【技术实现步骤摘要】
本技术涉及磁控溅射镀膜领域，具体涉及一种自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备。
技术介绍
磁控溅射镀膜技术具有溅射速率高、沉积速率高、沉积温度低、薄膜质量好等优点，是目前镀膜工业化生产中最主要的技术之一。电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片，氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子或分子，呈中性的靶材原子或分子沉积在基片上成膜。磁控溅射镀膜设备中的靶材通常由高纯的贵金属或者合金制成，价格昂贵，是否能最大限度的使用靶材，成为影响磁控溅射镀膜技术成本和利润的重要因素。靶材可分为平面靶材和柱形靶材，其中，柱形靶材的结构紧凑，利用率高，但是溅射时，整个靶材表面上形成多个辉光环，不能形成连续的条形辉光，在镀制大面积膜层时，均匀性差，很难满足生产要求。而平面靶材的结构简单，镀膜均匀性和重复性好，因此实际生产中以平面靶材为主。如图1a和1b所示，由于磁控溅射镀膜设备中永磁铁的位置固定，...
【技术保护点】
一种自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备，包括腔室，平行且依次设置在腔室内的基片、靶材和磁轭，以及靠近靶材且直接设置在磁轭上的若干永磁铁，相邻永磁铁的磁极方向相反，永磁铁的磁极方向垂直于靶材；其特征在于，相邻所述永磁铁之间还设置有通电线圈，以及固定设置在所述通电线圈和所述磁轭之间的霍尔传感器，所述通电线圈的长度方向与所述永磁铁磁极方向垂直；所述霍尔传感器外接磁场强度侦测系统，用于磁场强度的实时监测；所述通电线圈外接电路控制模块，所述电路控制模块与所述磁场强度侦测系统电连接，根据所述磁场强度侦测系统的数据调整流经通电线圈的电流，以改变磁场分布。
【技术特征摘要】
1.一种自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备，包括腔室，平行且依次设置
在腔室内的基片、靶材和磁轭，以及靠近靶材且直接设置在磁轭上的若干永
磁铁，相邻永磁铁的磁极方向相反，永磁铁的磁极方向垂直于靶材；其特征
在于，
相邻所述永磁铁之间还设置有通电线圈，以及固定设置在所述通电线圈和
所述磁轭之间的霍尔传感器，所述通电线圈的长度方向与所述永磁铁磁极方
向垂直；
所述霍尔传感器外接磁场强度侦测系统，用于磁场强度的实时监测；
所述通电线圈外接电路控制模块，所述电路控制模块与所述磁场强度侦测
系统电连接，根据所述磁场强度侦测系统的数据调整流经通电线圈的电流，
以改变磁场分布。
2.根据权利要求1所述的自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备，其特征在
于，所述通电线圈靠近所述靶材设置。
3.根据权利要求1所述的自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备，其特征在
于，所述磁场强度侦测系统包括磁场强度侦测模块和数...
【专利技术属性】
技术研发人员：马栋梁，崔德国，
申请(专利权)人：苏州矩阵光电有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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