一种钕铁硼稀土永磁器件的复合镀膜设备及制造方法技术

本发明专利技术公开了一种钕铁硼稀土永磁器件的复合镀膜设备及制造方法，镀膜设备包括真空室、圆柱旋转阴极磁控靶、平面阴极磁控靶、圆柱或矩形阴极多弧离子靶、阳极层线性离子源、转架和料筐。工作时转架在真空室内公转，网状料筐两端有转轴安装在转架上即随着转架公转又自转。圆柱旋转磁控靶安装在真空室内转架内部，平面磁控靶、多弧离子靶、阳极层线性离子源和加热装置安装在真空室内转架的周围，复合镀膜共分3层，第一层为磁控溅射镀层，镀层厚度为：0.1-5μm，第二层为磁控溅射和多弧的混合镀层，镀层厚度为：1-15μm，第三层为磁控溅射镀层，镀层厚度为：0.1-5μm。采用复合镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序，不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力，同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，镀膜设备包括真空室、圆柱旋转阴极磁控靶、平面阴极磁控靶、圆柱或矩形阴极多弧离子靶、阳极层线性离子源、转架和料筐。工作时转架在真空室内公转，网状料筐两端有转轴安装在转架上即随着转架公转又自转。圆柱旋转磁控靶安装在真空室内转架内部，平面磁控靶、多弧离子靶、阳极层线性离子源和加热装置安装在真空室内转架的周围，复合镀膜共分3层，第一层为磁控溅射镀层，镀层厚度为：0.1-5μm，第二层为磁控溅射和多弧的混合镀层，镀层厚度为：1-15μm，第三层为磁控溅射镀层，镀层厚度为：0.1-5μm。采用复合镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序，不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力，同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。【专利说明】
本专利技术属于永磁器件领域，特别是涉及一种钕铁硼稀土永磁器件的真空镀膜设备及制造方法。
技术介绍
钕铁硼稀土永磁材料，以其优良的磁性能得到越来越多的应用，被广泛用于医疗的核磁共振成像，计算机硬盘驱动器，音响、手机等；随着节能和低碳经济的要求，钕铁硼稀土永磁材料又开始在汽车零部件、家用电器、节能和控制电机、混合动力汽车，风力发电等领域应用。现有技术的稀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种钕铁硼稀土永磁器件的复合镀膜设备 ，其特征在于：所述的复合镀膜设备包括真空镀膜室、圆柱阴极磁控靶、平面阴极磁控靶、阴极多弧离子靶、阳极层线性离子源、转架和料筐；所述的真空镀膜室由真空壳体、前门和后盖组成，前门和真空壳体通过橡胶密封圈密封，后盖或者焊接在真空壳体上或者通过连接件连接；转架设计在真空镀膜室内，通过转轴支撑在框架上，框架固定在真空壳体上；转架的轴线与真空壳体的轴线平行，网状料筐两端有转轴安装在转架上，转轴的轴线与转架的轴线平行，转架围绕真空壳体的轴线公转，网状料筐即随转架一起公转又自转；所述的圆柱阴极磁控靶安装在真空镀膜室内的后盖上，电源、冷却水和传动装置由外部引入，圆柱阴极磁控...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈晓东，孙宝玉，
申请(专利权)人：沈阳中北真空设备有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21