一种窄束型线性离子源制造技术

技术编号:17976714 阅读:70 留言:0更新日期:2018-05-16 16:39
本实用新型专利技术公开了一种窄束型线性离子源,包括阴极外环盖板、阴极内环盖板、阴极壳体、环形阳极、绝缘支柱、条形磁钢、气体电离室和环形离子束引出口;本实用新型专利技术整个环形区域都可以实现电离,离子线束较为集中,效率高;进气均匀,合理的气流布置和均布的气孔;磁场排布使用条形磁铁均匀布置,磁场均匀性好;电、磁场处于正交位置;气体电离室的高度较小,可防止气体电离室内部气体电离几率;充足的水冷条件,对阴极、阳极、磁场同时水冷,可防止温度升高导致退磁的功能;结构简易,拆装方便,易于维护。

【技术实现步骤摘要】
一种窄束型线性离子源
本技术涉及一种使用离子束清洗的离子源
,特别涉及一种窄束型线性离子源。
技术介绍
可以进行离子辅助沉积,以及可能进行离子溅射等手段。而离子清洗、离子辅助以及离子溅射都可以使用离子源来产生离子束进行使用。离子束的束流大小、束流角度等都对离子束的效率和质量产生直接的影响。离子源的功能是完成某种气体介质的有效电离,趋向于形成有规则形状的等离子体。而常见的霍尔离子源、霍夫曼离子源基本上都是外形圆筒状,产生出来的离子束也是呈现圆形。在镀膜生产过程中有时候需要较大面积的离子束,而呈现大面积离子束又会有较多的不确定性,例如离子束的中心与边缘的束流密度是否一致等因素。我们一般采用线性离子源来解决这一问题;线性离子源一般采用类似运动场跑道形状的开口来产生离子线束,镀膜生产时基本使用跑道的直线区域。通常的线性离子源的离子束能量范围很宽,而实际生产过程中有些材质的基片只需要较窄范围的离子束能量带来的离子清洗作用;例如:目前市场上消费电子类手机铝合金材质的外壳,因其表面在镀膜前一般采用阳极氧化处理可以得到较多外观颜色,但由于其外观性能要求,还需要进行真空镀膜,所以在镀膜时仍然需要本文档来自技高网...
一种窄束型线性离子源

【技术保护点】
一种窄束型线性离子源,其特征在于,包括阴极外环盖板(1)、阴极内环盖板(2)、阴极壳体(3)、环形阳极(4)、绝缘支柱(5)、条形磁钢(6)、气体电离室(7)和环形离子束引出口(8);所述阴极外环盖板(1)和阴极内环盖板(2)在阴极壳体(3)的顶部开口处,环形离子束引出口(8)在阴极外环盖板(1)和阴极内环盖板(2)之间,环形阳极(4)固定在绝缘支柱(5)上,环形阳极(4)和绝缘支柱(5)在阴极壳体(3)内部,绝缘支柱(5)的底部在阴极壳体(3)上,气体电离室(7)在环形阳极(4)上表面和环形离子束引出口(8)之间,条形磁钢(6)在环形阳极(4)的环形开口内;条形磁钢(6)和环形阳极(4)、阴...

【技术特征摘要】
1.一种窄束型线性离子源,其特征在于,包括阴极外环盖板(1)、阴极内环盖板(2)、阴极壳体(3)、环形阳极(4)、绝缘支柱(5)、条形磁钢(6)、气体电离室(7)和环形离子束引出口(8);所述阴极外环盖板(1)和阴极内环盖板(2)在阴极壳体(3)的顶部开口处,环形离子束引出口(8)在阴极外环盖板(1)和阴极内环盖板(2)之间,环形阳极(4)固定在绝缘支柱(5)上,环形阳极(4)和绝缘支柱(5)在阴极壳体(3)内部,绝缘支柱(5)的底部在阴极壳体(3)上,气体电离室(7)在环形阳极(4)上表面和环形离子束引出口(8)之间,条形磁钢(6)在环形阳极(4)的环形开口内;条形磁钢(6)和环形阳极(4)、阴极外环盖板(1)、阴极内环盖板(2)构成了环形放电槽,阴极外环盖板(1)、阴极内环盖板(2)和阴极壳体(3)构成了整个线性离子源的外壳;所述阴极壳体(3)、环形阳极(4)、阴极内环盖板(2)上分别设有冷水道(9),阴极外环盖板(1)与阴极壳体(3)相连;所述在环形阳极(4)和条形磁钢(6)之间设有通气管道(10),通气管道(10)延伸到阴极壳体(3)的底部;所述阴极壳体(3)的底部设有与通气管道(10)相连接的气体缓冲结构(30)。2.根据权利要求1所述一种窄束型线性离子源,其特征在于,所述环形离子束引出口(8)上设有倒梯形和长方形,倒梯形的短底边为W,长方形的宽也为W,长方形的长为L;所述倒梯形的两个斜边形成角度a;长方形的长L在一定数值范围内增加,可以约束气流方向至单向运动;倒梯形口的角度a在一定数值范围内减小,可以约束流体或等离子体的运动方向,且约束后运动方向的角度较小,能够达到约束离子束流的作用。3.根据权利要求1所述一种窄束型线性离子源,...

【专利技术属性】
技术研发人员:李齐雍宋光耀许晓雷叶平
申请(专利权)人:深圳市鼎力真空科技有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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