磁控溅射设备及其阴极装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种磁控溅射设备及磁控溅射设备的阴极装置。该阴极装置包括靶材组件、磁路组件、传动组件和驱动装置。磁路组件正对于靶材组件设置，磁路组件包括多个能独立产生磁场的磁路单元。传动组件同时与各磁路单元连接。驱动装置，用于通过传动组件驱动磁路组件沿预设方向在第一位置和第二位置间往复移动。本实用新型专利技术的阴极装置能够向靶材组件同时提供多个磁场，使溅射效率提高。同时，驱动装置可通过传动组件与磁路组件的各个磁路单元连接，可驱动磁路组件整体往复移动，使磁场的作用范围得以扩大，从而减小靶材组件上的非刻蚀区域，增大刻蚀区域，使靶材组件的利用率得以提升，最终使溅射效率提高。

【技术实现步骤摘要】
磁控溅射设备及其阴极装置
本技术涉及磁控溅射
，具体而言，涉及一种磁控溅射设备及磁控溅射设备的阴极装置。
技术介绍
磁控溅射技术是一种成膜技术，广泛的应用于太阳能光伏、集成电路、平面显示等领域。其原理是利用辉光放电所电离出的离子轰击靶材，并使轰击出靶材材料沉积在基材上，形成膜层。在现有的磁控溅射设备的阴极装置中，用于产生磁场的磁路组件通常设于靶材的背侧，且与靶材的相对位置固定不变，使得磁场的作用范围不变，因此，在溅射过程中，靶材表面的刻蚀位置也相应保持不变，使靶材上存在大面积的非刻蚀区域，导致靶材的利用率较低，使溅射效率难以提高。同时，磁路组件的结构较为简单，只能提供单一的磁场，使得溅射效率较低。需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本技术的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种磁控溅射设备及磁控溅射设备的阴极装置，能够提高靶材的利用率，以提高溅射效率。为实现上述专利技术目的，本技术采用如下技术方案：根据本技术的一个方面，提供一种磁控溅射设备的阴极装置，包括靶材组件、磁路组件、传动组件和驱动装置。所述磁路组件正对于所述靶材组件设置，所述磁路组件包括多个能独立产生磁场的磁路单元。所述传动组件同时与各所述磁路单元连接。所述驱动装置，用于通过所述传动组件驱动所述磁路组件沿预设方向在第一位置和第二位置间往复移动。在本技术的一种示例性实施例中，所述传动组件包括传动丝杆和多个传动滑块。所述传动丝杆沿所述预设方向设置。多个所述传动滑块一一对应的与各所述磁路单元连接，且各所述传动滑块均套设于所述传动丝杆并与所述传动丝杆螺纹连接。在本技术的一种示例性实施例中，所述阴极装置还包括至少一个导向组件，每个所述导向组件包括导轨和多个导向滑块。所述导轨沿所述预设方向设于所述支座。多个所述导向滑块一一对应的与各所述磁路单元连接，且各所述导向滑块均与所述导轨滑动配合。在本技术的一种示例性实施例中，所述阴极装置还包括第一限位装置和第二限位装置。所述第一限位装置能在所述磁路组件移动至所述第一位置时被触发，并通过所述驱动装置控制所述磁路组件向所述第二位置移动。所述第二限位装置，能在所述磁路组件移动至所述第二位置时被触发，并通过所述驱动装置控制所述磁路组件向所述第一位置移动。在本技术的一种示例性实施例中，所述第一限位装置和所述第二限位装置均为接近开关。在本技术的一种示例性实施例中，所述磁路单元包括绝缘垫、轭铁和磁铁。所述绝缘垫与所述传动组件连接。所述轭铁设于所述绝缘垫靠近所述靶材组件的表面。所述磁铁设于所述轭铁靠近所述靶材组件的表面。在本技术的一种示例性实施例中，所述阴极装置还包括阴极导电组件，阴极导电组件一侧用于安装靶材组件，另一侧正对于设于所述磁路组件，所述阴极导电组件具有冷却水路，所述冷却水路具有进水口和出水口，且所述冷却水路包括至少两个独立的支路，各所述支路均连通于所述进水口和所述出水口之间。在本技术的一种示例性实施例中，所述冷却水路呈曲线状或折线状延伸。在本技术的一种示例性实施例中，所述阴极导电组件包括阴极导电板和冷却隔板。所述阴极导电板设于所述靶材组件和所述磁路组件之间，且所述阴极导电板设有冷却槽。所述冷却隔板密封连接于所述阴极导电板靠近所述靶材组件的表面，且覆盖所述冷却槽，以形成所述冷却水路。在本技术的一种示例性实施例中，所述阴极装置还包括保护罩，所述保护罩具有容置腔，所述容置腔具有开放端，所述阴极导电组件覆盖所述开放端且固定于所述开放端，所述靶材组件固定于所述阴极导电组件远离所述保护罩的表面，所述磁路组件、所述传动组件和所述驱动装置均设于所述容置腔内。