兆声波清洗方法、装置及兆声波清洗设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种兆声波清洗方法、装置及兆声波清洗设备，属于兆声波清洗技术领域。本发明专利技术实施例提供的兆声波清洗方法、装置及兆声波清洗设备，当兆声波清洗设备对晶圆清洗时，兆声波清洗设备的控制器获取兆声喷头的设定参数，根据设定参数确定运行区域，并根据设定参数中的分区数及时间比例确定兆声喷头在每一个分区内的运行时间，根据兆声喷头在每个分区的运行时间拟合兆声喷头在每个分区内的运行轨迹，兆声波清洗设备的控制器即可控制兆声喷头以此运行轨迹，对从设定的运行起点到运行终点这一特定区域的进行特别清洗，从而提高了对晶圆的清洗效果。

【技术实现步骤摘要】
兆声波清洗方法、装置及兆声波清洗设备
本专利技术涉及兆声波清洗
，具体而言，涉及一种兆声波清洗方法、装置及兆声波清洗设备。
技术介绍
兆声波清洗的原理是由换能器发出频率为0.8MHz，波长为1.5m的高能声波，产生高能(850kHz)频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对晶圆(wafer)进行清洗。传统的单晶圆兆声波清洗设备都由带有兆声喷头的机械摆臂和晶圆旋转托架组成，晶圆旋转托架在旋转时，机械摆臂带着兆声喷头在晶圆表面做扫描运动，使晶圆得到清洗。目前，单晶圆兆声波清洗设备中的机械摆臂带着兆声喷头都是匀速运动，只能对晶圆中心到晶圆边缘的区域进行清洗，不能对晶圆的特定区域进行特别清洗，导致晶圆清洗效果不佳。
技术实现思路
针对上述现有技术中存在的问题，本专利技术提供了一种兆声波清洗方法、装置及兆声波清洗设备，可以使兆声波清洗设备的控制器控制兆声喷头以特定的运行轨迹对从设定的运行起点到运行终点这一特定区域的进行特别清洗，从而提高了对晶圆的清洗效果。第一方面，本专利技术实施例提供了一种兆声波清洗方法，其中，应用于兆声波清洗设备的控制器，所述方法包括：获取兆声喷头的设定参数；所述设定参数至少包括以下之一：运行频率、运行起点、运行终点、晶圆的分区数量、每个分区的时间比例；根据所述设定参数确定所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域；根据所述设定参数确定所述晶圆的分区及所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间；根据所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间拟合所述兆声喷头在每个所述分区内的运行轨迹；按照所述运行轨迹及所述运行时间对每个所述分区进行清洗。结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，根据所述设定参数确定所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域的步骤，包括：获取所述运行起点和所述运行终点；将所述运行起点到所述运行终点之间包括的区域作为所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域。结合第一方面的第一种可能的实施方式，本专利技术实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，根据所述设定参数确定所述晶圆的分区及所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间的步骤，包括：获取所述分区数量、每个所述分区的时间比例及所述运行频率；根据所述运行区域及所述分区数量确定每个所述分区；根据所述运行频率和每个所述分区的时间比例确定所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间。结合第一方面的第二种可能的实施方式，本专利技术实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，用于采用以下公式拟合所述兆声喷头在每个所述分区内的运行轨迹：Yn＝A[n]*(t-tn-1)3+B[n]*(t-tn-1)2+C[n]*(t-tn-1)+D[n]；其中，n为第n个分区；t为第n个分区的运行时间；tn-1为第n-1个分区的最后一个时间点；Yn为兆声喷头在第n个分区的运行轨迹的坐标；A[n]为第n个分区的三次系数；B[n]第n个分区的二次系数；C[n]为第n个分区的一次系数；D[n]第n个分区的常数项。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种兆声波清洗装置，其中，应用于兆声波清洗设备的控制器，所述装置包括：获取模块，用于获取兆声喷头的设定参数；所述设定参数至少包括以下之一：运行频率、运行起点、运行终点、晶圆的分区数量、每个分区的时间比例；第一确定模块，用于根据所述设定参数确定所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域；第二确定模块，用于根据所述设定参数确定所述晶圆的分区及所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间；拟合模块，用于根据所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间拟合所述兆声喷头在每个所述分区内的运行轨迹；清洗模块，用于按照所述运行轨迹及所述运行时间对每个所述分区进行清洗。结合第二方面，本专利技术实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，所述第一确定模块还用于：获取所述运行起点和所述运行终点；将所述运行起点到所述运行终点之间包括的区域作为所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域。结合第二方面的第一种可能的实施方式，本专利技术实施例提供了第二方面的第二种可能的实施方式，其中，所述第二确定模块还用于：获取所述分区数量、每个所述分区的时间比例及所述运行频率；根据所述运行区域及所述分区数量确定每个所述分区；根据所述运行频率和每个所述分区的时间比例确定所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间。结合第二方面的第二种可能的实施方式，本专利技术实施例提供了第二方面的第三种可能的实施方式，其中，所述拟合模块具体用于：采用以下公式拟合所述兆声喷头在每个所述分区内的运行轨迹：Yn＝A[n]*(t-tn-1)3+B[n]*(t-tn-1)2+C[n]*(t-tn-1)+D[n]；其中，n为第n个分区；t为第n个分区的运行时间；tn-1为第n-1个分区的最后一个时间点；Yn为兆声喷头在第n个分区的运行轨迹的坐标；A[n]为第n个分区的三次系数；B[n]第n个分区的二次系数；C[n]为第n个分区的一次系数；D[n]第n个分区的常数项。第三方面，本专利技术实施例还提供了一种兆声波清洗设备，其中，包括：存储器及控制器，所述存储器用于存储并支持控制器执行第一方面的任一项所述方法的程序，所述控制器被配置为用于执行所述存储器中存储的程序。第四方面，本专利技术实施例还提供了一种一种具有控制器可执行的非易失的程序代码的计算机可读介质，其中，所述程序代码使所述控制器执行第一方面的任一所述方法。本专利技术实施例带来了以下有益效果：本专利技术实施例提供的兆声波清洗方法、装置及兆声波清洗设备，当兆声波清洗设备对晶圆清洗时，获取兆声喷头的设定参数，根据设定参数确定运行区域，并根据设定参数中的分区数及时间比例确定兆声喷头在每一个分区内的运行时间，根据兆声喷头在每个分区的运行时间拟合兆声喷头在每个分区内的运行轨迹，兆声波清洗设备的控制器即可控制兆声喷头以此运行轨迹，对从设定的运行起点到运行终点这一特定区域的进行特别清洗，从而提高了对晶圆的清洗效果。本专利技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术一实施例所提供的兆声波清洗方法的流程图；图2为本专利技术一实施例所提供的兆声喷头运行轨迹的参数设定图；图3为本专利技术一实施例所提供的兆声波喷头相对于晶圆的运行轨迹图；图4为本专利技术另一实施例所提供的兆声波清洗装置的结构框图；图5为本专利技术又一实施例所提供的兆声波清洗设备的结构框图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种兆声波清洗方法，其特征在于，应用于兆声波清洗设备的控制器，所述方法包括：获取兆声喷头的设定参数；所述设定参数至少包括以下之一：运行频率、运行起点、运行终点、晶圆的分区数量、每个分区的时间比例；根据所述设定参数确定所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域；根据所述设定参数确定所述晶圆的分区及所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间；根据所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间拟合所述兆声喷头在每个所述分区内的运行轨迹；按照所述运行轨迹及所述运行时间对每个所述分区进行清洗。

