蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法制造方法及图纸

提供一种在蒸镀材料蒸镀后，可以统一且以确实短的时间执行蒸镀掩膜的分离的蒸镀方法、蒸镀掩膜及蒸镀装置。包括：形成蒸镀掩膜(1)的步骤(S1)，所述蒸镀掩膜(1)具有至少一部分由强磁性体构成的金属层(金属支承层)；磁化金属层的步骤(S2)，通过对蒸镀掩膜(1)的金属层施加电磁场来磁化金属层；吸附步骤(S3)，被蒸镀基板(2)与蒸镀掩膜(1)的位置对准后，使电磁石(3)中间夹住被蒸镀基板(2)吸附蒸镀掩膜(1)；堆积步骤(S4)，在蒸镀掩膜(1)的对置侧配置蒸镀源(5)，从蒸镀源(5)蒸发蒸镀材料，在被蒸镀基板(2)上堆积蒸镀材料；以及分离步骤(S5)，通过使电磁石(3)产生排斥蒸镀掩膜(1)的磁场，从蒸镀掩膜(1)分离电磁石(3)及被蒸镀基板(2)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法
本专利技术是关于在蒸镀有机EL显示装置的有机层时等使用的蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法。更详细而言，是关于可以容易进行蒸镀时的蒸镀掩膜的拆装的蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及使用其蒸镀方法的有机EL显示装置的制造方法。
技术介绍
制造有机EL显示装置时，例如在支承基板上形成TFT等的开关元件的装置基板上对应每一像素层叠有机层。由于有机层对于水分不能弱蚀刻，因此，通过装置基板上配置蒸镀掩膜，经由该蒸镀掩膜蒸镀有机材料，只在必要的像素上层叠必要的有机层。作为其蒸镀掩膜，使用公知的金属掩膜，但因为近年来为了形成具有更精细的开口部的图案的蒸镀掩膜，取代金属掩膜使用树脂膜作为掩膜材料，从维持其树脂膜的机械强度的观点来看，倾向于使用一面的一部分设置金属层的复合型的蒸镀掩膜。使用该蒸镀掩膜，例如蒸镀有机EL显示装置用的有机材料时，例如上述的金属掩膜或复合型的蒸镀掩膜的金属支承层或者其周围形成的框体(frame)中使用磁性体，夹住层叠有机材料的装置基板使永久磁石或电磁石与蒸镀掩膜吸附，即，以所谓的磁气夹盘的方法固定(例本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀方法，其特征在于包括以下步骤：形成蒸镀掩膜步骤，形成具有至少一部分由强磁性体构成的金属层的蒸镀掩膜；磁化金属层步骤，对所述蒸镀掩膜的金属层施加磁场，磁化所述金属层；吸附步骤，被蒸镀基板与蒸镀掩膜位置对准后，使电磁石与蒸镀掩膜中间夹住被蒸镀基板吸附；堆积步骤，在所述蒸镀掩膜的对置侧配置蒸镀源，从所述蒸镀源蒸发蒸镀材料，在所述被蒸镀基板上堆积蒸镀材料；以及分离步骤，通过使所述电磁石产生排斥所述蒸镀掩膜的磁场，从所述蒸镀掩膜分离所述电磁石及所述被蒸镀基板。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.10 JP 2016-0472101.一种蒸镀方法，其特征在于包括以下步骤：形成蒸镀掩膜步骤，形成具有至少一部分由强磁性体构成的金属层的蒸镀掩膜；磁化金属层步骤，对所述蒸镀掩膜的金属层施加磁场，磁化所述金属层；吸附步骤，被蒸镀基板与蒸镀掩膜位置对准后，使电磁石与蒸镀掩膜中间夹住被蒸镀基板吸附；堆积步骤，在所述蒸镀掩膜的对置侧配置蒸镀源，从所述蒸镀源蒸发蒸镀材料，在所述被蒸镀基板上堆积蒸镀材料；以及分离步骤，通过使所述电磁石产生排斥所述蒸镀掩膜的磁场，从所述蒸镀掩膜分离所述电磁石及所述被蒸镀基板。2.如权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，以所述电磁石进行所述蒸镀掩膜的金属层的磁化。3.如权利要求1或2所述的蒸镀方法，其特征在于，对一个所述蒸镀掩膜配置多个所述电磁石，并在从所述蒸镀掩膜分离的步骤中，使所述蒸镀掩膜的周围部与中心部排斥力不同。4.如权利要求3所述的蒸镀方法，其特征在于，所述排斥力从所述蒸镀掩膜的周围部往中央部逐渐变化地形成。5.如权利要求1至4中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于，从所述蒸镀掩膜除去所述被蒸镀基板后，消磁所述蒸镀掩膜的磁化。6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于，一边冷却所述电磁石，一边使所述电磁石动作。7.一种蒸镀装置，包括：...

【专利技术属性】
技术研发人员：西田光志，岸本克彥，
申请(专利权)人：鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71