一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法及相关装置制造方法及图纸

本申请公开了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，涉及光刻机技术领域，包括：根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈

【技术实现步骤摘要】
一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法及相关装置


[0001]本申请涉及光刻机
，特别涉及一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法；还涉及一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存储介质。

技术介绍

[0002]光刻是芯片制造最为关键的环节。光刻设备结构复杂，涉及光、机、电、气等领域，在光刻机工件台运动过程中所产生的扰动将严重制约着光刻机性能的提升。精确估计内外部扰动，自适应地对这些扰动进行补偿，以提高控制系统的干扰抑制能力，具有重要的研究价值与工程应用意义。然而，现有扰动观测方案存在测量带宽窄、精度低、适应能力不足等问题。因此，提供一种能够在线精确估计内外扰动的技术方案已成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

技术实现思路

[0003]本申请的目的是提供一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，能够在线精确估计光刻机工件台的内外扰动。本申请的另一个目的是提供一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存储介质，均具有上述技术效果。
[0004]为解决上述技术问题，本申请提供了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，包括：
[0005]根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；
[0006]获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈
‑
反馈控制器的输出信号；
[0007]根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
[0008]可选的，所述非线性扰动观测器的数学模型为可选的，所述非线性扰动观测器的数学模型为可选的，所述非线性扰动观测器的数学模型为为所述总扰动估计值，c为所述非线性扰动观测器的增益，m为所述光刻机工件台的等效质量，λ
c
为阻尼，λ
k
为弹性系数，K
P,motor
为比例增益，u
fb
为所述前馈
‑
反馈控制器的输出信号，z为中间变量，x1为所述光刻机工件台的实际位移，x2为x1的一阶导数。
[0009]可选的，所述前馈
‑
反馈控制器的输出信号为反馈环节根据输出的信号；
[0010]u
fb
为所述输出信号，K
P,pos
为位置环的比例增益，K
P,vel
为速度环的比例增益，K
I,vel
为速度环的积分增益，ε
*
(k)＝ε(k)+u
ff
(k)，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，u
ff
为前馈环节的前馈输出，v为所述光刻机工件台的移动速度，k为第k时刻。
[0011]可选的，当所述光刻机工件台处于移动阶段时，所述前馈环节根据
得到所述前馈输出；
[0012]u
ff
为前馈环节的前馈输出，i为迭代次数，k为第k时刻，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，ξ为迭代开关因子，ρ是步长因子，β为惯性系数，λ为系数，为时变参数。
[0013]可选的，当所述光刻机工件台处于整定阶段时，所述前馈环节将所述光刻机工件台的实际误差与预设增益相乘得到所述前馈输出。
[0014]可选的，还包括：
[0015]根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数；所述参数包括阻尼与弹性系数。
[0016]可选的，所述根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数包括：
[0017]采用支持向量回归模型对所述波特图曲线进行非线性拟合得到所述光刻机工件台的传递函数，并根据所述传递函数确定所述二阶抽象模型的参数。
[0018]为解决上述技术问题，本申请还提供了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置，包括：
[0019]确定模块，用于根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；
[0020]获取模块，用于获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈
‑
反馈控制器的输出信号；
[0021]计算模块，用于根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
[0022]为解决上述技术问题，本申请还提供了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测设备，包括：
[0023]存储器，用于存储计算机程序；
[0024]处理器，用于执行所述计算机程序时实现如上所述的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的步骤。
[0025]为解决上述技术问题，本申请还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上所述的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的步骤。
[0026]本申请所提供的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，包括：根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈
‑
反馈控制器的输出信号；根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
[0027]可见，本申请所提供的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，对光刻机工件台进行数学建模，并根据光刻机工件台的二阶抽象模型确定非线性扰动观测器的数学模型，在此基础上，获取光刻机工件台的实际位移与前馈
‑
反馈控制器的输出信号，以光刻机工件台的实际位移与前馈
‑
反馈控制器的输出信号作为变量，基于非线性扰动观测器的数学模型，得到光刻机工件台的总扰动，实现光刻机工件台内外扰动的在线精确估计。
[0028]本申请所提供的光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存
储介质均具有上述技术效果。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对现有技术和实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1为本申请实施例所提供的一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的流程示意图；
[0031]图2为本申请实施例所提供的一种光刻机工件台微运动学的二阶抽象模型的示意图；
[0032]图3为本申请实施例所提供的一种光刻机工件台高精密运动控制框图；
[0033]图4为本申请实施例所提供的一种PIV控制器的示意图；
[0034]图5为本申请实施例所提供的一种前馈补偿控制器的示意图；
[0035]图6为本申请实施例所提供的一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置的示意图；
[0036]图7为本申请实施例所提供的一种光刻机工件台的内外扰动在线观测设备的示意图。
具体实施方式
[0037]本申请的核心是提供一种光刻机工件台的内外扰动在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，其特征在于，包括：根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈
‑
反馈控制器的输出信号；根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。2.根据权利要求1所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，所述非线性扰动观测器的数学模型为的数学模型为为所述总扰动估计值，c为所述非线性扰动观测器的增益，m为所述光刻机工件台的等效质量，λ
c
为阻尼，λ
k
为弹性系数，K
P,motor
为比例增益，u
fb
为所述前馈
‑
反馈控制器的输出信号，z为中间变量，x1为所述光刻机工件台的实际位移，x2为x1的一阶导数。3.根据权利要求2所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，所述前馈
‑
反馈控制器的输出信号为反馈环节根据输出的信号；u
fb
为所述输出信号，K
P,pos
为位置环的比例增益，K
P,vel
为速度环的比例增益，K
I,vel
为速度环的积分增益，ε
*
(k)＝ε(k)+u
ff
(k)，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，u
ff
为前馈环节的前馈输出，v为所述光刻机工件台的移动速度，k为第k时刻。4.根据权利要求3所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，当所述光刻机工件台处于移动阶段时，所述前馈环节根据得到所述前馈输出；u
...

【专利技术属性】
技术研发人员：章军辉，郭晓满，王静贤，陈明亮，董接莲，庄宝森，陈大鹏，
申请(专利权)人：无锡物联网创新中心有限公司，
类型：发明
国别省市：