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一种绝缘栅底场效应管制造技术

技术编号:20246911 阅读:26 留言:0更新日期:2019-01-30 00:45
本实用新型专利技术提供一种绝缘栅底场效应管,具有P型硅片衬底(1),在P型硅片衬底(1)中具有两个N+区(2),在位于N+区(2)一边的P型硅片衬底(1)表面设置有上绝缘层(3),两个N+区(2)分别有源极(4)和漏板(5)引出上绝缘层(3)外,其特征在于,在源极(4)与漏极(5)之间的上绝缘层(3)上引出栅极(6),在P型硅片衬底(6)另一面设置有下绝缘层(7),在下绝缘层(7)外表面设置铝箔(8),在铝箔(8)上引出绝缘底(9)。本实用新型专利技术可以实现源极、漏极互换,可以控制交、直流电流,用于音响技术方面,具有电子管较好的高中音效果,也具备晶体管的较好的低音效果,而且还具有比电子管的失真小等特点。

【技术实现步骤摘要】
一种绝缘栅底场效应管
本技术涉及半导体制造领域,特别是涉及一种绝缘栅场效应管。
技术介绍
现在的场效应管一般要严格区分正负极加于源极漏极,即只能控制直流电流,不能控制交流电流。但一些解码器需要将控制信号与被控制信号完全分开,而且是用电压控制交流电流,但现有的场效应管不适合上述要求。中国专利公开的“一种沟槽型绝缘栅场效应管”(201110422748.7),包括N型外延层下形成有P型注入层,N型外延层上部形成有沟槽,沟槽内形成有栅氧化层和多晶硅栅,沟槽两侧形成有P型阱和N型有源区,N型有源区位于P阱上方,其中,N型有源区中形成有圆形镂空结构,层间氧化介质形成于沟槽、圆形镂空结构和N型有源区上方,接触孔下方具有P型注入区,接触孔穿过层间氧化介质将N型有源区和P型注入区连出。该绝缘栅场效应管不能用电压控制,不能解控制信号与被控制信号完全分开。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种绝缘栅场效应管,其是基于现有绝缘栅场效应管的延伸,可以实现源极、漏极互换,可以控制交、直流电流。为实现上述目的,本技术的实施方案为:一种绝缘栅底场效应管,具有P型硅片衬底,在P型硅片衬底中具有两个N+区,在位于N+区本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种绝缘栅底场效应管,具有P型硅片衬底(1),在P型硅片衬底(1)中具有两个N+区(2),在位于N+区(2)一边的P型硅片衬底(1)表面设置有上绝缘层(3),两个N+区(2)分别有源极(4)和漏极(5)引出上绝缘层(3)外,其特征在于,在源极(4)与漏极(5)之间的上绝缘层(3)上引出栅极(6),在P型硅片衬底(1)另一面设置有下绝缘层(7),在下绝缘层(7)外表面设置铝箔(8),在铝箔(8)上引出绝缘底(9)。

【技术特征摘要】
1.一种绝缘栅底场效应管,具有P型硅片衬底(1),在P型硅片衬底(1)中具有两个N+区(2),在位于N+区(2)一边的P型硅片衬底(1)表面设置有上绝缘层(3),两个N+区(2)分别有源极(4)和漏极(5)引出上绝缘层(3)外,其特征在于,在源极(4)与漏极(5)之间的上绝缘层(3)上引出栅极(6),在P型硅片衬底(1)另一面...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑治龙覃仕明
申请(专利权)人:郑治龙覃仕明
类型:新型
国别省市:湖南,43

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