清洗系统及清洗方法技术方案

本发明专利技术涉及一种清洗系统，其包括至少一清洗装置、至少一机械臂、至少一晶片存取装置。本发明专利技术还涉及一种清洗方法。清洗系统由清洗装置、机械臂、晶片存取装置组合而成，实现晶片的自动化传送和清洗，来代替现有的人工清洗，以避免表面清洗后的晶片出现水痕、水印、吸笔印等缺陷，提高生产率，降低生产成本。

Cleaning system and cleaning method

The invention relates to a cleaning system, which comprises at least one cleaning device, at least one mechanical arm and at least one chip access device. The invention also relates to a cleaning method. The cleaning system is composed of a cleaning device, a mechanical arm and a wafer access device. It realizes the automatic transmission and cleaning of wafers to replace the existing manual cleaning, so as to avoid defects such as water marks, watermarks and suction marks on wafers after surface cleaning, improve productivity and reduce production costs.

【技术实现步骤摘要】
清洗系统及清洗方法
本专利技术涉及一种半导体晶片清洗领域，尤其涉及一种半导体晶片的清洗系统及清洗方法。
技术介绍
以砷化镓（GaAs）为代表的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料由于其独特的电学性能，在卫星通讯、微波器件、激光器及发光二极管领域有着十分广泛的应用。异质结双极晶体管、高电子迁移率晶体管、LED等器件的制作需要在高质量的衬底表面用分子束外延或者有机金属化合物气相外延技术生长外延结构。随着半导体器件工艺制作的不断完善，器件尺寸越来越小，利用率也越来越高，半导体衬底的质量尤其是晶片表面的质量对器件的可靠性和稳定性影响也越来越大。晶片清洗是获取高质量、高稳定性的半导体晶片重要的环节之一，也是半导体晶片加工最后一个环节，是获取高质量晶片表面不可或缺的步骤，而晶片清洗后表面的稳定性也是至关重要的。目前，几乎所有的半导体晶片的清洗都是采用人工清洗，由于晶片清洗对工艺要求很高，比如：清洗手法、药液浓度、药液温度、药液清洗时间、冲水时间等，如果采用人工清洗，每个人的习惯不一样，清洗手法不一样，有可能影响晶片清洗的一致性，而且人工清洗，在半导体制备外延工艺后，表面经常出现水痕、水印、吸笔印等缺陷。半导本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗系统，其包括至少一清洗装置、至少一机械臂、至少一晶片存取装置；其特征在于：每一所述清洗装置包括一清洗缸、可升降并可旋转的一立柱、安装在立柱上的一底座、一气缸、一端固定在气缸上的一伸缩管、一第一控制器、一第一电机，所述气缸能够带动伸缩管前后移动，所述气缸的行程受第一控制器控制，所述清洗缸包围底座并与底座共同形成一清洗腔，所述伸缩管为一中空管，所述伸缩管的另一端伸入清洗腔内，所述晶片固定放置在底座上，所述第一电机与立柱连接并为立柱升降和旋转提供动力，所述第一电机受第一控制器控制；每一所述机械臂包括一第二电机、电性连接第二电机并控制第二电机的一第二控制器、支撑第二电机的一电机套、一伸缩臂...

【技术特征摘要】
1.一种清洗系统，其包括至少一清洗装置、至少一机械臂、至少一晶片存取装置；其特征在于：每一所述清洗装置包括一清洗缸、可升降并可旋转的一立柱、安装在立柱上的一底座、一气缸、一端固定在气缸上的一伸缩管、一第一控制器、一第一电机，所述气缸能够带动伸缩管前后移动，所述气缸的行程受第一控制器控制，所述清洗缸包围底座并与底座共同形成一清洗腔，所述伸缩管为一中空管，所述伸缩管的另一端伸入清洗腔内，所述晶片固定放置在底座上，所述第一电机与立柱连接并为立柱升降和旋转提供动力，所述第一电机受第一控制器控制；每一所述机械臂包括一第二电机、电性连接第二电机并控制第二电机的一第二控制器、支撑第二电机的一电机套、一伸缩臂套件、用于连接第二电机及伸缩臂套件的一升降轴以及活动连接在伸缩臂套件一端上的一传送板，所述升降轴与电机套同轴连接且升降轴能够沿着第二电机和/或第二电机套进行轴向升降，所述伸缩臂套件的另一端与升降轴活动连接；每一所述晶片存取装置包括提供旋转动力的一第三电机、一固定板、两卡塞、两夹板、一轴承支持座、一旋转轴、固定于轴承支持座的两侧壁上的两轴承以及一第三控制器，所述两轴承相对设置，所述旋转轴与两轴承相互配合，所述固定板连接在两轴承之间并能够随着旋转轴旋转，所述两夹板均固定在固定板的侧面上，每一卡塞上有若干平行分布的卡槽，所述两卡塞分别固定于两夹板的侧面上，所述晶片放置在卡槽里，所述第三电机受第三控制器控制，将旋转动力通过旋转轴传递给固定板和夹板。2.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于：所述清洗装置包括控制喷淋药液的一喷淋部件，所述喷淋部件包括一控制阀、若干药液罐、...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘留，廖彬，周铁军，沈艳东，
申请(专利权)人：广东先导先进材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44