扫描磁场的离子镀阴极制造技术
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种扫描离子镀磁控阴极，具体的说是扫描磁场的离子镀阴极。
技术介绍
传统的离子镀阴极，靶材安装在背板的靶座上，靶材设置在背板的平面上，背板和靶座形成用于冷去的冷却水通道，永磁铁笃定设置在靶材四周边缘的下方、靶材的内部，永磁铁固定设置在靶材轴心的下方。靶材的内部，磁力线分布固定。按照这种设计方式，靶材只有一个固定的刻蚀区域，随着刻蚀深度的增加，会造成靶面磁场变化，工艺的稳定性差。功率密度变化快，且由于刻蚀只发生在一个相对较小且固定的区域，靶材的消耗集中，且消耗的越来越快，造成靶材过早报废。另外一个缺点就是由于只刻蚀一个固定的区域，造成局部区域冷却水升温迅速，造成冷却水循环效果不佳，这样涂层工艺就必须中断，进行间歇性的工作，造成生产浪费、效率低。目前也有诸多技术通过对阴极背后磁场的设计，来提高靶材利用率和生产效率的。例如专利（申请号：201420376147.6），通过中心位置的第二磁场的转动、第一次磁铁位置不变的设计，提高靶材的利用率达到60%以上，同时，未出现针孔和麻点，产品的结合力超过70N。这样的刻蚀虽然可以达到70%的靶材使用率，但是靶材的中心位置和靠近靶材边缘的位置还是不能被刻蚀，也造成靶材的浪费。
技术实现思路
本技术旨在克服现有技术的缺陷，提供一种扫描磁场的离子镀阴极，可有效扩大靶材的刻蚀区域，提高靶材的利用率，并且刻蚀均匀，涂层质量好，大颗粒少。为了解决上述技术问题，本技术是这样实现的：一种扫描磁场的离子镀阴极，其特征在于：它包括靶座、磁座、固定磁体、内部磁体、气体驱动系统、阴极和冷却水；所述靶座内的底部上设有气体驱动系统，气体驱动系...
【技术保护点】
一种扫描磁场的离子镀阴极，其特征在于：它包括靶座、磁座、固定磁体、内部磁体、气体驱动系统、阴极和冷却水；所述靶座内的底部上设有气体驱动系统，气体驱动系统上设有磁座，内部磁体置于磁座的内部边缘，内部磁铁和磁座在气体驱动系统的作用下在气体驱动系统的内壁之间围绕靶座的纵向中心线做有规律的直线往返运动，固定磁体设于气体驱动系统和靶座之间并位于靶座顶部下方，阴极设于靶座上部，阴极底部和靶座顶部之间形成冷却水道。
【技术特征摘要】
1.一种扫描磁场的离子镀阴极，其特征在于：它包括靶座、磁座、固定磁体、内部磁体、气体驱动系统、阴极和冷却水；所述靶座内的底部上设有气体驱动系统，气体驱动系统上设有磁座，内部磁体置于磁座的内部边缘，内部磁铁和磁座在气体驱动系统的作用下在气体驱动系统的内壁之间围绕靶座的纵向中心线做有规律的直线往返运动，固定磁体设于气体驱动系统和靶座之间并位于靶座顶部下方，阴极设于...
【专利技术属性】
技术研发人员：单永贤，
申请(专利权)人：上海金科纳米涂层技术有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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