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本实用新型涉及多弧离子镀膜设备技术领域，具体涉及了一种阴极电弧靶座，包括靶座上设有循环水冷腔室平台和靶材扣锁系统，靶座内设有由永磁体和若干个线圈组件的磁组件，线圈组件包括交替设置的导磁块和绝缘块，导磁块上缠绕线圈，其中，线圈的轴线穿过相邻的...
该专利属于华南理工大学;广州今泰科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华南理工大学;广州今泰科技股份有限公司授权不得商用。

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