阴极电弧靶座制造技术

本实用新型专利技术涉及多弧离子镀膜设备技术领域，具体涉及了一种阴极电弧靶座，包括靶座上设有循环水冷腔室平台和靶材扣锁系统，靶座内设有由永磁体和若干个线圈组件的磁组件，线圈组件包括交替设置的导磁块和绝缘块，导磁块上缠绕线圈，其中，线圈的轴线穿过相邻的绝缘块，且线圈的轴线平行于循环水冷腔室平台。由于绝缘块处形成气隙，线圈和导磁块产生的磁场会在气隙处形成强漏磁，漏磁在平行于循环水冷腔室平台的方向的磁场强度分量高，而交替设置的导磁块和绝缘块有利于保证靶材溅射面各点的磁场大小的一致性和均匀性。

【技术实现步骤摘要】
阴极电弧靶座
本技术涉及多弧离子镀膜设备
，特别是涉及一种阴极电弧靶座。
技术介绍
阴极电弧镀膜是物理气相沉积(PVD)领域的重要方式，作为阴极的靶材附近引发了气体电弧放电，将靶材气化电离，然后在待镀工件直接沉积或反应沉积所需要的涂层。该技术已有近50年的发展历史，被广泛用于先进制造业中工模具的表面处理。目前的阴极电弧靶座用于产生磁场的线圈的轴线均垂直于靶材的端面，为获得更高的平行于靶材端面的磁场分量，这些装置需要高的励磁电流，线圈磁场的有效利用率低，也难以保证靶材端面表面各点磁场大小的一致性。由此可见，靶材使用过程中有效调制靶材端面磁场平行分量的一致性和均匀性仍是亟需解决的关键技术问题。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术的目的是提供一种阴极电弧镀膜装置，以保证靶材溅射面各点的磁场大小的一致性和均匀性。基于此，本技术提供了一种阴极电弧靶座，包括靶座上设有循环水冷腔室平台和靶材扣锁系统，靶座内设有包括永磁体和若干个线圈组件线圈组成的磁组件，所述线圈组件包括若干个并列且交替设置的导磁块和绝缘块，所述导磁块上缠绕线圈，所述线圈的轴线穿过相邻的所述绝缘块，且所述线圈的轴线平行于循环水冷腔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阴极电弧靶座，其特征在于，包括靶座上设有循环水冷腔室平台和靶材扣锁系统，靶座内设有由永磁体和若干个线圈组件组成的磁组件，所述线圈组件包括若干个并列且交替设置的导磁块和绝缘块，所述导磁块上缠绕线圈，所述线圈的轴线穿过相邻的所述绝缘块，且所述线圈的轴线平行于所述循环水冷腔室平台。

【技术特征摘要】
1.一种阴极电弧靶座，其特征在于，包括靶座上设有循环水冷腔室平台和靶材扣锁系统，靶座内设有由永磁体和若干个线圈组件组成的磁组件，所述线圈组件包括若干个并列且交替设置的导磁块和绝缘块，所述导磁块上缠绕线圈，所述线圈的轴线穿过相邻的所述绝缘块，且所述线圈的轴线平行于所述循环水冷腔室平台。2.根据权利要求1所述的阴极电弧靶座，其特征在于，所述线圈组件和循环水冷腔室平台之间设有平行于所述循环水冷腔室平台的极靴板，所述极靴板上设有多个通孔，所述通孔呈放射状对称设置。3.根据权利要求2所述的阴极电弧靶座，其特征在于，所述极靴板和循环水冷腔室平台之间设有平行于所述极靴板的导磁板。4.根据权利要求2所述的阴极电弧靶座，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭继华，苏东艺，
申请(专利权)人：华南理工大学，广州今泰科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44