【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法。
技术介绍
1、在专利文献1中，公开了从处理液喷嘴向基片释放处理液的技术。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2019-40958号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术问题
2、本专利技术提供一种抑制颗粒的产生的技术。
3、用于解决技术问题的技术方案
4、本专利技术的一个方式的处理液释放喷嘴是释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴。处理液释放喷嘴包括喷嘴主体部和角度改变机构。喷嘴主体部包括：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与第1流路连通的第2流路，并相对于第1主体部弯曲的第2主体部。角度改变机构相对于固定喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的喷嘴主体部的角度。
5、专利技术效果
6、依照本专利技术，能够抑制颗粒的产生。
【技术保护点】
1.一种释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的处理液释放喷嘴，其特征在于：
3.如权利要求1或2所述的处理液释放喷嘴，其特征在于：
4.如权利要求1～3中任一项所述的处理液释放喷嘴，其特征在于：
5.一种喷嘴臂，其特征在于，包括：
6.如权利要求5所述的喷嘴臂，其特征在于：
7.如权利要求5或6所述的喷嘴臂，其特征在于：
8.如权利要求7所述的喷嘴臂，其特征在于：
9.如权利要求7或8所述的喷嘴臂，其特征在于：
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【技术特征摘要】
1.一种释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的处理液释放喷嘴，其特征在于：
3.如权利要求1或2所述的处理液释放喷嘴，其特征在于：
4.如权利要求1～3中任一项所述的处理液释放喷嘴，其特征在于：
5.一种喷嘴臂，其特征在于，包括：
6.如权利要求5所述的喷嘴臂，其特征在于：
7.如权利要求5或6所述的喷嘴臂，其特征在于：
8.如权利要求7所述的喷嘴臂...
【专利技术属性】
技术研发人员：天野嘉文，相浦一博，植木达博，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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