氯硅烷液体中和处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种氯硅烷液体中和处理装置，包括中和所述氯硅烷液体的碱性中和液、储存所述碱性中和液的储存槽、供应所述氯硅烷液体的供应管及用于喷射惰性气体的喷射管，所述供应管设于所述储存槽内，所述喷射管设于所述供应管的液体流出口的周围以向围设形成所述液体流出口的液体流出口侧壁喷射惰性气体防止液体流出口堵塞以及副生盐酸腐蚀所述供应管。通过上述技术手段可以大大减轻氯硅烷液体与水发生反应副生二氧化硅堵塞供应管的液体流出口部以及副生盐酸腐蚀液体流出口部。本实用新型专利技术装置结构简单、使用方便，具有较强的实用性。

Liquid neutralization treatment device for chlorosilane

The utility model provides a chlorosilane liquid neutralization treatment device, which comprises an alkaline neutralization liquid for neutralizing the chlorosilane liquid, a storage tank for storing the alkaline neutralization liquid, a supply pipe for supplying the chlorosilane liquid and a jet pipe for ejecting inert gases. The supply pipe is arranged in the storage tank and the ejection is described. The pipe is arranged around the liquid flow outlet of the supply pipe to inject inert gas into the side wall of the liquid flow outlet surrounding the liquid flow outlet forming the liquid flow outlet to prevent the liquid flow outlet from blocking and the secondary hydrochloric acid from corroding the supply pipe. The above-mentioned technical means can greatly reduce the reaction of chlorosilane liquid with water by-product silicon dioxide plugging the outlet of the liquid flow in the supply pipe and by-product hydrochloric acid corrosion liquid flow outlet. The utility model has the advantages of simple structure, convenient operation and strong practicability.

【技术实现步骤摘要】
氯硅烷液体中和处理装置
本技术涉及净化回收
，具体来说涉及一种氯硅烷液体中和处理装置。
技术介绍
