:曝光装置本体;腔室,收容所述曝光装置本体;基板保持部,接纳并保持由所述腔室外的外部搬送机器人搬送而来的基板,且设在所述腔室内;以及基板交接装置,进行所述基板从所述外部搬送机器人向所述基板保持部的交接、所述基板从所述基板保持部向所述曝光装置本体所具有的保持装置上的交接、所述基板从所述保持装置上向所述外部搬送机器人的交接。
[0011]另外,后述的实施方式的结构也可适当改良,而且,还可使至少一部分被其他的结构物代替。进而,关于其配置无特别限定的构成要件并不限于实施方式中公开的配置,可配置在能够达成其功能的位置。
附图说明
[0012]图1的(a)是概略地表示第一实施方式的曝光装置的图,图1的(b)是图1的(a)的A

A线剖面图。
[0013]图2是图1的(a)的横剖面图。
[0014]图3的(a)是取出图1的(a)的基板搬出/搬入单元而表示的图,图3的(b)是从+X侧观察图3的(a)的基板搬出/搬入单元的状态的图。
[0015]图4的(a)、图4的(b)是载台装置附近的平面图以及图1的(a)的A

A线剖面图,且是
用于说明第一实施方式的基板更换动作的图(其一)。
[0016]图5的(a)、图5的(b)是载台装置附近的平面图以及图1的(a)的A

A线剖面图,且是用于说明第一实施方式的基板更换动作的图(其二)。
[0017]图6的(a)、图6的(b)是载台装置附近的平面图以及图1的(a)的A

A线剖面图,且是用于说明第一实施方式的基板更换动作的图(其三)。
[0018]图7的(a)、图7的(b)是载台装置附近的平面图以及图1的(a)的A

A线剖面图,且是用于说明第一实施方式的基板更换动作的图(其四)。
[0019]图8的(a)、图8的(b)是载台装置附近的平面图以及图1的(a)的A

A线剖面图,且是用于说明第一实施方式的基板更换动作的图(其五)。
[0020]图9的(a)、图9的(b)是载台装置附近的平面图以及图1的(a)的A

A线剖面图,且是用于说明第一实施方式的基板更换动作的图(其六)。
[0021]图10的(a)、图10的(b)是载台装置附近的平面图以及图1的(a)的A

A线剖面图,且是用于说明第一实施方式的基板更换动作的图(其七)。
[0022]图11的(a)、图11的(b)是载台装置附近的平面图以及图1的(a)的A

A线剖面图,且是用于说明第一实施方式的基板更换动作的图(其八)。
[0023]图12是表示第二实施方式的曝光装置的图(其一)。
[0024]图13是表示第二实施方式的曝光装置的图(其二)。
[0025]图14是第三实施方式的曝光装置的横剖面图。
[0026]图15的(a)、图15的(b)是载台装置附近的平面图以及纵剖面图,且是用于说明第三实施方式的基板更换动作的图(其一)。
[0027]图16的(a)、图16的(b)是载台装置附近的平面图以及纵剖面图,且是用于说明第三实施方式的基板更换动作的图(其二)。
[0028]图17的(a)、图17的(b)是载台装置附近的平面图以及纵剖面图,且是用于说明第三实施方式的基板更换动作的图(其三)。
[0029]图18的(a)、图18的(b)是载台装置附近的平面图以及纵剖面图,且是用于说明第三实施方式的基板更换动作的图(其四)。
[0030]图19的(a)、图19的(b)是第四实施方式的曝光装置的载台装置附近的平面图以及纵剖面图,且是用于说明基板更换动作的(其一)。
[0031]图20的(a)、图20的(b)是第四实施方式的曝光装置的载台装置附近的平面图以及纵剖面图,且是用于说明基板更换动作的(其二)。
[0032]图21的(a)、图21的(b)是用于说明第五实施方式的基板搬出/搬入单元的图。
[0033]图22的(a)以及图22的(b)是第六实施方式的曝光装置的横剖面图以及纵剖面图,且是用于说明基板更换动作的图(其一)。
