基板浮起输送装置制造方法及图纸

提供基板浮起输送装置，能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定高度。具体而言，基板浮起输送装置具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对借助浮起载台而浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其在利用基板保持单元对基板进行了保持的状态下使基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，基板保持单元具有：多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，保持框架部借助升降部而设置于输送驱动部，并形成为：通过使升降部进行动作，从而保持框架部进行升降动作而使所有的吸附部相对于基板进行接近离开动作。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板浮起输送装置
本专利技术涉及一边使基板浮起一边进行输送的基板浮起输送装置，特别是涉及能够抑制由于输送时的振动导致基板上的涂布膜形成涂布不匀的基板浮起输送装置。
技术介绍
在液晶显示器或等离子显示器等平板显示器中，使用在基板上涂布有抗蚀液的基板(称为涂布基板)。该涂布基板通过如下方式来生产：一边利用基板输送装置输送基板，一边利用涂布装置在基板上均匀地涂布抗蚀液从而形成涂布膜。之后，再通过基板输送装置进行输送，并通过干燥装置等对涂布膜进行干燥。在最近的基板输送装置中，为了避免涂布基板W的背面(与涂布面相反的一侧)的损伤，使用了一边以空气浮起或超声波浮起等方式使基板W浮起一边对基板W进行输送的基板浮起输送装置。如图10所示，该基板浮起输送装置具有：浮起载台部100，其使基板W浮起；基板保持单元102，其对浮起状态的基板W进行吸附并进行保持；以及输送驱动部103，其使基板保持单元102在基板W的输送方向上移动，该基板输送装置使输送驱动部103驱动而使基板保持单元102移动，从而在基板W浮起于浮起载台部100上的状态下沿输送方向进行输送。关于所输送的基板W，需要避免与浮起载台部100接触并利用设置在输送途中的基板处理部(例如涂布处理部)106进行精度良好的处理。因此，在基板保持单元102中，形成为能够一边使基板W保持为水平的姿势，一边恒定地保持数十μm～数百μm的浮起量。具体而言，如图11所示，基板保持单元102中，沿着输送方向排列有多个吸附部104，这些多个吸附部104借助升降机构105设置于输送驱动部103。即，吸附部104沿输送方向按照规定的间隔进行配置，对各个吸附部104设置有升降机构105。并且，对各个升降机构105进行控制，从而对浮起的基板W进行吸附，在所设定的浮起高度位置对基板W进行吸附保持(图11的(b))。在该状态下使输送驱动部103在输送方向上移动，从而能够对浮起于浮起载台部100上的基板W以维持微少的浮起量的状态在输送方向上精度良好地进行输送。现有技术文献专利文献专利文献1：2011-213435号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是，在上述基板浮起输送装置中，存在下述问题：难以将浮起的基板W在输送方向的范围内调节为恒定的高度。即，在上述基板浮起输送装置中，对所有的吸附部104分别设置有升降机构105，因此需要单独对各个升降机构105进行控制而调节基板W的高度。因此，要想将基板W的浮起量在输送方向范围内调节为恒定，存在下述问题：需要对所有的升降机构105的吸附部104的位置进行精度良好地控制，基板保持单元102的结构会复杂化。另外，当为了对所有的吸附部104的高度位置进行精度良好地调整而采用高性能的升降机构105时，存在下述问题：需要对所有的吸附部104的升降机构105采用高性能的升降机构105，装置整体的成本会增加。因此，本专利技术的目的在于提供基板浮起输送装置，能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定的高度。用于解决课题的手段为了解决上述课题，本专利技术的基板浮起输送装置的特征在于，该基板浮起输送装置具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对借助所述浮起载台而浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其在利用所述基板保持单元对基板进行了保持的状态下使所述基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，所述基板保持单元具有：多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，所述保持框架部借助升降部而设置于所述输送驱动部，并形成为：通过使所述升降部进行动作，从而所述保持框架部进行升降动作而使所有的所述吸附部相对于基板进行接近离开动作。根据本专利技术，基板保持单元具有对所有的吸附部进行安装的保持框架部，因此能够容易地进行基板的高度位置的控制。即，在保持框架部上安装有所有的吸附部，因此通过使该保持框架部进行升降动作，能够一起调节所有的吸附部的高度位置。并且，使保持框架部升降的升降机构无需像以往那样分别设置于所有的吸附部，仅为使保持框架部升降的最小限度的升降机构即可。因此，与以往相比，能够减少升降机构的数量，因此能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定高度。