The invention discloses an improved semiconductor material production technical equipment, including a main body, which is provided with a cleaning chamber, an opening groove connected with the cleaning chamber on the left end face of the main body, a first cavity in the main body on the upper side of the cleaning chamber, a second cavity in the main body on the right side of the first cavity, and the cleaning. The main body on the right side of the cavity is provided with a third cavity, the third cavity is located at the lower side of the second cavity, the sliding fit of the cleaning cavity is connected with a lifting frame, the rotation fit of the first cavity is connected with an inner thread sleeve with an upper and lower extension, the bottom end of the inner thread sleeve is connected with the top of the cleaning cavity, and the inner thread sleeve is connected with each other. The bottom extension end of the lifting screw is fixed and matched with the top end face of the lifting frame body.
【技术实现步骤摘要】
一种改进型的半导体材料生产技术设备
本专利技术涉及半导体清洗加工
,具体为一种改进型的半导体材料生产技术设备。
技术介绍
随着高科技时代进步,计算机及笔记本电脑等可携式电子装置广为社会大众应用,而半导体制造不论是在硅晶圆、集成电路制造还是IC芯片构装等,生产制造过程均相当繁杂,并在制造过程中所使用的化学物质种类亦相当多,而这些化学物质或溶剂的残留不仅会于生产制造过程中对空气造成污染,而且还会对硅晶圆、集成电路或IC芯片的合格率产生巨大影响,为了提高半导体制造的产品合格率,在半导体的清洗过程中,即必须确保半导体上面的化学物质已清洗干净,不能有任何的化学物质残留,传统的清洗设备价格昂贵,占地面积大,不利于中小企业生产使用,且高额维护成本会对半导体工厂获利产生巨大的影响。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种改进型的半导体材料生产技术设备,用于克服现有技术中的上述缺陷。根据本专利技术的一种改进型的半导体材料生产技术设备,包括主机体,所述主机体内设有清洗腔,所述主机体左侧端面内设有与所述清洗腔连通设置的开口槽,所述清洗腔上侧的所述主机体内设有第一空腔,所述第一空腔右侧的所述主机体内设有第二空腔,所述清洗腔右侧的所述主机体内设有第三空腔,所述第三空腔位于所述第二空腔下侧位置,所述清洗腔内滑动配合连接有升降架体,所述第一空腔内转动配合连接有上下延伸设置的内螺纹套,所述内螺纹套底部末端与所述清洗腔顶部相通设置,所述内螺纹套内螺纹配合连接有向下延伸设置的升降螺杆,所述升降螺杆底部延伸末端与所述升降架体顶部端面固定配合连接,所述第一空腔内的所述内螺纹套外壁上周向固设 ...
【技术保护点】
1.一种改进型的半导体材料生产技术设备,包括主机体,其特征在于:所述主机体内设有清洗腔,所述主机体左侧端面内设有与所述清洗腔连通设置的开口槽,所述清洗腔上侧的所述主机体内设有第一空腔,所述第一空腔右侧的所述主机体内设有第二空腔,所述清洗腔右侧的所述主机体内设有第三空腔,所述第三空腔位于所述第二空腔下侧位置,所述清洗腔内滑动配合连接有升降架体,所述第一空腔内转动配合连接有上下延伸设置的内螺纹套,所述内螺纹套底部末端与所述清洗腔顶部相通设置,所述内螺纹套内螺纹配合连接有向下延伸设置的升降螺杆,所述升降螺杆底部延伸末端与所述升降架体顶部端面固定配合连接,所述第一空腔内的所述内螺纹套外壁上周向固设有第一锥轮,所述第一空腔与所述第二空腔之间的部分内转动配合连接有左右延伸设置的转动轴,所述转动轴左侧延伸末端伸入所述第一空腔内且左侧延伸末端处固设有用以与所述第一锥轮动力配合连接的第二锥轮,所述转动轴右侧延伸末端伸入所述第二空腔内且右侧延伸末端处固设有第三锥轮,所述第二空腔与所述第三空腔之间的部分内转动配合连接有上下延伸设置的内花键转套,所述内花键转套顶部延伸末端伸入所述第二空腔内且顶部延伸末端处固设 ...
【技术特征摘要】
1.一种改进型的半导体材料生产技术设备,包括主机体,其特征在于:所述主机体内设有清洗腔,所述主机体左侧端面内设有与所述清洗腔连通设置的开口槽,所述清洗腔上侧的所述主机体内设有第一空腔,所述第一空腔右侧的所述主机体内设有第二空腔,所述清洗腔右侧的所述主机体内设有第三空腔,所述第三空腔位于所述第二空腔下侧位置,所述清洗腔内滑动配合连接有升降架体,所述第一空腔内转动配合连接有上下延伸设置的内螺纹套,所述内螺纹套底部末端与所述清洗腔顶部相通设置,所述内螺纹套内螺纹配合连接有向下延伸设置的升降螺杆,所述升降螺杆底部延伸末端与所述升降架体顶部端面固定配合连接,所述第一空腔内的所述内螺纹套外壁上周向固设有第一锥轮,所述第一空腔与所述第二空腔之间的部分内转动配合连接有左右延伸设置的转动轴,所述转动轴左侧延伸末端伸入所述第一空腔内且左侧延伸末端处固设有用以与所述第一锥轮动力配合连接的第二锥轮,所述转动轴右侧延伸末端伸入所述第二空腔内且右侧延伸末端处固设有第三锥轮,所述第二空腔与所述第三空腔之间的部分内转动配合连接有上下延伸设置的内花键转套,所述内花键转套顶部延伸末端伸入所述第二空腔内且顶部延伸末端处固设有用以与所述第三锥轮动力配合连接的第四锥轮,所述第三空腔内滑动配合连接调节滑块,所述调节滑块内螺纹配合连接有上下延伸设置的调节螺杆,所述调节螺杆底部延伸末端与调节电机动力配合连接,所述调节滑块左侧端面内固设有齿条部,所述内花键转套底部端面内滑动配合连接有向下延伸设置的外花键轴,所述外花键轴底部延伸末端伸入所述第三空腔内且末端处动力连接有驱动电机,所述驱动电机外表面固嵌于所述调节滑块顶部端面内,所述清洗腔...
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