【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，该镀膜设备包括真空镀膜室、圆柱磁控靶源、阳极层线性离子源、加热装置、转架和网状料筐；转架设计在真空镀膜室内，通过支撑轴固定在框架上，框架固定在在卧式真空壳体上，转架的轴线与卧式真空壳体的轴线平行，网状料筐两端有转轴安装在转架上，转轴的轴线与转架的轴线平行，转架围绕真空壳体的轴线做太阳公转，网状料筐做行星转动即随转架一起公转加自转。真空镀膜室转架内安装有一个以上的圆柱磁控靶，所述的圆柱磁控靶分别安装在转架的内部和外部；采用本专利技术的磁控溅射镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序，不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力，同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。【专利说明】
本专利技术属于永磁器件领域，特别是涉及一种钕铁硼稀土永磁器件的真空镀膜设备及制造方法。
技术介绍
钕铁硼稀土永磁材料，以其优良的磁性能得到越来越多的应用，被广泛用于医疗的核磁共振成像，计算机硬盘驱动器，音响、手机等；随着节能和低碳经济的要求，钕铁硼稀土永磁材料又开始在汽车零部件、家用电器、节能和控制电机、混合动力汽车，风力发电等领域应用。现有技术的稀土永磁器件的表面处理工艺主...
【技术保护点】
一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备，其特征在于：该镀膜设备包括真空镀膜室、圆柱阴极磁控靶、阳极层线性离子源、转架和料筐；所述的真空镀膜室由卧式真空壳体、前门和后盖组成，前门和真空壳体通过橡胶密封圈密封，后盖或者焊接在真空壳体上或者通过连接件连接，转架的传动装置安装在后盖上，真空室外的电机传动轴通过动密封装置传送到真空镀膜室内；转架设计在真空镀膜室内，支撑在框架上，框架安装在真空壳体上；转架的轴线与真空壳体的轴线平行，料筐两端有转轴安装在转架上，转轴的轴线与转架的轴线平行，转架围绕真空壳体的轴线公转，料筐即随转架一起公转又自转；所述的圆柱磁控靶安装在真空镀膜室内的后盖上，其轴线与转架轴线平行。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈晓东，孙宝玉，
申请(专利权)人：沈阳中北真空设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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