量子产率计算方法、荧光分光光度计以及存储介质技术

技术编号:19317349 阅读:36 留言:0更新日期:2018-11-03 09:33
提供一种量子产率计算方法、荧光分光光度计以及存储介质,能够高精度地计算量子产率。在利用荧光分光光度计来计算量子产率时,校正处理部进行基于光子数(A1)和光子数(B1)来校正光子数(A2)的处理,光子数(A1)是空白测定状态下的激励光的光子数,光子数(B1)是样品测定状态下的激励光的光子数,光子数(A2)是空白测定状态下的荧光的光子数。因此,能够校正光子数(A2)来高精度地计算校正后背景光子数(A2′)。另外,量子产率计算处理部除了基于空白测定状态下的激励光的光子数(A1)和样品测定状态下的荧光的光子数(B2)以外,还基于校正后背景光子数(A2′)计算量子产率。因此,能够高精度地计算量子产率。

Quantum yield calculation method, fluorescence spectrophotometer and storage medium

A method for calculating quantum yield, a fluorescence spectrophotometer and a storage medium are provided, which can calculate quantum yield with high accuracy. When using fluorescence spectrophotometer to calculate quantum yield, the correction processing unit carries out the correction of photon number (A2) based on photon number (A1) and photon number (B1). Photon number (A1) is the number of photons of excitation light in blank measurement state, photon number (B1) is the number of photons of excitation light in sample measurement state, and photon number (A2) is blank. The number of photons in the state of fluorescence is determined. Therefore, the photon number (A2) can be corrected to calculate the corrected background photon number (A2 '). In addition, the quantum yield calculation processing unit calculates the quantum yield based on the photon number (A1) of the excitation light in the blank measurement state and the photon number (B2) of the fluorescence in the sample measurement state, as well as the corrected background photon number (A2'). Therefore, the quantum yield can be calculated with high accuracy.

