【技术实现步骤摘要】
一种光学检测系统及其检测方法
本专利技术涉及光学检测
，更具体地说，涉及一种光学检测系统及其检测方法。
技术介绍
随着半导体芯片向小型化、多功能化以及高度集成化方向发展，其特征面积越来越小，加工难度越来越大，在加工过程中出现错误的可能性也越来越大。由于任一加工步骤中的芯片出现错误都可能导致整个芯片失效，因此，需要在关键的加工步骤之后引入芯片检测工序，通过检测芯片的表面三维形貌和膜厚等信息，及时排除不合格芯片，提高芯片产品的合格率。光学检测方法是检测半导体芯片的主要方法之一，其将光源出射的光照射到待测物表面，再根据待测物的反射光获得芯片的表面三维形貌和膜厚等信息。虽然现有的光学检测方法具有快速、非接触和无损伤等优点，但是，该光学检测方法主要是针对固定面积的区域进行检测，由于在半导体检测中经常需要对不同面积的区域进行检测，因此，亟需一种检测面积可调的光学检测系统。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种光学检测系统及其检测方法，以解决现有技术中的光学检测方法只能检测固定面积区域的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种光学检测系统，包括光发射单元...
【技术保护点】
1.一种光学检测系统，其特征在于，包括光发射单元、光收集单元、成像单元、处理单元和测量单元；所述光发射单元用于发射光线，以使所述光线照射到待测样品上，被所述待测样品反射形成反射光；所述光收集单元用于收集所述反射光，并将所述反射光分成第一光和第二光；所述成像单元用于根据所述第一光，获得所述待测样品的图像以及所述待测样品的任一待测区域的图像；所述处理单元用于对所述待测样品的图像进行识别，提取所述待测样品的图像中各个区域的特征信息，并根据所述区域的特征信息判断所述区域是否为待测区域，若是，获取所述待测区域的位置信息和面积信息，对任一所述待测区域的图像进行识别，提取所述待测区域的图...
【技术特征摘要】
1.一种光学检测系统，其特征在于，包括光发射单元、光收集单元、成像单元、处理单元和测量单元；所述光发射单元用于发射光线，以使所述光线照射到待测样品上，被所述待测样品反射形成反射光；所述光收集单元用于收集所述反射光，并将所述反射光分成第一光和第二光；所述成像单元用于根据所述第一光，获得所述待测样品的图像以及所述待测样品的任一待测区域的图像；所述处理单元用于对所述待测样品的图像进行识别，提取所述待测样品的图像中各个区域的特征信息，并根据所述区域的特征信息判断所述区域是否为待测区域，若是，获取所述待测区域的位置信息和面积信息，对任一所述待测区域的图像进行识别，提取所述待测区域的图像中各个结构的特征信息，并根据所述结构的特征信息判断所述结构是否为待测结构，若是，获取所述待测结构的位置信息和面积信息，根据所有的待测区域的位置信息生成第一检测路径，根据任一所述待测区域中所有的待测结构的位置信息生成第二检测路径，并控制所述待测样品进行相应移动，根据所述待测区域或所述待测结构的面积信息，调整所述光收集单元的放大倍率，以使所述测量单元的当前检测区域的面积与所述待测区域或所述待测结构的面积相同或近似相同；所述测量单元用于根据所述第二光，获得所述待测结构的结构信息，所述结构信息包括膜厚信息。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光收集单元包括可调管镜；所述处理单元通过调整所述可调管镜的焦距，调整所述光收集单元的放大倍率。3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述可调管镜包括变焦镜头。4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括电动移动平台；所述电动移动平台用于承载所述待测样品，并在所述处理单元的控制下，带动所述待测样品移动。5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述测量单元包括光谱仪，所述光谱仪的光接收面一侧设置有至少一个光阑；所述测量单元的当前检测区域的面积由所述光收集单元的放大倍率和所述光阑的孔径决定。6.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述光收集单元包括第一分束器、物镜、所述可调管镜和第二分束器；所述第一分束器用于将所述光发射单元发射的光线反射至所述物镜；所述物镜用于对所述第一分束器反射的光线进行会聚，使所述光线垂直入射到所述待测样品的表面，并收集所述待测样品反射的光线；所述第一分束器还用于将所述物镜...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘虹遥，路鑫超，陈鲁，杨乐，马砚忠，张朝前，孙旭晴，江丽雯，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，深圳中科飞测科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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