具有透明抗菌多层膜的镀膜器件及抗菌多层膜的形成方法技术

本发明专利技术提供一种具有透明抗菌多层膜的镀膜器件及抗菌多层膜的形成方法，本发明专利技术的方法，包括如下步骤：1)对待镀件的表面进行除油、除蜡和除尘；2)对待镀件进行等离子处理；3)在经步骤2)处理的待镀件的表面镀第一二氧化钛膜；4)在所述第一二氧化钛膜的表面镀周期膜，所述周期膜以相互层叠的二氧化钛膜和氧化锌膜为一个周期，周期数为一个以上；5)在所述周期膜的表面镀第二二氧化钛膜。本发明专利技术的透明抗菌多层膜不仅具有良好的抗菌性能，而且具有很好的光亮度和透光性，同时抗菌膜层具有优异的耐磨性和耐腐蚀性能。

【技术实现步骤摘要】
具有透明抗菌多层膜的镀膜器件及抗菌多层膜的形成方法
本专利技术涉及卫浴产品表面处理
，特别涉及一种透明抗菌多层膜的形成方法及一种具有透明抗菌多层膜的镀膜器件。
技术介绍
卫浴产品如水龙头和花洒等具有应用范围广、使用频率高的特点，已经成为日常生活中不可或缺的一部分。随着人们对生活品质、日常生活卫生及健康的高度关注及重视，引入具有抗菌效果但同时又不影响现有产品外观的功能膜层就显得非常的有必要。然而，现有技术中，在卫浴产品表面形成抗菌膜时，往往难以平衡抗菌性、透明度、及良好的耐磨性和耐腐蚀性等方面的性能。例如有些抗菌膜虽然能达到抗菌效果，但是却对卫浴产品本身的外观造成干扰和影响，从而影响了产品的原有美观设计，外观单一，对产品外观造成局限性；而有的抗菌膜虽然外观透明，但属于光触媒，需配合紫外光来发挥抗菌效果；再如有些抗菌膜使用寿命短，抗菌效果不持久，或容易磨损和腐蚀，影响产品使用性能和美观。
技术实现思路
本专利技术为弥补现有技术中存在的不足，提供一种在透明抗菌多层膜的形成方法及提供一种具有透明抗菌多层膜的镀膜器件，本专利技术所形成的抗菌多层膜不仅具有良好的抗菌性能，而且透明光亮，对待镀件的颜色和外观无影响，同时抗菌膜层还具有优异的耐磨性和耐腐蚀性能。本专利技术为达到其目的，采用的技术方案如下：本专利技术第一方面提供一种在形成透明抗菌多层膜的方法，包括如下步骤：1)清洗待镀件，对待镀件的表面进行除油除蜡除尘；在一些具体实施方式中，可以采用本领域常规的化学湿法清洗来除油除蜡，当然也不局限于此，只要能达到除油除蜡除尘目的即可；2)对待镀件进行等离子处理；3)在经步骤2)处理的待镀件的表面镀第一二氧化钛膜，优选第一二氧化钛膜的厚度为15-20nm；4)在所述第一二氧化钛膜的表面镀周期膜，所述周期膜以相互层叠的二氧化钛膜和氧化锌膜为一个周期，周期数为一个以上，优选周期数为2-4个周期，优选周期膜的厚度为50-70nm；优选所述周期膜中与所述第一二氧化钛膜相接触的膜层为二氧化钛膜；5)在所述周期膜的表面镀第二二氧化钛膜，优选所述第二二氧化钛膜的厚度为18-30nm。采用本专利技术的方法，所形成的透明抗菌多层膜具有高透明性，不会对产品原有外观产生任何影响，反而还能提高产品的光亮度，透光性，另外所形成的透明抗菌多层膜具有硬度高、耐腐蚀性能优越、耐磨性能突出的特点，膜层寿命大大延长。本专利技术的方法，优选的，步骤2)进行所述等离子处理的工艺条件包括：真空度为1.5-5.0×10-5Torr，通入500-1000sccm氩气，离子源电压控制为750-800V，处理时间为8-12min；采用该优选的工艺条件进行等离子处理，达到较佳的清洁和活化表观结构的目的。本专利技术的方法，优选的，步骤3)中采用中频磁控溅射镀所述第一二氧化钛膜，工艺条件包括：中频电源功率为3-8KW，负偏压为80-200V，占空比为40％-80％，Ar/O2总流量为150-250sccm，镀膜时间4-8min，靶材为靶材为钛靶，优选为纯度＞99.95％的旋转钛靶。