光栅结构的制备系统及制备方法技术方案

本公开提供了一种光栅结构的制备系统及制备方法，属于光栅技术领域。该光栅结构包括基底上的多个相互隔离的光栅区域，光栅结构的制备系统包括激光装置、光路系统和样品台，其中，激光装置用于提供激光束；光路系统用于将所述激光束分为至少两束相干光束，并控制各所述相干光束在目标区域干涉；样品台用于固定和移动所述基底，使得所述基底的各个所述光栅区域按照预设路径依次处于所述目标区域并曝光形成光栅。该光栅结构的制备系统及制备方法能够快速、准确的制备光栅结构。

【技术实现步骤摘要】
光栅结构的制备系统及制备方法
本公开涉及光栅
，尤其涉及一种光栅结构的制备系统及制备方法。
技术介绍
光栅元件是一种重要的光学元件，广泛应用于光谱学、计量、光通信和信息处理等领域。光栅加工目前根据加工精度和衬底等的要求，分为电子束直写、紫外曝光等方法。然而，现有方法较为复杂，难以快速、准确地在同一基底的不同区域分别形成不同的光栅。举例而言，电子束直写虽然可以在硅基片实现纳米级的任意形状的结构，但是光栅加工时间长，加工费用高，导致加工成本高。所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种光栅结构的制备系统及制备方法，以便快速、准确的制备光栅结构。为实现上述专利技术目的，本公开采用如下技术方案：根据本公开的第一个方面，提供一种光栅结构的制备系统，所述光栅结构包括基底上的多个相互隔离的光栅区域；所述光栅结构的制备系统包括：激光装置，用于提供激光束；光路系统，用于将所述激光束分为至少两束相干光束，并控制各所述相干光束在目标区域干涉；样品台，用于固定和移动所述基底，使得所述基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光栅结构的制备系统，所述光栅结构包括基底上的多个相互隔离的光栅区域；其特征在于，所述光栅结构的制备系统包括：激光装置，用于提供激光束；光路系统，用于将所述激光束分为至少两束相干光束，并控制各所述相干光束在目标区域干涉；样品台，用于固定和移动所述基底，使得所述基底的各个所述光栅区域按照预设路径依次处于所述目标区域并曝光形成光栅。

【技术特征摘要】
1.一种光栅结构的制备系统，所述光栅结构包括基底上的多个相互隔离的光栅区域；其特征在于，所述光栅结构的制备系统包括：激光装置，用于提供激光束；光路系统，用于将所述激光束分为至少两束相干光束，并控制各所述相干光束在目标区域干涉；样品台，用于固定和移动所述基底，使得所述基底的各个所述光栅区域按照预设路径依次处于所述目标区域并曝光形成光栅。2.根据权利要求1所述的光栅结构的制备系统，其特征在于，所述光路系统包括：分束器，用于将所述激光束分为第一相干光束和第二相干光束；第一反射镜，用于将所述第一相干光束反射向所述目标区域；第二反射镜，用于将所述第二相干光束反射向所述目标区域；第一控制机构，用于控制所述第一反射镜的位置和与所述第一相关光束的夹角，进而控制所述第一相干光束在所述目标区域的入射角；第二控制机构，用于控制所述第二反射镜的位置和与所述第二相关光束的夹角，进而控制所述第二相干光束在所述目标区域的入射角。3.根据权利要求1所述的光栅结构的制备系统，其特征在于，所述样品台包括：样品托，用于固定所述基底；第一平移机构，用于控制所述样品托沿第一方向平移；第二平移机构，用于控制所述第一平移机构沿第二方向平移；旋转机构，用于控制所述第二平移机构在旋转平面内进行旋转运动，所述旋转平面平行于所述第一方向和所述第二方向。4.一种光栅结构的制备方法，所述光栅结构包括基底上的多个相互隔离的光栅区域；其特征在于，所述光栅结构的制备方法包括：提供一激光束和所述基底，所述基底包括多个所述光栅区域；将所述激光束分为至少两束相干光束，并控制各相干光束在目标区域干涉；控制基底的各个光栅区域按照预设路径依次处于目标区域并曝光形成光栅。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟宪芹，王维，陈小川，孟宪东，王方舟，凌秋雨，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11