根据本技术的一个方面，提供一种磁控溅射设备，包括上述任意一项所述的阴极装置。本技术实施方式相比现有技术的有益效果在于：由于磁路组件包含多个磁路单元，且各个磁路单元可独立产生磁场，以便于同时向靶材组件同时提供多个磁场，使溅射效率提高。同时，驱动装置可通过传动组件与磁路组件的各个磁路单元连接，可驱动磁路组件整体往复移动，使磁场的作用范围得以扩大，从而减小靶材组件上的非刻蚀区域，增大刻蚀区域，使靶材组件的利用率得以提升，最终使溅射效率提高。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施方式的阴极装置的示意图。图2为本技术实施方式的阴极装置的磁路组件的示意图。图3为本技术实施方式的阴极装置的磁路组件位于第一位置的示意图。图4为本技术实施方式的阴极装置的磁路组件位于第二位置的示意图。图5为本技术实施方式的阴极装置的阴极导电组件的阴极导电板的示意图。图中：1、靶材组件；101、靶材；102、背板；2、磁路组件；21、磁路单元；211、绝缘垫；212、轭铁；213、磁铁；3、传动组件；31、传动丝杆；32、传动滑块；4、驱动装置；5、导向组件；51、导轨；52、导向滑块；6、第一限位装置；7、第二限位装置；8、阴极导电组件；801、进水口；802、出水口；81、阴极导电板；811、第一冷却槽；812、第二冷却槽；82、冷却隔板；9、保护罩；91、容置腔；92、支架；10、绝缘块；11、隔板压块；12、靶材压块；13、真空压块；14、冷却密封圈；15、密封环；16、真空密封圈；17、阳极罩。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本技术将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“该”、“所述”和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”和“第二”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。本技术实施方式中提供一种磁控溅射设备的阴极装置，如图1所示，该阴极装置可以包括靶材组件1、磁路组件2、传动组件3和驱动装置4，其中：磁路组件2可正对于靶材组件1设置，且磁路组件2可以包括多个独立的磁路单元21，每个磁路单元21本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁控溅射设备的阴极装置，其特征在于，包括：靶材组件；磁路组件，正对于所述靶材组件设置，所述磁路组件包括多个能独立产生磁场的磁路单元；传动组件，同时与各所述磁路单元连接；驱动装置，用于通过所述传动组件驱动所述磁路组件沿预设方向在第一位置和第二位置间往复移动。

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射设备的阴极装置，其特征在于，包括：靶材组件；磁路组件，正对于所述靶材组件设置，所述磁路组件包括多个能独立产生磁场的磁路单元；传动组件，同时与各所述磁路单元连接；驱动装置，用于通过所述传动组件驱动所述磁路组件沿预设方向在第一位置和第二位置间往复移动。2.根据权利要求1所述的阴极装置，其特征在于，所述传动组件包括：传动丝杆，沿所述预设方向设置；多个传动滑块，一一对应的与各所述磁路单元连接，且各所述传动滑块均套设于所述传动丝杆并与所述传动丝杆螺纹连接。3.根据权利要求1所述的阴极装置，其特征在于，所述阴极装置还包括至少一个导向组件，每个所述导向组件包括：导轨，沿所述预设方向设置；多个导向滑块，一一对应的与各所述磁路单元连接，且各所述导向滑块均与所述导轨滑动配合。4.根据权利要求1所述的阴极装置，其特征在于，所述阴极装置还包括：第一限位装置，能在所述磁路组件移动至所述第一位置时被触发，并通过所述驱动装置控制所述磁路组件向所述第二位置移动；第二限位装置，能在所述磁路组件移动至所述第二位置时被触发，并通过所述驱动装置控制所述磁路组件向所述第一位置移动。5.根据权利要求4所述的阴极装置，其特征在于，所述第一限位装置和所述第二限位装置均为接近开关。6.根据权利要求1所述的阴极装置，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王正安，
申请(专利权)人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11