【技术实现步骤摘要】
一种离子源弧光室发射面板的固定结构
本技术涉及半导体装备技术，具体说是一种离子源。
技术介绍
离子源是通过向弧光室主阴极加压，将充入弧光室的惰性气体经辉光放电电离成等离子体，经离子光学系统引出带正电的离子束，经过下游端的中和阴极向离子束发射与束电流等量的电子流进行电荷中和，生成高能高速的中性离子束。弧光室的上方为发射面板，发射面板的中心设置条形槽，气体自弧光室的侧板上的气体入口进入后，被灯丝(filament)电离后形成等离子体，最后经上方的发射面板输出；因此，发射面板的位置非常重要，关系到后续的离子流的引出。现有技术仅仅是采用固定杆及拉簧的方式，随着源体腔的温度升高，固定杆的轴向尺寸发生变化，使得发射面板的稳定性不好，影响了后续的离子光学系统引出离子流时的精度。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术的目的是提供一种利用源体腔来对固定杆进行定位的结构，具体技术方案如下：一种离子源弧光室发射面板的固定结构，圆形基座上方设置源体腔，源体腔内设置加热坩埚，源体腔的上方设置弧光室，弧光室的最上方为发射面板；所述源体腔的上方设置定位凸台，所述定位凸台上设置通孔，固定杆穿过...
【技术保护点】
1.一种离子源弧光室发射面板的固定结构，其特征在于：圆形基座上方设置源体腔，源体腔内设置加热坩埚，源体腔的上方设置弧光室，弧光室的最上方为发射面板；所述源体腔的上方设置定位凸台，所述定位凸台上设置通孔，固定杆穿过所述通孔，固定杆的上方挂钩压在发射面板的上方，固定杆的下方与拉簧连接，拉簧固定在圆形基座上；所述固定杆为多个，沿发射面板的纵向轴线对称设置。
【技术特征摘要】
1.一种离子源弧光室发射面板的固定结构，其特征在于：圆形基座上方设置源体腔，源体腔内设置加热坩埚，源体腔的上方设置弧光室，弧光室的最上方为发射面板；所述源体腔的上方设置定位凸台，所述定位凸台上设置通孔，固定杆穿过所述通孔，固定杆的上方挂...
【专利技术属性】
技术研发人员：王玉泉，
申请(专利权)人：丹东英普朗特科技有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁,21
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