氯硅烷作为有机硅树脂的原料、表面处理剂、硅晶片以及太阳能电池中使用的多晶硅的原料被广泛使用。作为有机硅树脂原料的二甲基二氯硅烷是通过金属硅和氯代甲烷反应合成的，多晶硅原料的三氯硅烷是通过金属硅和氯化氢反应合成的。上述反应都是通过蒸馏塔精制，需要能生产所要求纯度的氯硅烷生产工段。通过蒸馏被分离出来的目标产物以外的氯硅烷，根据需要可以使用在二氧化硅的原料和表面处理剂等中，但最终在蒸馏中未能充分精制的氯硅烷液体，必须要进行碱性水溶液中和后废弃。如图1所示是现有技术中氯硅烷液体的中和装置的代表式样简略图。将氯硅烷液体供应管1的液体流出口部浸在储存槽2中的碱性中和液3的液体表面，通过将氯硅烷液体混入到碱性中和液中进行处理，这是一般的方法。但这种方法具有以下问题：和水反应的氯硅烷液体会副生二氧化硅，堵塞氯硅烷液体供应管1的液体流出口部，副生的盐酸气体会腐蚀管线，不能长期使用。特别是如果氯硅烷液体是通过上述的金属硅和氯化氢反应制造三氯氢硅工艺中所排出来的废液，该废液中大多会含有来源于金属硅中的金属杂质中的固体金属氯化物，如果像这样氯硅烷液体中含有固体物，该固体物会粘附在液体流出口侧壁上，容易发生二氧化硅的堆积和副生盐酸气体的冷凝，上述液体流出口部的堵塞和腐蚀问题会更加严重。也有如下的不是使用氯硅烷的液体进行中和，而是使用氯硅烷气体进行中和的方法。使氯硅烷废气伴随着氮气，进入喷淋式除害塔顶部，进行碱性中和液处理，碱性中和液储存在储存槽中。当然，如果是气体状的，那么氯硅烷的浓度肯定要比液体状低很多，而且即使是上述金属硅和氯化氢反应生成三氯氢硅的制造工艺中排出来的氯硅烷，也不会含有固体金属氯化物等的固体物，所以废气供应管线的出口部也不会发生上述副生二氧化硅的堵塞以及盐酸腐蚀问题。因此相关的氯硅烷废气的喷淋式中和处理和上述氯硅烷液体的中和处理是完全不同的技术，在解决该氯硅烷液体的中和处理中的上述氯硅烷液体供应管的堵塞以及腐蚀问题上，不能作为任何的参考。
技术实现思路
鉴于上述情况，本技术提供一种氯硅烷液体处理装置，能防止氯硅烷液体因和碱性中和液相接触产生的副生二氧化硅堵塞氯硅烷液体供应管的液体流出口部，以及可以减少副生盐酸气体对管线的腐蚀，特别是以金属硅为原料合成的氯硅烷液体，蒸馏残渣中会含有氯化铝为主的金属杂质。这些金属杂质是以固体形式存在，上述氯硅烷液体供应管的液体流出口部的堵塞会更加频繁的发生。为实现上述目的，本技术采取的技术方案是：一种氯硅烷液体中和处理装置，包括中和所述氯硅烷液体的碱性中和液及储存所述碱性中和液的储存槽，所述处理装置还包括：供应所述氯硅烷液体的供应管，所述供应管的下端成形有氯硅烷液体流出口，所述液体流出口延伸至所述碱性中和液的储存槽内，所述液体流出口位于所述碱性中和液的液面上方；用于喷射惰性气体的喷射管，所述喷射管包括喷射管管体及送气管，所述喷射管管体的一端成形有向下的气体喷出口，所述气体喷出口的高度高于所述氯硅烷液体流出口，所述喷射管设于所述液体流出口的周围以向围设形成所述液体流出口的液体流出口侧壁周围喷射惰性气体，所述送气管与所述喷射管管体连通设置。本技术实施例中，所述供应管的液体流出口与所述碱性中和液的液面之间的距离为500～2000mm。本技术实施例中，所述供应管的上端连接有清洗管，所述清洗管与所述供应管之间设有阀门以控制所述清洗管与所述供应管的连通与闭合；所述供应管的侧部形成有分支管，所述氯硅烷液体通过所述分支管进入所述供应管。本技术实施例中，所述喷射管与所述供应管为双层管结构，所述喷射管的内壁与所述供应管的外壁之间有惰性气体的容纳空间。本技术实施例中，所述喷射管的气体喷出口的口径小于所述喷射管的口径，围设形成所述气体喷出口的侧壁为倾斜面。本技术实施例中，所述喷射管的气体喷出口的四周设置有庇板，所述庇板通过向下扩径形成阻挡所述惰性气体上升的挡板；所述供应管的外部还设有外筒以令所述惰性气体与外部空间隔开。本技术实施例中，所述喷射管的气体喷出口的底端距离所述供应管的液体流出口底端的距离为0～30mm。本技术由于采用了以上技术方案，使其具有以下有益效果：(1)本技术的氯硅烷液体中和处理装置，可以有效的防止中和处理时副生二氧化硅对氯硅烷供应管液体流出口部的堵塞，以及能够减少副生盐酸气体对于管线的腐蚀。本技术处理装置结构简单，不含填料没有堵塞的风险，同时即使是从金属硅和氯化氢反应生成三氯氢硅的制造工艺中排出来的废液等的含有固体物的氯硅烷液体，也能充分发挥上述防堵塞和防腐蚀的效果。(2)本技术在氯硅烷合成工段，特别是作为处理蒸馏残渣氯硅烷液体的装置，可以实现长期稳定运行。附图说明图1是现有技术中氯硅烷液体中和处理装置的代表样式简略图。图2是本技术氯硅烷液体中和处理装置的代表样式简略图。