【技术实现步骤摘要】
一种多谷透射元件及其制备方法
本专利技术涉及光学滤波元件,尤其涉及一种多谷透射元件及其制备方法。
技术介绍
多谷透射元件具有多个选择透射衰减带特性。精密多谷透射薄膜元件通过数十层交替的高低折射率薄膜堆叠实现多谷透射光谱,其需要复杂的膜厚精确控制、长时间的镀膜周期、高昂的生产成本,并且不适于制成柔性元件。现有的精密多谷透射薄膜元件只适用于高精密的仪器设备中,并不适用于如眼镜、电子产品贴膜、汽车玻璃等民用消费品。多谷透射元件的用途广泛,最常见应用于蓝光防护、激光防护、防眩光或探测/传感等
中。可见光一般指太阳辐射光谱中380nm~760nm波谱段的辐射。在可见光之中,蓝光的波长比较短,接近紫外线,所以其影响和紫外线相似,属于穿透效应。有害蓝光(420nm~450nm)大量存在于电脑显示器、荧光灯、手机、数码产品、显示屏、LED等光线中,该波长内的蓝光会使眼睛内的黄斑区毒素量增高,造成黄斑病变,而黄斑病变会影响中央视觉,导致眼睛出现盲点,并且目前尚未有医疗方法能治愈这一疾病。近年来防蓝光镜片大量涌向市场。一般的防蓝光镜片,是通过在短波长的蓝光区域去除部分能量的高能 ...
【技术保护点】
1.一种多谷透射元件,其特征在于,包括基底,所述基底上沉积有具有若干个选择透射衰减带特性的介质层;所述的介质层由依次沉积在基底上的高折射率材料层和低折射率材料层两层薄膜组成;基底与低折射率材料之间的折射率差值小于或等于0.2。
【技术特征摘要】
1.一种多谷透射元件,其特征在于,包括基底,所述基底上沉积有具有若干个选择透射衰减带特性的介质层;所述的介质层由依次沉积在基底上的高折射率材料层和低折射率材料层两层薄膜组成;基底与低折射率材料之间的折射率差值小于或等于0.2。2.根据权利要求1所述的多谷透射元件,其特征在于,所述的基底为玻璃或塑料;所述的低折射率材料为二氧化硅、三氧化二铝、氟化镁和氟化钇中的一种。3.根据权利要求2所述的多谷透射元件,其特征在于,所述的低折射率材料层的厚度为50~1000nm。4.根据权利要求1所述的多谷透射元件,其特征在于,所述的高折射率材料为二氧化钛、二氧化铪、五氧化二钽、氮化硅、硫化锌或硅中的一种。5.根据权利要求4所述的多谷透射元件,其特征在于,所述的高折射率材料层的厚度为5~200nm。6.根据权利要求1所述的多谷透射元件,其特征在于,所述的基底为K9玻璃;所述的低折射率材料为二氧化硅或氟化镁,低折射率材料层的厚度为...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨陈楹,沈伟东,
申请(专利权)人:杭州灯之塔科技有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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