掩膜条及掩膜板制造技术

本实用新型专利技术涉及一种掩膜条及掩膜板，该掩膜条包括本体，所述本体上设置有蒸镀区及两组过渡区，两组过渡区分别沿本体延伸方向相对设置，蒸镀区位于两组过渡区之间，每组过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组过渡区内的刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组过渡区内的刻蚀图形关于与第一中心线垂直的第二中心线对称分布，且每个刻蚀图形均包括应力分散部，应力分散部具有向远离第二中心线方向凸伸的弧形边。上述掩膜条中，通过多个应力分散部分解本体被拉伸时产生的内力。应力分散部的弧形边向远离第二中心线的方向凸出，而掩膜条为了抵抗变形产生的内力指向第二中心线，并在弧形边处被分散减弱，减弱拉伸掩膜条时产生褶皱的现象。

【技术实现步骤摘要】
掩膜条及掩膜板
本技术涉及显示器制备
，特别是涉及掩膜条及掩膜板。
技术介绍
目前的显示类型主要包括液晶显示(LiquidCrystalDisplay,LCD)、有机发光二极管显示(OrganicLight—EmittingDiode,OLED)、等离子显示(PlasmaDisplayPanel,PDP)和电子墨水显示等多种。其中，OLED显示器以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。精细金属掩膜(FMMMask)模式，是通过蒸镀方式将有机发光材料按照预定程序蒸镀到低温多晶硅背板上，利用精细掩模板上的图形，蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。目前的精细掩模板结构通常包括多个平行排列的掩模条以及支撑框架，将每一掩膜条张紧固定于支撑框架上，并且每一掩模条上设置有蒸镀区，蒸镀区内开设有多个用于蒸镀像素材料的像素开口。在实际生产中，专利技术人发现，采用现有技术中的精细掩膜板，蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏差，影响产品的性能。
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种掩膜条，其特征在于，包括：本体，所述本体具有第一中心线和第二中心线，所述第一中心线和所述第二中心线均为所述本体的中线，且所述第一中心线与所述本体的延伸方向平行，所述第二中心线与所述第一中心线垂直；设置于所述本体上的蒸镀区及两组过渡区，两组所述过渡区分别沿所述本体的延伸方向相对设置，所述蒸镀区位于两组所述过渡区之间；其中，每组所述过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于所述第二中心线对称分布；所述刻蚀图形包括应力分散部，所述应力分散部具有向远离所述第二中心线方向凸起的弧形边。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜条，其特征在于，包括：本体，所述本体具有第一中心线和第二中心线，所述第一中心线和所述第二中心线均为所述本体的中线，且所述第一中心线与所述本体的延伸方向平行，所述第二中心线与所述第一中心线垂直；设置于所述本体上的蒸镀区及两组过渡区，两组所述过渡区分别沿所述本体的延伸方向相对设置，所述蒸镀区位于两组所述过渡区之间；其中，每组所述过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于所述第二中心线对称分布；所述刻蚀图形包括应力分散部，所述应力分散部具有向远离所述第二中心线方向凸起的弧形边。2.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述本体延伸方向的两端分别包括第一拉伸作用点和第二拉伸作用点，所述第一拉伸作用点和所述第二拉伸作用点关于所述第二中心线对称分布，且所述第一拉伸作用点和所述第二拉伸作用点之间形成拉伸作用带，每组所述过渡区内的至少一个所述刻蚀图形分布于所述拉伸作用带上。3.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述刻蚀图形还包括应力整合部，所述应力整合部和所述应力分散部沿所述本体的延伸方向顺序设置，且所述应力整合部位于所述应力分散部靠近所述第二中心线的一侧。4.根据权利要求3所述的掩膜条，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘明星，王徐亮，甘帅燕，高峰，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32