基板处理装置、基板处理方法以及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。该基板处理装置具备：第一加载端口(2A、2B)和第二加载端口(2C、2D)，所述第一加载端口(2A、2B)和第二加载端口(2C、2D)以分别载置用于容纳基板的搬送容器的方式分别设置于左右方向上的一侧和另一侧；处理部(D2)，其对基板进行处理；检查组件(4)，其用于对处理部(D2)处理前或处理后的基板进行检查；以及基板搬送机构，其用于向处理部(D2)、载置于加载端口的搬送容器以及检查组件(4)交接所述基板。

Baseboard processing device, baseboard processing method and storage medium

The invention provides a substrate processing device, a substrate processing method and a storage medium. The substrate processing device is provided with: the first loading port (2A, 2B) and the second loading port (2C, 2D), the first loading port (2A, 2B) and the second loading port (2C, 2D) are respectively arranged on one side and the other side of the left and right direction in the way of carrying containers for holding the substrate, the processing unit (D2) processes the substrate, and the inspection component (4) is used for processing the processing unit (D2). The substrate before or after treatment is inspected, and the substrate conveying mechanism is used for handing over the substrate to the processing unit (D2), the conveying container loaded on the loading port and the inspection component (4).

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置、基板处理方法以及存储介质
本专利技术涉及一种具备对基板进行检查的检查组件的基板处理装置中的技术。
技术介绍
在半导体装置的制造工艺中的光刻法中，通过在作为基板的半导体晶圆(以下记载为晶圆)的表面涂布抗蚀剂来形成抗蚀膜，并且在该抗蚀膜曝光之后进行显影处理来形成抗蚀图案。在进行这样的抗蚀膜的形成和显影处理的涂布显影装置中，有时设置用于对该涂布显影装置中的各处理之前或各处理之后的晶圆的表面状态进行检查的检查组件。但是，由于设置该检查组件，存在装置中能够设置用于对晶圆进行处理的组件的空间被削减的风险。也就是说，由于空间的原因，有时难以在涂布显影装置内设置、增设检查组件。并且，例如有时对该检查组件进行定期维护，以使该检查组件进行高精度的检查，从而有时需要将检查组件以能够容易地进行该维护的方式设置。因而，寻求一种能够将检查组件以解决这些问题的方式设置在装置内的技术。另外，在专利文献1中记载了一种涂布显影装置，其具备：承载件块，其具备加载端口，该加载端口载置用于容纳晶圆的承载件；处理块，其具备多个对晶圆进行处理的处理组件；以及接口组件，其将处理块与曝光装置连接，其中，在上述的承载件块的横向上设置有检查组件。但是，根据该装置的结构，由于检查组件导致装置的封装变大，设置于承载件块的晶圆的搬送机构向各个处理块和检查组件搬送晶圆，因此该搬送机构的负荷变大，有可能导致装置的生产率变低。因而，也寻求防止由于设置上述的检查组件装置而导致的生产率的下降和装置的封装的增大。专利文献1：日本特开2003-151878号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是鉴于这样的情况而完成的，其目的在于提供一种在具备对基板进行检查的检查组件的基板处理装置中得到高的生产率的技术。用于解决问题的方案本专利技术的基板处理装置的特征在于，具备：第一加载端口和第二加载端口，所述第一加载端口和第二加载端口以分别载置用于容纳基板的搬送容器的方式分别设置于左右方向上的一侧和另一侧；处理部，其对所述基板进行处理；检查组件，其用于对所述处理部处理前或处理后的所述基板进行检查；以及基板搬送机构，其用于向所述处理部、载置于加载端口的搬送容器以及所述检查组件交接所述基板。