【技术实现步骤摘要】
量子产率计算方法、荧光分光光度计以及存储介质
本专利技术涉及如下一种荧光分光光度计:使激励光入射到在内部形成有用于配置样品的测定位置的积分球内,通过检测从积分球内射出的光来获取谱。另外,本专利技术涉及一种基于该谱来计算量子产率的量子产率计算方法以及量子产率计算程序。
技术介绍
一直以来,进行着对具有特定的波长成分的光进行反应来实现目标的功能那样的光反应分子的研究。光反应分子通常为在能量上稳定的基态,当被照射具有特定的波长成分的激励光时,吸收其光能而成为激励状态。而且,光反应分子通过发出荧光或者磷光而恢复为原来的稳定的基态。此时,例如所发出的光的光子数相对于照射或者吸收的光的光子数的比被表示为量子产率。例如通过利用设置有积分球的荧光分光光度计来计算这种量子产率(例如,参照下述专利文献1)。具体地说,在利用荧光分光光度计来计算量子产率的情况下,首先,在积分球内的测定位置处不存在样品的状态下使激励光入射到积分球内。然后,通过检测从积分球内射出的光来制作谱。接着,在积分球内的测定位置设置有样品的状态下同样地制作谱。然后,基于这些谱计算在无样品状态和有样品状态这两种状态下从积分球射出的光的光子数。另外,基于这些光子数来计算量子产率。专利文献1:日本特开2016-151426号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在上述以往的方法中,有时产生所计算的量子产率的精度降低这样的缺陷。具体地说,在上述以往的方法中,有时在从积分球射出的光中包含通过照射到积分球的内壁而发出的荧光等所谓的背景成分(杂散光成分)。因此,有时由于该背景成分而导致量子产率的精度降低。另外,即使在计算出背景成分之后计算量子产率的情况下,只要背景成分的计算的精度降低,量子产率的精度就降低。本专利技术是鉴于上述实际情况而完成的,其目的在于提供一种能够高精度地计算量子产率的量子产率计算方法、荧光分光光度计以及量子产率计算程序。用于解决问题的方案(1)本专利技术所涉及的量子产率计算方法使激励光入射到在内部形成有用于配置样品的测定位置的积分球内,基于通过检测从所述积分球内射出的光所获得的谱来计算量子产率。所述量子产率计算方法包括空白测定步骤、样品测定步骤、校正步骤以及量子产率计算步骤。在所述空白测定步骤中,基于通过在所述测定位置处不存在样品或者仅设置有装有溶剂的腔室或试样蒸镀前的基材的空白测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算向所述积分球内入射的激励光的光子数来作为第一光子数,并且计算与激励光的波长范围不同的特定波长范围的光的光子数来作为第二光子数。在所述样品测定步骤中,基于通过在所述测定位置处存在样品的样品测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算未被样品吸收的激励光的光子数来作为第三光子数,并且计算所述特定波长范围的光的光子数来作为第四光子数。在所述校正步骤中,通过基于所述第一光子数和所述第三光子数校正所述第二光子数来计算第五光子数。在所述量子产率计算步骤中,基于所述第一光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数计算量子产率。根据这种方法,在校正步骤中,基于空白测定状态下的激励光的光子数即第一光子数和样品测定状态下的激励光的光子数即第三光子数来校正空白测定状态下的特定波长范围的光的光子数即第二光子数,从而计算第五光子数。因此,能够通过校正来高精度地计算空白测定状态下的特定波长范围的光的光子数。另外,在量子产率计算步骤中,除了基于空白测定状态下的激励光的光子数即第一光子数和样品测定状态下的特定波长范围的光的光子数即第四光子数以外,还基于对空白测定状态下的特定波长范围的光的光子数即第二光子数进行校正所得到的第五光子数来计算量子产率。即,在量子产率计算步骤中,利用通过校正而高精度地计算出的第五光子数来计算量子产率。这样,根据上述的方法,通过校正来高精度地计算空白测定状态下的特定波长范围的光的光子数,利用该光子数计算量子产率。因此,能够高精度地计算量子产率。(2)另外,在所述量子产率计算步骤中,也可以基于所述第一光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数,计算从所述样品产生的光的光子数相对于向所述积分球内入射的激励光的光子数的比来作为外部量子产率。根据这种方法,能够高精度地计算外部量子产率。(3)另外,在所述量子产率计算步骤中,也可以基于所述第一光子数、所述第三光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数,计算从所述样品产生的光的光子数相对于被所述样品吸收的激励光的光子数的比来作为内部量子产率。根据这种方法,能够高精度地计算内部量子产率。(4)另外,在所述空白测定步骤中,也可以基于在光路上设置有使激励光的波长范围的透射率降低的光学滤波器的状态和在光路上没有设置所述光学滤波器的状态下分别获得的谱,来计算所述第二光子数和所述第一光子数。在所述样品测定步骤中,也可以基于在光路上设置有所述光学滤波器的状态和在光路上没有设置所述光学滤波器的状态下分别获得的谱,来计算所述第四光子数和所述第三光子数。根据这种方法,基于在空白测定状态、且在光路上设置有光学滤波器的状态下获得的谱来计算第二光子数。基于在样品测定状态、且在光路上设置有光学滤波器的状态下获得的谱来计算第四光子数。因此,在分别计算第二光子数和第四光子数时,能够排除由激励光的波长范围的光引起的噪声。其结果,能够更高精度地计算量子产率。(5)本专利技术所涉及的荧光分光光度计使激励光入射到在内部形成有用于配置样品的测定位置的积分球内,通过检测从所述积分球内射出的光来获取谱。所述荧光分光光度计具备空白测定处理部、样品测定处理部、校正处理部以及量子产率计算处理部。所述空白测定处理部基于通过在所述测定位置处不存在样品的空白测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算向所述积分球内入射的激励光的光子数来作为第一光子数,并且计算与激励光的波长范围不同的特定波长范围的光的光子数来作为第二光子数。所述样品测定处理部基于通过在所述测定位置处存在样品的样品测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算未被样品吸收的激励光的光子数来作为第三光子数,并且计算所述特定波长范围的光的光子数来作为第四光子数。所述校正处理部通过基于所述第一光子数和所述第三光子数校正所述第二光子数来计算第五光子数。所述量子产率计算处理部基于所述第一光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数计算量子产率。(6)另外,所述量子产率计算处理部基于所述第一光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数,计算从所述样品产生的光的光子数相对于向所述积分球内入射的激励光的光子数的比来作为外部量子产率。(7)另外,所述量子产率计算处理部基于所述第一光子数、所述第三光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数,计算从所述样品产生的光的光子数相对于被所述样品吸收的激励光的光子数的比来作为内部量子产率。(8)另外,所述空白测定处理部也可以基于在光路上设置有使激励光的波长范围的透射率降低的光学滤波器的状态和在光路上没有设置所述光学滤波器的状态下分别获得的谱,来计算所述第二光子数和所述第一光子数。所述样品测定处理部也可以基于在光路上设置有所述光学滤波器的状态和在光路上没有设置所述光学滤波器的状态下分别获得的谱,来计算所述第四光子数和所述第三光子数。(9)本专利技术所涉及的量子产率计算程序使激励光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量子产率计算方法,使激励光入射到在内部形成有用于配置样品的测定位置的积分球内,基于通过检测从所述积分球内射出的光所获得的谱来计算量子产率,该量子产率计算方法的特征在于,包括以下步骤:空白测定步骤,基于通过在所述测定位置处不存在样品的空白测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算向所述积分球内入射的激励光的光子数来作为第一光子数,并且计算与激励光的波长范围不同的特定波长范围的光的光子数来作为第二光子数;样品测定步骤,基于通过在所述测定位置处存在样品的样品测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算未被样品吸收的激励光的光子数来作为第三光子数,并且计算所述特定波长范围的光的光子数来作为第四光子数;校正步骤,通过基于所述第一光子数和所述第三光子数校正所述第二光子数,来计算第五光子数;以及量子产率计算步骤,基于所述第一光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数计算量子产率。

