一种可承受高功率溅射的旋转靶材及其制备方法技术

本发明专利技术涉及溅射靶材技术领域，具体提供一种可承受高功率溅射的旋转靶材，包括背管以及固定套接在背管外壁的一节靶材，背管与靶材通过填充在二者间隙内的邦定材料和金属网片组成的三明治结构连接。该靶材制备过程主要包括四步：(1)清洗背管和靶材；(2)金属网片缠绕在背管上，靶材的内表面衬一层金属网片；(3)邦定材料涂刷在背管表面和靶材内孔表面，然后把靶材从一端套在背管上，固定；(4)套装好的靶材和背管固化，即得。本发明专利技术的靶材可承受高功率的溅射，满足目前大功率镀膜工艺的需求，极大地提高了镀膜的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种可承受高功率溅射的旋转靶材及其制备方法
本专利技术属于溅射靶材
，一种邦定磁控溅射旋转靶材及其制备方法，具体涉及一种可承受高功率溅射的旋转靶材及其制备方法。
技术介绍
1842年格波夫在实验室中发现了阴极溅射现象，由于人们对溅射机理缺乏深入了解和溅射薄膜技术发展缓慢，商业化的磁控溅射设备直到1970年才逐渐应用于实验室和小型生产。自20世纪80年代，以集成电路、信息存储、液晶显示器、激光存储器、电子控制器为主的子与信息产业开始进入高速发展时期，磁控溅射技术才从实验室应用真正进入工业化规模生产应用领域。近10年来，随着国际、国内市场对Low-E玻璃，太阳能电池，平板显示屏触摸屏，光通信和磁储存器件和镀膜刀具、齿轮及装饰品需求的急剧增长，磁控溅射技术更是取得了突飞猛进的发展，目前磁控溅射技术以及薄膜制备是全球新材料领域研发和关注的一大热点。国内溅射靶材产业规模也日益扩大，其增速高于全球增速，在全球市场中所占份额逐渐提升。溅射靶材通常有两类：平面靶材和旋转靶材。近年来，由于镀膜技术的高速发展，对靶材可承受的溅射功率，邦定技术和靶材利用率要求越来越高。由于平面靶的利用率只有20-3本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可承受高功率溅射的旋转靶材，其特征在于，所述靶材包括背管以及固定套接在背管外壁的一节靶材；所述背管与所述靶材通过填充在二者间隙内的邦定材料和金属网片组成的三明治结构连接。

【技术特征摘要】
1.一种可承受高功率溅射的旋转靶材，其特征在于，所述靶材包括背管以及固定套接在背管外壁的一节靶材；所述背管与所述靶材通过填充在二者间隙内的邦定材料和金属网片组成的三明治结构连接。2.根据权利要求1所述的可承受高功率溅射的旋转靶材，其特征在于，所述邦定材料为石墨烯复合邦定材料。3.根据权利要求2所述的可承受高功率溅射的旋转靶材，其特征在于，所述石墨烯复合邦定材料由高分子树脂和石墨烯组成。4.根据权利要求1所述的可承受高功率溅射的旋转靶材，其特征在于，所述金属网片选自铜、铁、锰、锌、铝、金、银网片中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的可承受高功率溅射的旋转靶材，其特征在于，所述背管材料选自304不锈钢、Ti、Ta、Cu、Cr中的一种或多种。6.根据权利要求1所述的可承受高功率溅射的旋转靶材，其特征在于，所述靶材选自陶瓷、合金、高纯金属中的一种或多种。7.根据权利要求6所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔伟华，
申请(专利权)人：江苏迪丞光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32