也可以是，在上述的基板处理装置中，所述检查组件在左右方向上设置于所述第一加载端口与所述第二加载端口之间，所述基板搬送机构具备：第一基板搬送机构，其设置于所述检查组件的左右方向上的一侧，用于向所述处理部和载置于所述第一加载端口的搬送容器分别交接所述基板；第二基板搬送机构，其设置于所述检查组件的左右方向上的另一侧，用于向所述检查组件和载置于所述第二加载端口的搬送容器分别交接基板；以及交接部，其用于在所述第一基板搬送机构与所述第二基板搬送机构之间交接所述基板。本专利技术的基板处理方法的特征在于，包括以下工序：将用于容纳基板的搬送容器分别载置于分别设置于左右方向上的一侧和另一侧的第一加载端口和第二加载端口；利用处理部对所述基板进行处理；在所述处理部处理前或处理后，利用在左右方向上设置于所述第一加载端口与所述第二加载端口之间的检查组件对所述基板进行检查；利用设置于所述检查组件的左右方向上的一侧的第一基板搬送机构向所述处理部和载置于所述第一加载端口的搬送容器分别交接基板；利用设置于所述检查组件的左右方向上的另一侧的第二基板搬送机构向所述检查组件和载置于所述第二加载端口的搬送容器分别交接基板；以及借助交接部在所述第一基板搬送机构与所述第二基板搬送机构之间交接所述基板。一种存储介质，保存有使用于基板处理装置的计算机程序，所述存储介质的特征在于，所述程序被编入有步骤以执行本专利技术的基板处理方法。专利技术的效果在本专利技术中，在设置于左右方向的第一加载端口与第二加载端口之间设置检查组件。而且，在检查组件的左右方向上的一侧设置有向基板的处理部和第一加载端口的搬送容器分别交接基板的第一基板搬送机构，在检查组件的左右方向上的另一侧设置有向检查组件和载置于第二加载端口的搬送容器分别交接基板的第二基板搬送机构，借助交接部在各基板搬送机构之间交接基板。根据这样的结构，能够防止一个基板搬送机构的负荷变大，因此能够抑制装置的生产率的下降。附图说明图1是作为本专利技术的基板处理装置的一个实施方式的涂布显影装置的横剖俯视图。图2是所述涂布显影装置的纵剖侧视图。图3是构成所述涂布显影装置的承载件块的主视图。图4是所述承载件块的立体图。图5是设置于所述承载件块的加载端口的门的概要立体图。图6是设置于所述承载件块的检查组件的纵剖侧视图。图7是所述检查组件的概要俯视图。图8是所述承载件块的纵剖主视图。图9是表示所述承载件块中的晶圆的搬送路径的说明图。图10是表示所述承载件块中的晶圆的搬送路径的说明图。图11是表示所述承载件块中的晶圆的搬送路径的说明图。图12是表示所述承载件块中的晶圆的搬送路径的说明图。图13是表示承载件块的其它结构的主视图。图14是表示承载件块的其它结构的主视图。图15是表示承载件块的其它结构的主视图。图16是表示承载件块的其它结构的纵剖侧视图。图17是表示承载件块的其它结构的主视图。附图标记说明C：承载件；D1：承载件块；D2：处理部；1：涂布显影装置；2A～2D：加载端口；21：搬送口；23：移动载置台；24：升降门；25：旋转门；4：检查组件；5A、5B：搬送机构；5：缓冲组件。具体实施方式[第一实施方式]分别参照图1的横剖俯视图、图2的纵剖侧视图来说明本专利技术的基板处理装置的第一实施方式所涉及的涂布显影装置1。承载件块D1、处理块D2、接口块D3按照所记载的顺序在横向上直线状地连接而构成涂布显影装置1。接口块D3与曝光机D4连接。简单地说明各块D1～D3，向承载件块D1搬送容纳有直径例如为300mm的圆形的基板即晶圆W的承载件C，该承载件块D1将承载件C内的晶圆W向装置内搬送。承载件C例如为被称作FOUP(FrontOpeningUnifiedPod：前开式晶圆传送盒)的晶圆W的搬送容器，并且包括容器主体和设置于该容器主体的前表面的盖。另外，上述的处理块D2向晶圆W供给各种药液来进行防反射膜的形成、抗蚀膜的形成，并且通过对抗蚀膜进行显影来形成抗蚀图案。曝光机D4使晶圆W曝光以使通过上述的显影来形成抗蚀图案，接口块D3在处理块D2与曝光机D4之间交接晶圆W。晶圆W以承载件C→承载件块D1→处理块D2→接口块D3→曝光机D4→接口块D3→处理块D2→承载件块D1→承载件C的顺序被搬送并且接受处理。在该搬送中，将晶圆W在搬入处理块D2之前或被从处理块D2搬出之后搬送到设置于承载件块D1的检查组件4，来对所述晶圆W的表面的状态进行检查。具体地说，例如检查有无异物、图案的大小有无异常。此后将在向处理块D2搬入前进行的检查记载为处理前检查，将在从处理块D2搬出后进行的检查记载为处理后检查。接下来，还参照图3的主视图、图4的立体图来说明承载件块D1。此外，为了在图4中表示承载件块D1的正面的各部，将承载件块D1分割为上下两部分来表示。另外，在以下的说明中，将承载件块D1侧设为前方侧、将接口块D3侧设为后方侧来进行说明，只要不对说明中的左侧、右侧特别进行说明，就是从前方朝向后方观察时的左侧、右侧。承载件块D1具备矩形的壳体11，壳体11的各侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：第一加载端口和第二加载端口，所述第一加载端口和第二加载端口以分别载置用于容纳基板的搬送容器的方式分别设置于左右方向上的一侧和另一侧；处理部，其对所述基板进行处理；检查组件，其用于对所述处理部处理前或处理后的所述基板进行检查；以及基板搬送机构，其用于向所述处理部、载置于加载端口的搬送容器以及所述检查组件交接所述基板。