采用该优选工艺条件镀出来的二氧化钛膜，膜层透明度高，中频磁控溅射出来的粒子能量和速度适中，气体能够和金属粒子充分反应，形成透明度高的氧化层。本专利技术的方法，优选的，步骤4)采用中频磁控溅射形成所述周期膜，工艺条件包括：中频电源功率为3-8KW，负偏压为80-200V，占空比为40％-80％，Ar/O2总流量(即氩气和氧气的总流量)为150-250sccm，镀膜时间为15-30min，；靶材为钛钯和氧化锌，优选靶材为纯度＞99.95％的旋转钛靶和氧化锌。采用该优选工艺条件镀出来的周期膜，膜层透明度高，中频磁控溅射出来的粒子能量和速度适中，气体能够和金属粒子充分反应，形成透明度高的氧化层。本专利技术的方法，优选的，步骤5)采用中频磁控溅射镀所述第二二氧化钛膜，工艺条件包括：中频电源功率为3-8KW，负偏压为80-200V，占空比为40％-80％，Ar/O2总流量(即氩气和氧气的总流量)为150-250sccm，镀膜时间为6-15min；靶材为钛钯，优选靶材为纯度＞99.95％的旋转钛靶。采用该优选工艺条件镀出来的二氧化钛膜，膜层透明度高，中频磁控溅射出来的粒子能量和速度适中，气体能够和金属粒子充分反应，形成透明度高的氧化层。在一些具体实施方式中，所述待镀件的表面为塑料或金属材质，优选为电镀了铬或PVD装饰膜的塑料或金属材质。待镀件具体可以为待镀透明抗菌多层膜的卫浴产品器件。本专利技术第二方面提供一种具有透明抗菌多层膜的镀膜器件，包括镀膜器件本体及形成于镀膜器件本体表面的透明抗菌多层膜；所述透明抗菌多层膜包括形成于镀膜器件本体表面的第一二氧化钛膜、形成于所述第一二氧化钛膜表面的周期膜和形成于所述周期膜表面的第二二氧化钛膜，所述周期膜以相互层叠的二氧化钛膜和氧化锌膜为一个周期，周期数为一个以上；优选所述周期膜中与所述第一二氧化钛膜相接触的膜层为二氧化钛膜。本专利技术所述的具有透明抗菌多层膜的镀膜器件，优选的，所述第一二氧化钛膜厚度为15-20nm；所述第二二氧化钛膜的厚度为18-30nm，所述周期膜的厚度为50-70nm。采用优选的膜层厚度组合，所形成的抗菌多层膜兼具较佳的透明度和抗菌效果，且具有优异的抗腐蚀性能；而若膜层过厚不利于获得较佳透明性的膜层，可能转变为彩色膜；而若膜层太薄，则不利于兼顾较佳的耐腐蚀性和抗菌效果。本专利技术所述的具有透明抗菌多层膜的镀膜器件，优选的，所述周期膜的周期数为2-4个周期。采用优选的周期数，所形成的抗菌多层膜外观透明性较佳，且抗菌效果良好。过多的周期数不利于获得较佳的膜层透明性，可能导致膜层偏黄或变成彩色膜；周期数过少则不利于获得较佳的抗菌效果。本专利技术所述的具有透明抗菌多层膜的镀膜器件，一些具体实施方式中，所述镀膜器件本体的表面为塑料或金属材质，优选为电镀了铬或PVD装饰膜的塑料或金属材质。所述镀膜器件具体可以为卫浴产品，卫浴产品并无特别的类型限定，具体如水龙头和花洒等等。本专利技术所述的具有透明抗菌多层膜的镀膜器件，优选的，所述透明抗菌多层膜采用上文所述的方法形成。本专利技术提供的技术方案具有如下有益效果：本专利技术的透明抗菌多层膜，具有高透明性，基本不会改变产品原有表面的颜色。膜层中主要成分为二氧化钛和氧化锌，相较于目前市面上的银离子抗菌更节省成本，且采用本专利技术的膜层结构，无论是否有光照都可以达到抗菌效果。本专利技术的透明抗菌多层膜，具有二氧化钛膜-二氧化钛/氧化锌周期膜-二氧化钛膜的膜层结构，在膜层较薄的情形下，依然具有高硬度、高耐腐、高耐磨和高透明的特点，不影响产品外观；同时这种膜层结构具有较佳的物理性能，能延缓锌离子析出，提升膜层的整体抗菌效果和延长使用寿命。