【技术特征摘要】
1.一种兆声波清洗方法，其特征在于，应用于兆声波清洗设备的控制器，所述方法包括：获取兆声喷头的设定参数；所述设定参数至少包括以下之一：运行频率、运行起点、运行终点、晶圆的分区数量、每个分区的时间比例；根据所述设定参数确定所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域；根据所述设定参数确定所述晶圆的分区及所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间；根据所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间拟合所述兆声喷头在每个所述分区内的运行轨迹；按照所述运行轨迹及所述运行时间对每个所述分区进行清洗。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述设定参数确定所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域的步骤，包括：获取所述运行起点和所述运行终点；将所述运行起点到所述运行终点之间包括的区域作为所述兆声喷头在所述晶圆上的运行区域。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，根据所述设定参数确定所述晶圆的分区及所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间的步骤，包括：获取所述分区数量、每个所述分区的时间比例及所述运行频率；根据所述运行区域及所述分区数量确定每个所述分区；根据所述运行频率和每个所述分区的时间比例确定所述兆声喷头在每个所述分区的运行时间。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，用于采用以下公式拟合所述兆声喷头在每个所述分区内的运行轨迹：Yn＝A[n]*(t-tn-1)3+B[n]*(t-tn-1)2+C[n]*(t-tn-1)+D[n]；其中，n为第n个分区；t为第n个分区的运行时间；tn-1为第n-1个分区的最后一个时间点；Yn为兆声喷头在第n个分区的运行轨迹的坐标；A[n]为第n个分区的三次系数；B[n]第n个分区的二次系数；C[n]为第n个分区的一次系数；D[n]第n个分区的常数项。5.一种兆声波清洗装置，其特征在于，兆声波清洗设备的控制器，所述装置包括：获取模块，用于获取兆声喷头的设定参数；所述设定参数至少包括以下之一：运行频...

【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉浪，周庆亚，田洪涛，张金环，杨旭，李婷，蒋锡兵，
申请(专利权)人：北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11