【技术特征摘要】
2017.04.19 JP 2017-0831501.一种量子产率计算方法,使激励光入射到在内部形成有用于配置样品的测定位置的积分球内,基于通过检测从所述积分球内射出的光所获得的谱来计算量子产率,该量子产率计算方法的特征在于,包括以下步骤:空白测定步骤,基于通过在所述测定位置处不存在样品的空白测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算向所述积分球内入射的激励光的光子数来作为第一光子数,并且计算与激励光的波长范围不同的特定波长范围的光的光子数来作为第二光子数;样品测定步骤,基于通过在所述测定位置处存在样品的样品测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算未被样品吸收的激励光的光子数来作为第三光子数,并且计算所述特定波长范围的光的光子数来作为第四光子数;校正步骤,通过基于所述第一光子数和所述第三光子数校正所述第二光子数,来计算第五光子数;以及量子产率计算步骤,基于所述第一光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数计算量子产率。2.根据权利要求1所述的量子产率计算方法,其特征在于,在所述量子产率计算步骤中,基于所述第一光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数,计算从所述样品产生的光的光子数相对于向所述积分球内入射的激励光的光子数的比来作为外部量子产率。3.根据权利要求1所述的量子产率计算方法,其特征在于,在所述量子产率计算步骤中,基于所述第一光子数、所述第三光子数、所述第四光子数以及所述第五光子数,计算从所述样品产生的光的光子数相对于被所述样品吸收的激励光的光子数的比来作为内部量子产率。4.根据权利要求1所述的量子产率计算方法,其特征在于,在所述空白测定步骤中,基于在光路上设置有使激励光的波长范围的透射率降低的光学滤波器的状态和在光路上没有设置所述光学滤波器的状态下分别获得的谱,来计算所述第二光子数和所述第一光子数,在所述样品测定步骤中,基于在光路上设置有所述光学滤波器的状态和在光路上没有设置所述光学滤波器的状态下分别获得的谱,来计算所述第四光子数和所述第三光子数。5.一种荧光分光光度计,使激励光入射到在内部形成有用于配置样品的测定位置的积分球内,通过检测从所述积分球内射出的光来获取谱,该荧光分光光度计的特征在于,具备:空白测定处理部,其基于通过在所述测定位置处不存在样品的空白测定状态下使激励光入射到所述积分球内所获得的谱,计算向所述积分球内入射的激励光的光子数来作为第一光子数,并且计算与激励光的波长范围不同的特定波...

【专利技术属性】
技术研发人员:渡边康之
申请(专利权)人:株式会社岛津制作所
类型:发明
国别省市:日本,JP

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