附图标记与部件的对应关系如下：供应管1；清洗管11；阀门111；分支管12；液体流出口13；储存槽2；碱性中和液3；喷射管4；喷射管管体41；气体喷出口411；送气管42；庇板5；外筒6。具体实施方式为利于对本技术的了解，以下结合附图及实施例进行说明。请参阅图2，本技术提供一种氯硅烷液体中和处理装置，包括供应所述氯硅烷液体的供应管1、中和所述氯硅烷液体的碱性中和液3、储存所述碱性中和液的储存槽2及用于喷射惰性气体的喷射管4，在所述储存槽2中，碱性中和液3一般通过搅拌机来搅拌，所述供应管1设于所述储存槽2内，所述喷射管4设于所述供应管1的液体流出口13的周围以向围设形成所述液体流出口13的液体流出口侧壁喷射惰性气体防止液体流出口13堵塞以及副生盐酸腐蚀所述供应管1。其中：所述供应管1具有相对的上、下端，所述供应管1的上端连接有清洗11管，所述清洗管11与所述供应管1之间设有阀门111以控制所述清洗管11与所述供应管1的连通与闭合；所述供应管1的侧部形成有分支管12，所述氯硅烷液体通过所述分支管12进入所述供应管1，所述供应管1的下端成形有氯硅烷液体流出口13，所述液体流出口13延伸至所述碱性中和液3的储存槽2内，所述液体流出口13位于所述碱性中和液3的液面上方；所述清洗管11的设置可以防止供应管1的液体流出口13因二氧化硅副生而堵塞，也可以通过清洗棒清扫等来解决堵塞问题。所述喷射管4包括喷射管管体41及送气管42，所述喷射管管体41一端成形有向下的气体喷出口411，所述气体喷出口411的高度高于所述氯硅烷液体流出口13，所述喷射管4设于所述液体流出口13的周围以向所述液体流出口13喷射惰性气体，所述送气管42与所述喷射管管体41连通设置。本技术实施例中，所述送气管42通过所述喷射管管体41的侧部向外延伸形成。本技术实施例中，所述喷射管4与所述供应管1为双层管结构，所述喷射管4的内壁与所述供应管1的外壁之间有惰性气体的容纳空间，所述气体喷出口411的口径小于所述喷射管4的口径，围设形成所述气体喷出口411的侧壁为倾斜面，此时可以根据上述倾斜的程度，调整喷到所述供应管1的液体流出口侧壁上的惰性气体的喷射压力。同时对于碱性中和液3液面，还可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氯硅烷液体中和处理装置，包括中和所述氯硅烷液体的碱性中和液及储存所述碱性中和液的储存槽，其特征在于，所述处理装置还包括：供应所述氯硅烷液体的供应管，所述供应管的下端成形有氯硅烷液体流出口，所述液体流出口延伸至所述碱性中和液的储存槽内，所述液体流出口位于所述碱性中和液的液面上方；用于喷射惰性气体的喷射管，所述喷射管包括喷射管管体及送气管，所述喷射管管体的一端成形有向下的气体喷出口，所述气体喷出口的高度高于所述氯硅烷液体流出口，所述喷射管设于所述液体流出口的周围以向围设形成所述液体流出口的液体流出口侧壁周围喷射惰性气体，所述送气管与所述喷射管管体连通设置。

【技术特征摘要】
1.一种氯硅烷液体中和处理装置，包括中和所述氯硅烷液体的碱性中和液及储存所述碱性中和液的储存槽，其特征在于，所述处理装置还包括：供应所述氯硅烷液体的供应管，所述供应管的下端成形有氯硅烷液体流出口，所述液体流出口延伸至所述碱性中和液的储存槽内，所述液体流出口位于所述碱性中和液的液面上方；用于喷射惰性气体的喷射管，所述喷射管包括喷射管管体及送气管，所述喷射管管体的一端成形有向下的气体喷出口，所述气体喷出口的高度高于所述氯硅烷液体流出口，所述喷射管设于所述液体流出口的周围以向围设形成所述液体流出口的液体流出口侧壁周围喷射惰性气体，所述送气管与所述喷射管管体连通设置。2.根据权利要求1所述的氯硅烷液体中和处理装置，其特征在于，所述供应管的液体流出口与所述碱性中和液的液面之间的距离为500～2000mm。3.根据权利要求2所述的氯硅烷液体中和处理装置，其特征在于，所述供应管的上端连接有清洗管，所述清...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴中明，
申请(专利权)人：德山化工浙江有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33