A collision ionization source is disclosed in this paper. An exemplary source includes an ionization region set up to receive a gas and charged particle beam, in which the charged ion beam ionized at least part of the gas; and the supply pipe was provided to supply the gas to the ionization region, in which the supply pipe had an inhomogeneous height decreasing from the input hole to the output hole, and the output hole was near the near ionization zone. Domain settings.
【技术实现步骤摘要】
碰撞电离离子源
本专利技术一般涉及离子源,更特别地涉及一种碰撞电离离子源。
技术介绍
带电粒子显微镜是众所周知且日益重要,其特别以电子显微镜的形式用于使微观物体成像的技术。历史上,电子显微镜的基本属性已经演变成众多已知的设备种类,例如透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、扫描透射电子显微镜(STEM),并且还演变成各种子类,例如所谓的“双光束”工具(例如,FIB-SEM双束显微镜),其另外使用“加工”聚焦离子束(FIB),允许诸如离子束铣或离子束诱导沉积(IBID)的辅助性活动。在SEM中,通过扫描电子束照射样品以二次电子、背散射电子、X射线和阴极发光(红外、可视和/或紫外光子)的形式沉淀出样品散发的“辅助”辐射,然后检测该散发辐射,并用于图像积累目的。在TEM中,用于照射样品的电子束被选用为具有足够高的能量以穿透样品(为此,该样品一般比SEM样品更薄);然后从样品散发的透射电子可以用于产生图像。当该TEM在扫描模式下操作时(从而变成STEM),所述图像将在照射电子束的扫描运动期间累积。作为使用电子为照射光束的替代方案,带电粒子显微镜还可以使用其他带 ...
【技术保护点】
1.一种碰撞电离离子源,包括:一对堆叠的板,其中夹有介入性的间隙;设置在所述板的第一个板中的输入区,该输入区使带电粒子的输入光束进入所述间隙;位于所述输入区的对面并设置在所述板的第二个板中的输出区,该输出区允许从所述间隙发射离子流;位于所述输入区和输出区之间的气体空间,其中能够用所述输入光束对气体电离从而生成所述粒子;以及位于所述间隙中的供应管道,用于将所述气流供应到所述气体空间,并且该供应管道包括:通向所述气体空间的进气孔;和能够连接至气体供应器的出气孔,所述管道包括至少一个位于所述进气孔和所述出气孔之间的过渡区,其中所述管道垂直于所述板测量的内部高度从第一高度值减少到第二高度值。
【技术特征摘要】
2017.01.12 US 15/405,1391.一种碰撞电离离子源,包括:一对堆叠的板,其中夹有介入性的间隙;设置在所述板的第一个板中的输入区,该输入区使带电粒子的输入光束进入所述间隙;位于所述输入区的对面并设置在所述板的第二个板中的输出区,该输出区允许从所述间隙发射离子流;位于所述输入区和输出区之间的气体空间,其中能够用所述输入光束对气体电离从而生成所述粒子;以及位于所述间隙中的供应管道,用于将所述气流供应到所述气体空间,并且该供应管道包括:通向所述气体空间的进气孔;和能够连接至气体供应器的出气孔,所述管道包括至少一个位于所述进气孔和所述出气孔之间的过渡区,其中所述管道垂直于所述板测量的内部高度从第一高度值减少到第二高度值。2.根据权利要求1所述的离子源,其中通过一形状组中选择的形状来实现所述过渡区中所述高度降低,所述形状组包括:单个阶梯状;多个阶梯状;逐渐变化的过渡;或上述形状的任意组合。3.根据权利要求1所述的离子源,其中所述第一高度值与所述第二高度值的高度比Q大于25,优选地大于50,更优选地大于75。4.根据权利要求1所述的离子源,其中多个供应管道通向所述气体空间。5.根据权利要求1所述的离子源,其中使用芯片焊接技术将所述板进行堆叠、对准并彼此邻接。6.一种带电粒子聚焦装置,包括:粒子源,用于生成带电粒子束;样品夹,用于将样品保持在照射位置;以及光学柱,用于引导所述粒子束从而照射所述样品,其特征在于,所述粒子源包括根据权利要求1至5任一项所述的离子源。7.根据权利要求6所述的带电粒子聚焦装置,其中所述装置从以下组中任意选择:带电粒子显微镜;光刻成像器。8.根据权利要求4或5所述的离子源,其中所述第一高度值与所述第二高度值的高度比Q大于25,优选地大于50,更优选地大于75。9.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员:G·A·施温德,A·P·J·M·波特曼,S·凯洛格,L·V·科文,L·米尔,
申请(专利权)人:FEI公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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