[0034]图23的(a)以及图23的(b)是第六实施方式的曝光装置的横剖面图以及纵剖面图,且是用于说明基板更换动作的图(其二)。
[0035]图24是第六实施方式的曝光装置的纵剖面图,且是用于说明基板更换动作的图(其三)。
[0036]图25是第七实施方式的曝光装置的纵剖面图。
[0037]图26的(a)、图26的(b)是第八实施方式的曝光装置的横剖面图以及纵剖面图,且
是用于说明基板更换动作的图(其一)。
[0038]图27的(a)、图27的(b)是用于说明第八实施方式的基板更换动作的图(其二)。
[0039]图28的(a)、图28的(b)是用于说明第八实施方式的基板更换动作的图(其三)。
[0040]图29的(a)、图29的(b)是用于说明第八实施方式的基板更换动作的图(其四)。
[0041]图30的(a)、图30的(b)是用于说明第八实施方式的基板更换动作的图(其五)。
[0042]图31的(a)、图31的(b)是第九实施方式的曝光装置的横剖面图以及纵剖面图,且是用于说明基板更换动作的图(其一)。
[0043]图32的(a)、图32的(b)是用于说明第九实施方式的曝光装置中的基板更换动作的图(其二)。
[0044]图33的(a)、图33的(b)是第十实施方式的曝光装置的横剖面图,且是用于说明基板更换动作的图(其一)。
[0045]图34的(a)、图34的(b)是第十实施方式的曝光装置的横剖面图,且是用于说明基板更换动作的图(其二)。
[0046]图35的(a)、图35的(b)是第十一实施方式的曝光本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置,包括:光学系统,照射基板;载台装置,一边保持所述基板一边移动;保持部,保持所述基板;腔室,收容所述光学系统、所述载台装置及所述保持部;以及控制装置,使所述载台装置移动,所述载台装置包括保持装置,所述保持部在所述基板位于所述腔室的开口内时位于能够保持所述基板的位置,所述控制装置在所述载台装置位于所述保持部下方的状态下,使所述保持装置保持通过所述保持部而被保持的所述基板中不与曝光区域重叠的部分,使所述保持装置能够从所述保持部接收所述基板,在所述基板的所述部分被所述保持装置保持的状态下,移动所述载台装置使所述载台装置自所述保持部远离,且一边使保持所述基板的所述载台装置相对于所述光学系统移动,一边使所述光学系统照射所述基板。2.根据权利要求1所述的曝光装置,其中所述保持部保持基板,使所述基板相对于所述载台装置的上表面而倾斜。3.根据权利要求1所述的曝光装置,其中所述保持部变更保持所述基板的姿势,使所述基板从相对于所述载台装置的上表面而倾斜的状态成为相对于所述载台装置的所述上表面而接近平行的状态。4.根据权利要求1至3中任一项所述的所述的曝光装置,其中所述控制装置在所述载台装置位于所述保持部下方的状态下,使所述保持装置接触保持通过所述保持部而被非接触保持的所述部分,使所述保持装置能够非接触保持所述基板,在所述基板的所述部分被所述保持装置接触保持的状态下,移动所述载台装置使所述载台装置自所述保持部远离,且使接触保持所述基板的所述部分的所述保持装置下降,而使所述基板接触保持于所述载台装置。5.根据权利要求4所述的曝光装置,其中所述载台装置包括向所述基板的背面供给气体的孔,所述控制装置通过经由所述孔向所述基板的所述背面供给所述气体而使所述基板非接触保持于所述载台装置。6.根据权利要求1所述的曝光装置,其中所述控制装置使所述基板在所述保持部上滑动且所述保持装置能够从所述保...

【专利技术属性】
技术研发人员:青木保夫
申请(专利权)人:株式会社尼康
类型:发明
国别省市:

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