【技术特征摘要】
2017.06.16 JP 2017-1188071.一种基板处理装置，其特征在于，具备：第一加载端口和第二加载端口，所述第一加载端口和第二加载端口以分别载置用于容纳基板的搬送容器的方式分别设置于左右方向上的一侧和另一侧；处理部，其对所述基板进行处理；检查组件，其用于对所述处理部处理前或处理后的所述基板进行检查；以及基板搬送机构，其用于向所述处理部、载置于加载端口的搬送容器以及所述检查组件交接所述基板。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述检查组件在左右方向上设置于所述第一加载端口与所述第二加载端口之间，所述基板搬送机构具备：第一基板搬送机构，其设置于所述检查组件的左右方向上的一侧，用于向所述处理部和载置于所述第一加载端口的搬送容器分别交接所述基板；第二基板搬送机构，其设置于所述检查组件的左右方向上的另一侧，用于向所述检查组件和载置于所述第二加载端口的搬送容器分别交接基板；以及交接部，其用于在所述第一基板搬送机构与所述第二基板搬送机构之间交接所述基板。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一加载端口、所述第二加载端口以及所述检查组件设置为在左右方向上成一行。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一加载端口和第二加载端口中的至少一方由多个加载端口构成，所述多个加载端口包括在上下方向上分别设置的上侧的加载端口和下侧的加载端口。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述上侧的加载端口具备旋转门，所述旋转门绕沿着前后方向的旋转轴进行旋转，由此对基板的搬送口进行开闭。6.根据权利要求2至5中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述检查组件兼作所述交接部。7.根据权利要求2至6中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述交接部兼作待机部，该待机部用于载置基板以在向所述检查组件搬入所述基板之前使该基板待机。8.根据权利要求2至5中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，在所述基板处理装置设置有控制部，所述控制部输出控制信号，以使得：所述第一基板搬送机构和第二基板搬送机构中的一方只进行来自所述搬送容器的基板的接受和向所述搬送容器的基板的搬送中的、来自所述搬送容器的基板的接受；以及所述第一基板搬送机...

【专利技术属性】
技术研发人员：中野征二，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP