掩膜条及掩膜板制造技术

本实用新型专利技术涉及一种掩膜条及掩膜板，该掩膜条包括本体，所述本体上设置有蒸镀区及两组过渡区，两组过渡区分别沿本体延伸方向相对设置，蒸镀区位于两组过渡区之间，每组过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组过渡区内的刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组过渡区内的刻蚀图形关于与第一中心线垂直的第二中心线对称分布，且每个刻蚀图形均包括应力分散部，应力分散部具有向远离第二中心线方向凸伸的弧形边。上述掩膜条中，通过多个应力分散部分解本体被拉伸时产生的内力。应力分散部的弧形边向远离第二中心线的方向凸出，而掩膜条为了抵抗变形产生的内力指向第二中心线，并在弧形边处被分散减弱，减弱拉伸掩膜条时产生褶皱的现象。

【技术实现步骤摘要】
掩膜条及掩膜板
本技术涉及显示器制备
，特别是涉及掩膜条及掩膜板。
技术介绍
目前的显示类型主要包括液晶显示(LiquidCrystalDisplay,LCD)、有机发光二极管显示(OrganicLight—EmittingDiode,OLED)、等离子显示(PlasmaDisplayPanel,PDP)和电子墨水显示等多种。其中，OLED显示器以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。精细金属掩膜(FMMMask)模式，是通过蒸镀方式将有机发光材料按照预定程序蒸镀到低温多晶硅背板上，利用精细掩模板上的图形，蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。目前的精细掩模板结构通常包括多个平行排列的掩模条以及支撑框架，将每一掩膜条张紧固定于支撑框架上，并且每一掩模条上设置有蒸镀区，蒸镀区内开设有多个用于蒸镀像素材料的像素开口。在实际生产中，专利技术人发现，采用现有技术中的精细掩膜板，蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏差，影响产品的性能。
技术实现思路
基于此，本技术提供了一种掩膜条，解决了蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏出的问题，提高了产品性能。为实现以上目的，本技术提供了一种掩膜条。一种掩膜条，包括：本体，所述本体具有第一中心线和第二中心线，所述第一中心线和所述第二中心线均为所述本体的中线，且所述第一中心线与所述本体的延伸方向平行，所述第二中心线与所述第一中心线垂直；设置于所述本体上的蒸镀区及两组过渡区，两组所述过渡区分别沿所述本体延伸方向相对设置，所述蒸镀区位于两组所述过渡区之间；其中，每组所述过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于所述第二中心线对称分布；所述刻蚀图形包括应力分散部，所述应力分散部具有向远离所述第二中心线方向凸起的弧形边。上述掩膜条中每组过渡区内的刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，并且两组过渡区内的刻蚀图形关于与第一中心线垂直的第二中心线轴对称分布，保证过渡区在整个本体的对称性，避免因为过渡区的不对称而使掩膜条受力不均而褶皱。并且，每个过渡区内设置有多个刻蚀图形，每个刻蚀图形包括应力分散部且位于拉伸方向上，通过多个应力分散部分解本体被拉伸时产生的内力，进而可以减小掩膜条张紧时因为拉伸方向受力较大而在拉伸线周围产生褶皱的现象。当掩膜条受到由第二中心线指向端部的拉力时，掩膜条为了抵抗变形产生会在拉伸方向上产生较大的应力，该应力传递至弧形边处被分散减弱，进而使拉伸方向的应力与其他区域应力之间的差距减小，使掩膜条整体的应力较为均匀，进而减弱张紧掩膜条时产生褶皱的现象，避免蒸镀区内的像素开口伸展程度不同而使像素位置异位，防止蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏差，提高产品性能。在其中一个实施例中，所述本体延伸方向的两端分别包括第一拉伸作用点和第二拉伸作用点，所述第一拉伸作用点和所述第二拉伸作用点关于所述第二中心线对称分布，且所述第一拉伸作用点和所述第二拉伸作用点之间形成拉伸作用带，每组所述过渡区内的至少一个所述刻蚀图形分布于所述拉伸作用带上。在其中一个实施例中，所述刻蚀图形还包括应力整合部，所述应力整合部和所述应力分散部沿所述本体的延伸方向顺序设置，且所述应力整合部位于所述应力分散部靠近所述第二中心线的一侧。在其中一个实施例中，所述应力整合部与所述应力分散部连通，或者所述应力整合部与所述应力分散部之间设有间隔。在其中一个实施例中，所述应力分散部和所述应力整合部均为轴对称图形，且所述应力分散部的对称轴与所述第一中心线平行，所述应力整合部的对称轴与所述应力分散部的对称轴重合。在其中一个实施例中，所述应力分散部为圆弧形刻蚀区，所述应力整合部为矩形刻蚀区；或者所述应力分散部为波浪形刻蚀区，所述应力整合部为矩形刻蚀区。