另外，可以采用下述结构：所述输送驱动部具有沿着所述浮起载台移动的基座部，该基座部与所述保持框架部借助所述升降部而连结，与该升降部分开地设置有对所述基座部与所述保持框架部的连结进行强化的强化支承部。根据该结构，与连结部分开地设置有强化支承部，因此能够加强基座部与保持框架部的一体性。即，在保持框架部上安装有所有的吸附部，因此当输送驱动部的基座部移动时，在保持框架部容易产生组装精度等所致的微少的振动。该振动例如在进行涂布处理的情况下，成为在形成于基板上的涂布膜产生涂布不匀的主要原因，但通过与升降部分开地设置强化支承部，能够增加基座部与保持框架部的刚性，抑制输送时所产生的振动，在进行涂布处理等基板处理的情况下，能够抑制振动所致的影响。另外，也可以采用下述结构：所述强化支承部具有仅允许特定的一个方向上的变位的引导部件，通过该引导部件将所述基座部与所述保持框架部连结。根据该结构，通过强化支承部来抑制基座部与保持框架部在特定的方向以外的方向上的相对变位，因此能够抑制在保持框架部产生振动。另外，也可以采用下述结构：所述强化支承部在输送方向上配置于设置有所述吸附部的位置。根据该结构，将强化支承部设置于容易成为振动源的吸附部，因此能够有效地抑制在保持框架产生振动。另外，也可以采用下述结构：所述强化支承部配置于所有设置有所述吸附部的位置。根据该结构，将强化支承部设置于所有容易成为振动源的吸附部，因此能够更可靠地抑制在保持框架产生振动。另外，也可以采用下述结构：在所述强化支承部中设置有根据所述保持框架的升降动作而进行伸缩动作的弹簧部，通过所述弹簧部的复原力对所述基座部与所述保持框架的连结进行强化。根据该结构，通过弹簧部的复原力对基座部与保持框架的连结进行强化，从而能够抑制在保持框架产生的振动。另外，优选采用下述结构：在所述强化支承部中设置有对所述保持框架的升降方向上的变位进行限制的变位限制机构。根据该结构，在强化支承部中设置有变位限制机构，因此至少在基板处理时通过变位限制机构对保持框架的升降方向的变位进行限制，从而能够抑制保持框架的振动，能够抑制振动对于基板处理的影响。另外，也可以采用下述结构：所述变位限制机构是通过对所述引导部件上的所述保持框架的升降方向上的变位进行约束而形成的。根据该结构，所述引导部件所允许的特定方向的变位受到约束，因此基座部与保持框架部一体化，从而能够有效地抑制振动的产生。专利技术效果根据本专利技术，能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定高度。附图说明图1是概略地示出与本专利技术的基板浮起输送装置进行组合的涂布装置的立体图。图2是在输送方向上观察到的与上述实施方式的基板浮起输送装置进行组合的涂布装置的图。图3是示出在上述实施方式中保持着已浮起的基板的状态的图。图4是在Y轴方向上观察上述实施方式的基板保持单元的图。图5是示出上述实施方式中的基板浮起输送装置的基板保持部的吸附垫的图，其中(a)是示出吸附前的状态的图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板浮起输送装置，其特征在于，该基板浮起输送装置具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对借助所述浮起载台而浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其在利用所述基板保持单元对基板进行了保持的状态下使所述基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，所述基板保持单元具有：多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，所述保持框架部借助升降部而设置于所述输送驱动部，并形成为：通过使所述升降部进行动作，从而所述保持框架部进行升降动作而使所有的所述吸附部相对于基板进行接近或离开动作。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.22 JP 2016-0565151.一种基板浮起输送装置，其特征在于，该基板浮起输送装置具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对借助所述浮起载台而浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其在利用所述基板保持单元对基板进行了保持的状态下使所述基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，所述基板保持单元具有：多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，所述保持框架部借助升降部而设置于所述输送驱动部，并形成为：通过使所述升降部进行动作，从而所述保持框架部进行升降动作而使所有的所述吸附部相对于基板进行接近或离开动作。2.根据权利要求1所述的基板浮起输送装置，其特征在于，所述输送驱动部具有沿着所述浮起载台移动的基座部，该基座部与所述保持框架部借助所述升降部而连结，与该升降部分开地设置有对所述基座部与所述保持框架部的连结进行强化的强化支承部。3.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：滨川健史，奥田大辅，森俊裕，冈本贯志，伊藤俊文，
申请(专利权)人：东丽工程株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP