溅射镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种溅射镀膜设备，其技术方案要点包括柜体、开设于所述柜体内的真空室、固定于所述真空室中部位置的阴极柱、间隔设置于所述阴极柱外壁周侧的若干立柱，所述立柱的外壁上沿其长度方向套设有放置架，所述柜体位于真空室下方设置有驱动室，所述立柱的一端穿过真空室底面位于驱动室内套接有转动齿轮，所述驱动室内设置有驱动齿轮，所述转动齿轮均与驱动齿轮啮合且驱动齿轮穿过驱动室底面位于柜体底部连接有驱动电机，本实用新型专利技术具有提升待镀工件的镀膜效果的效果。

【技术实现步骤摘要】
溅射镀膜设备
本技术涉及镀膜
，更具体地说它涉及一种溅射镀膜设备。
技术介绍
目前，公告号为CN203284455U的中国专利公开的溅射镀膜装置，包括：真空室，所述真空室底部敞口设置；底板，所述底板设于所述真空室底部敞口下方，且所述底板形状与所述真空室底部敞口形状相适应；夹具旋转机构，所述夹具旋转机构的转轴竖直贯穿所述底板中央，所述转轴的底部和顶部分别连接有动力装置和支撑盘，所述支撑盘水平设置且边缘竖直设有至少一个夹具支撑架，所述夹具支撑架上固定有被镀工件夹具；至少一个靶体，所述靶体与所述夹具支撑架平行设置，所述靶体内腔装有磁铁，所述靶体面对所述夹具支撑架的一侧设有靶材；水冷装置，所述水冷装置通过管道与所述靶体一端连通。现有技术中类似于上述的溅射镀膜装置，其通过将待镀工件放置于夹具支撑架上，在真空状态下通过电场作用使得氩气电离产生氩离子，氩离子将靶材上的原子打出飞溅至待镀工件上形成膜。现有的镀膜装置的夹具支撑架一般设置为同轴旋转的结构，但由于整个夹具支撑架同轴旋转使得支撑架上的夹具位围绕结局支撑架的转动轴旋转，夹具位于转动轴的相对位置始终保持相对静止的状态，不利于原子在待镀工件本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种溅射镀膜设备，包括柜体（1）、开设于所述柜体（1）内的真空室（2）、固定于所述真空室（2）中部位置的阴极柱（3）、间隔设置于所述阴极柱（3）外壁周侧的若干立柱（4），所述立柱（4）的外壁上沿其长度方向套设有放置架（41），其特征在于：所述柜体（1）位于真空室（2）下方设置有驱动室（5），所述立柱（4）的一端穿过真空室（2）底面位于驱动室（5）内套接有转动齿轮（51），所述驱动室（5）内设置有驱动齿轮（52），所述转动齿轮（51）均与驱动齿轮（52）啮合且驱动齿轮（52）穿过驱动室（5）底面位于柜体（1）底部连接有驱动电机（6）。

【技术特征摘要】
1.一种溅射镀膜设备，包括柜体（1）、开设于所述柜体（1）内的真空室（2）、固定于所述真空室（2）中部位置的阴极柱（3）、间隔设置于所述阴极柱（3）外壁周侧的若干立柱（4），所述立柱（4）的外壁上沿其长度方向套设有放置架（41），其特征在于：所述柜体（1）位于真空室（2）下方设置有驱动室（5），所述立柱（4）的一端穿过真空室（2）底面位于驱动室（5）内套接有转动齿轮（51），所述驱动室（5）内设置有驱动齿轮（52），所述转动齿轮（51）均与驱动齿轮（52）啮合且驱动齿轮（52）穿过驱动室（5）底面位于柜体（1）底部连接有驱动电机（6）。2.根据权利要求1所述的溅射镀膜设备，其特征在于：所述若干立柱（4）位于阴极柱（3）外部等间隔周向设置。3.根据权利要求2所述的溅射镀膜设备，其特征在于：所述真空室（2）底面固定有环形支架（23），所述环形支架（23）上开设有供所述若干立柱（4）穿过的限位孔（25）。4.根据权利要求3所述的溅射镀膜设备，其特征在于：所处限位...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅志坚，苏良民，李峰，
申请(专利权)人：青岛华磊真空镀膜有限公司，
类型：新型
国别省市：山东,37