本专利技术提供的在透明抗菌多层膜的形成方法，工艺环保高效，无需喷涂，无后续水处理等难题，特别适用于在卫浴产品表面形成透明抗菌多层膜。本专利技术的透明抗菌多层膜，采用二氧化钛膜-二氧化钛/氧化锌周期膜-二氧化钛膜的膜层结构，可以有效减少光的反射，增加光的透射，有效的降低了产品(如卫浴产品)原有的外观色差。附图说明图1是一种实施方式中，与镀膜器件本体相结合的透明多层抗菌膜的膜层结构示意图。具体实施方式为了更好的理解本专利技术的技术方案，下面结合实施例进一步阐述本专利技术的内容，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种形成透明抗菌多层膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：1)对待镀件的表面进行除油、除蜡和除尘；2)对待镀件进行等离子处理；3)在经步骤2)处理的待镀件的表面镀第一二氧化钛膜，优选第一二氧化钛膜的厚度为15‑20nm；4)在所述第一二氧化钛膜的表面镀周期膜，所述周期膜以相互层叠的二氧化钛膜和氧化锌膜为一个周期，周期数为一个以上，优选周期数为2‑4个周期，优选周期膜的厚度为50‑70nm；优选所述周期膜中与所述第一二氧化钛膜相接触的膜层为二氧化钛膜；5)在所述周期膜的表面镀第二二氧化钛膜，优选所述第二二氧化钛膜的厚度为18‑30nm。

【技术特征摘要】
1.一种形成透明抗菌多层膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：1)对待镀件的表面进行除油、除蜡和除尘；2)对待镀件进行等离子处理；3)在经步骤2)处理的待镀件的表面镀第一二氧化钛膜，优选第一二氧化钛膜的厚度为15-20nm；4)在所述第一二氧化钛膜的表面镀周期膜，所述周期膜以相互层叠的二氧化钛膜和氧化锌膜为一个周期，周期数为一个以上，优选周期数为2-4个周期，优选周期膜的厚度为50-70nm；优选所述周期膜中与所述第一二氧化钛膜相接触的膜层为二氧化钛膜；5)在所述周期膜的表面镀第二二氧化钛膜，优选所述第二二氧化钛膜的厚度为18-30nm。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤2)进行所述等离子处理的工艺条件包括：真空度为1.5-5.0×10-5Torr，通入500-1000sccm氩气，离子源电压控制为750-800V，处理时间为8-12min。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，步骤3)中采用中频磁控溅射镀所述第一二氧化钛膜，工艺条件包括：中频电源功率为3-8KW，负偏压为80-200V，占空比为40％-80％，Ar/O2总流量为150-250sccm，镀膜时间为4-8min；靶材为钛靶，优选所述钛靶为纯度＞99.95％的旋转钛靶。4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，步骤4)采用中频磁控溅射形成所述周期膜，工艺条件包括：中频电源功率为3-8KW，负偏压为80-200V，占空比为40％-80％，Ar/O2总流量为150-250sccm，镀膜时间为15-30min；靶材为钛钯和氧化锌，优选靶材为纯度＞99.95％的旋转钛靶和氧化锌。5.根据权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，步骤5)采用中...

【专利技术属性】
技术研发人员：游顺青，廖新，程朝阳，
申请(专利权)人：南昌科勒有限公司，
类型：发明
国别省市：江西,36