一种微粒清扫装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种微粒清扫装置及方法，涉及半导体技术领域，该微粒清扫装置包括：微粒检测模块、预警模块、清扫模块、开关模块；预警模块分别与微粒检测模块、开关模块连接；清扫模块分别与开关模块、微粒检测模块连接；清扫模块设置在微粒检测模块的上方；其中，清扫模块通过微粒检测模块的检测数据调整清扫区域，预警模块还用于调整清扫时间；本发明专利技术实施能够在完成检测后，直接根据检测结果，在超出设定规范的情况下实现掩模版reticle的自动清扫，简化人为转置掩模版reticle流程，提高工作效率，并在此基础上，利用简单的电气件优化，根据现有检测装置及报警装置实现自动清扫，且不需要提供额外的清扫承载平台。要提供额外的清扫承载平台。要提供额外的清扫承载平台。

【技术实现步骤摘要】
一种微粒清扫装置及方法


[0001]本专利技术涉及光刻机检测领域，具体而言，涉及一种微粒清扫装置及方法。

技术介绍

[0002]现有技术中，每次将掩模版reticle装载到光刻机中时必须进行微粒检测，例如Nikon光刻机，会检测掩模版reticle上的微粒particle是否符合标准，若不符合标准则直接输出报警，且仅会在此基础上输出报警，并不会进行清扫，必须通过工程师手动将reticle从光刻机unloader出来，更换reticle case，并转置到专门的清洁房间的清洁平台上，利用清扫装置手动对reticle进行微粒particle清扫，清扫后须换回case,返回光刻机，再次手动将reticle loader到光刻机进行PPD检测，如果检测超标，重复上面动作，直到符合PPD检测。
[0003]在此基础上，会大大提高reticle转置及人为干预处理的时间，降低生产效率，并且在case切换及人为转置掩模版以及手动清洁过程中，增加因掩模版reticle保护膜损伤而造成生产停线的风险。

技术实现思路

[0004]本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微粒清扫装置，其特征在于，包括：微粒检测模块、预警模块、清扫模块、开关模块；所述预警模块分别与所述微粒检测模块、所述开关模块连接；所述清扫模块分别与所述开关模块、所述微粒检测模块连接；所述清扫模块设置在所述微粒检测模块的上方；其中，所述清扫模块通过所述微粒检测模块的检测数据调整清扫区域，所述预警模块还用于调整清扫时间。2.根据权利要求1所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述微粒清扫装置还包括：电源模块；所述电源模块分别连接所述微粒检测模块、所述预警模块、所述清扫模块，用于为所述微粒检测模块、所述预警模块、所述清扫模块供电。3.根据权利要求1所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述清扫模块包括喷扫子模块，所述喷扫子模块的喷扫角度与喷扫高度根据所述微粒检测模块的检测数据调整。4.根据权利要求3所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述喷扫子模块的喷扫角度包括[15
°
，110
°
]。5.根据权利要求1所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述开关模块包括电磁阀，所述电磁阀与所述预警模块电连接；当预警模块处于报警态时，所述电磁阀处于第一工作态；当预警模块处于正常态时，所述电磁阀处于第二工作态。6.根据权利要求1所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述微粒清扫装置还包括手动开关模块，所述手动开关设置在所述微粒检测模块与所述预警模块的连...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴金钢，
申请(专利权)人：捷捷微电南通科技有限公司，
类型：发明
国别省市：