在其中一个实施例中，所述应力分散部在所述第二中心线方向上的最大宽度大于所述应力整合部在所述第二中心线方向上的最大宽度。在其中一个实施例中，所述应力分散部的刻蚀深度等于或小于所述本体的厚度，所述应力整合部的刻蚀深度等于所述本体的厚度。在其中一个实施例中，所述过渡区内的所述刻蚀图形设置为多排，其中奇数排的所述刻蚀图形的对称轴重合，偶数排的所述刻蚀图形的对称轴重合，且奇数排的所述刻蚀图形的对称轴与所述偶数排的所述刻蚀图形的对称轴，在所述第二中心线的方向上相互错开。本技术实施例还提供了一种掩膜板结构，包括支撑框架及上述掩膜条，所述掩膜条拉伸张紧于所述支撑框架上。附图说明图1为本技术一实施例中掩膜条的结构示意图；图2为本技术另一实施例中掩膜条的结构示意图；图3为图1所示掩膜条中过渡区的一种结构示意图；图4为图1所示掩膜条中过渡区的另一结构示意图；图5为图1所示掩膜条中过渡区的又一结构示意图；图6为图1所示掩膜条中过渡区的作用原理图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施例。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。正如
技术介绍
所述，采用现有技术中的掩膜板，会出现蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏出的问题，专利技术人研究发现，出现这种问题的根本原因在于，通常由夹爪夹持掩膜条进行拉伸使其张紧于支撑框架上时，掩膜条在拉伸线上的受力较大，与其他区域的受力不同，使掩膜条在拉伸线上产生不均匀的应力，容易产生褶皱。从而导致掩膜条上的各个像素开口的伸展程度不同，出现掩膜条上的像素开口与背板玻璃上设计的像素位置异位、在蒸镀工艺中使蒸镀的有机材料偏位的现象。如图1-3所示，基于以上原因，本技术一实施例中公开了一种掩膜条100。掩膜条100包括本体10，本体10具有第一中心线a和第二中心线b，第一中心线a和第二中心线b均为本体10的中线，且第一中心线a与本体的延伸方向平行，第二中心线b与第一中心线a垂直。本体10上设置有蒸镀区12及两组过渡区14，两组过渡区14分别沿本体10的延伸方向相对设置，蒸镀区12位于两组过渡区14之间，每组过渡区14内均设置有多个刻蚀图形30，每组过渡区14内的刻蚀图30形关于第一中心线a轴对称分布，两组过渡区14内的刻蚀图形30关于与第一中心线a垂直的第二中心线b轴对称分布，且每个刻蚀图形30均包括应力分散部32，应力分散部32具有向远离第二中心线b方向凸出的弧形边321。上述掩膜条本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜条，其特征在于，包括：本体，所述本体具有第一中心线和第二中心线，所述第一中心线和所述第二中心线均为所述本体的中线，且所述第一中心线与所述本体的延伸方向平行，所述第二中心线与所述第一中心线垂直；设置于所述本体上的蒸镀区及两组过渡区，两组所述过渡区分别沿所述本体的延伸方向相对设置，所述蒸镀区位于两组所述过渡区之间；其中，每组所述过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于所述第二中心线对称分布；所述刻蚀图形包括应力分散部，所述应力分散部具有向远离所述第二中心线方向凸起的弧形边。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜条，其特征在于，包括：本体，所述本体具有第一中心线和第二中心线，所述第一中心线和所述第二中心线均为所述本体的中线，且所述第一中心线与所述本体的延伸方向平行，所述第二中心线与所述第一中心线垂直；设置于所述本体上的蒸镀区及两组过渡区，两组所述过渡区分别沿所述本体的延伸方向相对设置，所述蒸镀区位于两组所述过渡区之间；其中，每组所述过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于所述第二中心线对称分布；所述刻蚀图形包括应力分散部，所述应力分散部具有向远离所述第二中心线方向凸起的弧形边。2.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述本体延伸方向的两端分别包括第一拉伸作用点和第二拉伸作用点，所述第一拉伸作用点和所述第二拉伸作用点关于所述第二中心线对称分布，且所述第一拉伸作用点和所述第二拉伸作用点之间形成拉伸作用带，每组所述过渡区内的至少一个所述刻蚀图形分布于所述拉伸作用带上。3.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述刻蚀图形还包括应力整合部，所述应力整合部和所述应力分散部沿所述本体的延伸方向顺序设置，且所述应力整合部位于所述应力分散部靠近所述第二中心线的一侧。4.根据权利要求3所述的掩膜条，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘明星，王徐亮，甘帅燕，高峰，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32